天津纳米氮化钛功能

50.氮化钛(TiN)薄膜以其独特的性能不仅各类商品的表面装饰上有着适合的应用,而且在机械工业也展示了巨大的应用前景。本文利用大功率偏压电源的多弧离子镀技术,采用工具镀工艺,在Ti-6Al-4V合金材料表面制备了TiN薄膜。X射线光电子能谱检测证明了所制备的薄膜确为TiN。机械性能测试表明:具有TiN涂层样品的显微硬度较为高于Ti合金基材,同时耐磨性能也明显得到改善。既可以大幅提高机械产品的表面硬度，提高其耐磨性、降低摩擦系数，进而提高使用寿命。在刀具上涂敷3~5微米的氮化钛涂层，刀具就能拥有更高的耐磨性和耐热性，大幅提高刀具寿命和切削加工效率。天津纳米氮化钛功能

TiN中文名称氮化钛薄膜可以减轻切削刃边材料的附着，提高切削力，改善工件的表面质量，成倍增加切削工具的使用寿命和耐用度。因此，TiN薄膜被适合用于低速切削工具、高速钢切削、木板切削刀具和钻头的涂覆上。另外，TiN也是磨损部件的理想耐磨涂层，特别是由于其低的黏着倾向拓宽了在许多磨损系统中的应用，如汽车发动机的活塞密封环、各种轴承和齿轮等：此外，TiN还广泛应用于成型技术工具涂层，如汽车工业中薄板成型工具的涂层等。温州耐磨氮化钛氮化钛是用于优良度的金属陶瓷工具、喷汽推进器、以及火箭等结构材料，较低的摩擦系数可作为高温润滑剂。

40、氮化钛涂层所具有的硬度值在维氏硬度（HV）2500以上，在刀具上涂敷3~5微米的氮化钛涂层，刀具就能拥有更高的耐磨性和耐热性，大幅度提高刀具寿命和切削加工效率。例如，齿轮滚刀经氮化钛涂敷后寿命能延长3~4倍，因而可在切削齿轮时可提高切削速度，从而减少了加工时间和成本。氮化钛的涂层沉积工艺为物物理相沉积（PVD），是在真空条件下将钛蒸发，并与氮发生反应在刀具表面形成一层非常硬的复合薄膜。这种加工过程较为重要的特征是在加工时温度适合保持在350℃左右，因而高速钢刀具的固有特性及尺寸都不会受到影响。氮化钛涂层刀具由于其优异性能，很快在工业发达国家得以推广使用，并为机械加工行业带来巨大的经济效益。日本是该领域的靠前者之一，许多日本的刀具公司都能供应含有氮化钛涂层的产品，其中有些卖给了欧洲部分国家和美国，多数进入了日本本国市场。我国对氮化钛涂层刀具的使用起步较晚，但已有不少厂家开始推广使用，经济效益极为可观。

ＴｉＮ涂层的耐腐蚀性能进行了试验研究。除采用几种较弱的腐蚀介质外，还在Ｈ２ＳＯ４溶液、ＨＣｌ溶液中对ＴｉＮ涂层样品做了浸泡试验。所有结果表明：涂层后的样品。其耐腐蚀性能比未涂层样品提高几倍至十几倍。同时，在ＮａＣｌ溶液、人工汗液和酸溶液中，分别测定了涂层和未涂层样品的电化学行为。ＴｉＮ涂层表现出较高的溶解电位，说明它在热力学上对上述化学介质是比较稳定的。致密ＴｉＮ涂层的耐腐蚀能力优于不锈钢，但是如果涂层有贯穿的孔洞或涂展太薄时，则涂层试样也会被腐蚀。含有纳米氨化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。

50.TiN涂层刀具适用在低速和低温切削条件下，磨损形式主要是粘着磨损和磨粒磨损，表面脆性大，抗拉强度低，涂层当中常常存在有残余应力。而TiAlN涂层刀具随着切削速度的增大，切削温度的提高，刀具表面逐渐形成的致密的Al2O3保护膜具有润滑作用，减少了切削摩擦及切屑对于刀具的黏着，使得切削力进一步减少。Al是增加表面硬度明显的元素，和N有很强的亲和力，可以改变氮的活性系数，从而改变氮的溶解度，具有较好的结合强度和硬度，因此TiN涂层硬度为1900～2200HV，而TiAlN涂层硬度可高达3000～3500HV。Ti N机械性能测试表明 :具有 Ti N涂层样品的显微硬度较为高于 Ti合金基材 ,同时耐磨性能也明显得到改善 。常州 刀具氮化钛服务电话

改善钛双极板在质子交换膜(PEM)水电解槽环境中耐腐蚀和导电性能，在钛基底表面制备碳掺杂氮化钛复合涂层。天津纳米氮化钛功能

在深亚微米(0.15μm及以下)集成电路制造中，后段工艺日趋重要，为降低阻容迟滞(RCDelay)，保证信号传输，减小功耗，有必要对后段工艺进行改进，Via阻挡层MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金属有机物化学气相淀积)TiN是其中重要研究课题之一。本论文基于薄膜电阻的理论分析，从厚度、杂质浓度和晶体结构三大薄膜电阻影响因素出发系统研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真实结构中的各种性质，重点是等离子体处理(PlasmaTreatment，PT)下的晶体生长，制备循环次数的选择对薄膜杂质浓度、晶体结构及电阻性能的影响，不同工艺薄膜在真实结构中物理形貌、晶体结构和电阻性能的表现和规律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的实际应用等。俄歇能谱、透射电子显微镜和方块电阻测试证明PT作用下杂质浓度降低，同时晶体生长，薄膜致密化而电阻率降低。PT具有饱和时间和深度，较厚薄膜需多循环制备以充分处理，发现薄膜厚度较小时(本实验条件下为4nm)，增加循环次数虽然进一步降低了杂质浓度，但会引入界面而使薄膜电阻率增加。通过TEM观测发现由于等离子体运动的各向异性，真实结构中PT效率在侧壁远低于顶部和底部，这导致侧壁薄膜在PT后更厚。天津纳米氮化钛功能

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