导体光刻胶的涂敷方法主要是旋转涂胶法，具体可以分为静态旋转法和动态喷洒法。静态旋转法：首先把光刻胶通过滴胶头堆积在硅片的中心，然后低速旋转使得光刻胶铺开，再以高速旋转甩掉多余的光刻胶。在高速旋转的过程中，光刻胶中的溶剂会挥发一部分。静态涂胶法中的光刻胶堆积量非常关键，量少了会导致光刻胶不能充分覆盖硅片，量大了会导致光刻胶在硅片边缘堆积甚至... 【查看详情】

1）增感剂（光引发剂）：是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。2）感光树脂（聚合剂）：用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。3）溶剂：是光刻胶中比较大成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。4）助剂：通常是专有化合物，主要用来改变... 【查看详情】

三氟乙酸主要用于新型农药、医药和染料等的生产，在材料、溶剂等领域也有较大的应用开发潜力。三氟乙酸主要用于合成多种含三氟甲基和杂环的除草剂，可以合成多种带有吡啶基、喹啉基的新型除草剂；作为极强的质子酸，它应用于芳香族化合物烷基化、酰基化、烯烃聚合等反应的催化剂；作为溶剂，三氟乙酸是氟化、硝化及卤代反应的优良溶剂，特别是其衍生物三氟乙酰基对羟... 【查看详情】

三氟乙酸是一种强酸，其酸性比硫酸和盐酸还要强。它可以与碱反应生成相应的三氟乙酸盐。由于其强酸性，三氟乙酸在有机合成中被广泛应用。它可以作为催化剂，促进酯化、酰化和酰胺化等反应的进行。此外，三氟乙酸还可以作为溶剂，在有机合成中起到溶解和催化的作用。其次，三氟乙酸具有良好的溶解性。它可以溶解许多有机物，如醇、醚、酮和酯等。这使得三氟乙酸成为一... 【查看详情】

除了作为反应的溶剂，三氟乙酸因为其较好的溶解性，在高效液相色谱中常常被用作流动相，用来分离一些难以区分的化合物，在化合物核磁共振检测中，也常常利用氘代三氟乙酸作为溶剂，用来区分一些诸如卟啉类的大环分子内的氢的变化。三氟乙酸除了作为反应的催化剂和溶剂之外，还是很好的保护剂和脱保护剂，作为保护剂常用来保护氨基和羟基，作为脱保护剂，经常用来脱B... 【查看详情】

三氟乙酸(TFA)在有机合成中是多功能的，他们比较有用的特性包括挥发性，在有机溶液中的溶解度和高酸度。然而，由于其“爬行”特性，去除TFA残留物可能是危险的。用TFA作为溶剂或酸催化剂进行许多化学转化，包括重排，官能团脱保护，还原，缩合，氢化芳基化，三氟甲基化和溶剂分解反应。但是，使TFA成为一种有用的工具的一些功能在去除不需要的残留物时... 【查看详情】

与水相比，TFA具有更低的表面张力。这是由TFA中的三个氟基团引起的，它们相互排斥。你几乎可以说TFA在某种程度上讨厌自己。如果没有稳定溶剂例如水的添加，“爬行”液体沿容器壁向上形成TFA蒸气，并导致了一个或多个物质的溶解，如果多个样品同时蒸发，例如使用微量滴定板时，这种情况会导致材料泄漏或交叉污染。因此，在从样品制备到放置以及蒸发后的所... 【查看详情】

三氟乙酸由于结构中含有三氟甲基而变得化学性质非常稳定，经常用来作为反映的溶剂。菲啶因为其在生物活性和材料领域的良好表现吸引了药物化学和材料科学界的关注，研究发现使用三氟乙酸作为合成6-取代菲啶的溶剂能够获得很好的收率和选择性，与其它菲啶合成的报道相比，用三氟乙酸作为催化剂不需要使用剧毒的原料、敏感的金属催化剂、复杂的无水无氧装置，对环境的... 【查看详情】

应用领域：用作医药、农药中间体、生化试剂、有机合成试剂。三氟乙酸用于合成含氟化合物、杀虫剂和染料。是酯化反应和缩合反应的催化剂；羟基和氨基的保护剂，用于糖和多肽的合成，还用作选矿剂，用于有机合成。主要用于新型农药、医药和染料等的生产，在材料、溶剂等领域也有较大的应用开发潜力。可部分溶解二硫化碳和六碳以上烷烃，是蛋白质和聚酯的优良溶剂。它也... 【查看详情】

三氟乙酸防护手段：身体防护：穿橡胶耐酸碱服。手防护：戴橡胶耐酸碱手套。其他防护：工作现场禁止吸烟、进食和饮水，工作完毕，淋浴更衣，注意个人清洁卫生。灭火方法：灭火剂用干粉、砂土，禁止用水和泡沫灭火。应急处理：迅速撤离泄漏污染区人员至安全区，并进行隔离，严格限制出入；建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿防酸碱工作服，不要直接接触泄漏物... 【查看详情】

虽然在2007年之后，一些波长更短的准分子光刻光源技术陆续出现，但是这些波段的辐射都很容易被光刻镜头等光学材料吸收，使这些材料受热产生膨胀而无法正常工作。少数可以和这些波段的辐射正常工作的光学材料，比如氟化钙（萤石）等，成本长期居高不下。再加上浸没光刻和多重曝光等新技术的出现，193nm波长ArF光刻系统突破了此前 65nm 分辨率的瓶颈... 【查看详情】

黏附性是表征光刻胶黏着于衬底的强度。主要衡量光刻胶抗湿法腐蚀能力。它不仅与光刻胶本身的性质有关，而且与衬底的性质和其表面情况等有密切关系 。作为刻蚀阻挡层，光刻胶层必须和晶圆表面黏结得很好，才能够忠实地把光刻层图形转移到晶圆表面层，光刻胶的黏附性不足会导致硅片表面的图形变形。光刻胶的黏附性必须经受住后续工艺（刻蚀、离子注入等）。通常负... 【查看详情】