2011年,Whittaker课题组又使用聚砜高分子作为主体材料,制备了链断裂型非化学放大光刻胶。聚砜与聚碳酸酯类似,主链比PMMA更容易断裂,因此该光刻胶的灵敏度更高。但较高的反应活性也降低了其稳定性,因此Whittaker课题组又利用原子转移自由基聚合法(ARTP)制备了一种PMMA-聚砜复合高分子,主链为聚砜,支链为PMMA,呈梳形... 【查看详情】
EUV光刻胶的基本原理与所有使用其他波长光曝光的光刻胶是相同的,都是在光照后发生光化学反应及热化学反应,主体材料结构改变导致光刻胶溶解度转变,从而可以被部分显影。但与其他波长曝光的光刻工艺相比,EUV光刻也有着诸多的不同。从化学反应机理来看,EUV光刻与前代光刻差异是,引发反应的,不仅有光子,还有由13.5nm软X射线激发出的二次电子。E... 【查看详情】
在有机合成反应中,三氟乙酸可以作为一些有机反应的催化剂,有人在研究环己酮肟贝克曼重排时在极性非质子溶剂中使用三氟乙酸作为催化剂,提出了新的催化方法,与传统的催化剂发烟硫酸相比,反应条件温和、三氟乙酸再生性好,能够连续催化生产工业上重要的化工产品己内酰胺,解决了原来工艺中发烟硫酸消耗大,催化剂再生性差,连续生产能力差的问题。在某些杂环的合成... 【查看详情】
非常常见的单分子树脂化合物的分子拓扑结构有枝状(或星形)、环状(包括梯形)、螺环状以及四面体结构等等。其主要结构通常为具有非对称、非平面的组分。对于化学放大光刻胶,芳香环上会连有酸敏离去基团保护的酸性官能团。非对称、非平面结构可以防止体系因π-π堆积而结晶,芳香环的刚性可以确保光刻胶具有较好的热稳定性、玻璃化转变温度和抗刻蚀性,酸敏可离去... 【查看详情】
无论是高分子型光刻胶,还是单分子树脂型光刻胶,都难以解决EUV光吸收和抗刻蚀性两大难题。光刻胶对EUV吸收能力的要求曾随着EUV光刻技术的进展而发生改变,而由于EUV光的吸收只与原子有关,因而无论是要透过性更好,还是要吸收更强,只通过纯有机物的分子设计是不够的。若想降低吸收,则需引入低吸收原子;若想提高吸收,则需引入高吸收原子。此外,由于... 【查看详情】
荷兰光刻高级研究中心的Brouwer课题组进一步优化了锡氧纳米簇的光刻工艺。他们发现后烘工艺可以大幅提高锡氧纳米簇光刻胶的灵敏度。尽管锡氧纳米簇的机理是非化学放大机理,但曝光后产生的活性物种仍然有可能在加热状态下继续进行反应。俄勒冈州立大学的Herman课题组制备了一种电中性的叔丁基锡Keggin结构(β-NaSn13)纳米簇。这一类的光... 【查看详情】
非常常见的单分子树脂化合物的分子拓扑结构有枝状(或星形)、环状(包括梯形)、螺环状以及四面体结构等等。其主要结构通常为具有非对称、非平面的组分。对于化学放大光刻胶,芳香环上会连有酸敏离去基团保护的酸性官能团。非对称、非平面结构可以防止体系因π-π堆积而结晶,芳香环的刚性可以确保光刻胶具有较好的热稳定性、玻璃化转变温度和抗刻蚀性,酸敏可离去... 【查看详情】