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PVD技术具有多种变种，包括磁控溅射（MagnetronSputtering）、电子束蒸发（EBE）、离子束沉积（IonBeamDeposition）和原子层沉积（AtomicLayerDeposition）等。这些变种技术的差别在于所用工具和离子种类的不同，但其基本原理都是一致的。PVD技术被广泛应用于许多工业领域，如电子、光学、材料科学、航空航天和医疗等，它可以制备出具有高耐磨、高硬度、高耐腐蚀性、导电性和导热性等性质的薄膜材料。因此，PVD技术已成为一种重要的表面加工和功能性薄膜制备技术。...
