-
发布时间2023.08.01
上海干膜光刻胶其他助剂
光刻胶属于半导体八大重要材料之一，根据全球半导体行业协会（SEMI）近期数据，光刻胶在半导体晶圆制造材料价值占比5%，光刻胶辅助材料占比7%，二者合计占比12%，光刻胶及辅助材料是继硅片、电子特气和光掩模之后的第四大半导体材料。光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，目前被用于光电信息产业的微细图形线路加工制作环节。光刻胶由增感剂（光引发剂）、感光树脂（聚合剂）、溶剂与助剂构成。光刻胶行业日系企业实力雄厚，国内厂商有望复刻成功经验。上海干膜光刻胶其他助剂伴随全球半导体产业东移，加上我国持续增长的下游需求和政策支持力度。同时，...
[查看详情]
热门标签