企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

    因此存在开发蚀刻液组合物时会过度耗费时间和费用的问题。美国公开**第2号公开了在3dnand闪存的制造工序中,对于硅氧化物膜和硅氮化物膜*选择性蚀刻硅氮化物膜的蚀刻液组合物。然而,为了选择构成成分的种类和浓度,不得不需要测试蚀刻液组合物的蚀刻性能,实际情况是,与上述同样,仍然没有解决在找寻蚀刻液组合物的适宜组成方面过度耗费时间和费用的问题。现有技术文献**文献**文献1:美国公开**第2号技术实现要素:所要解决的课题本发明是为了改善上述以往技术问题的发明,其目的在于,提供用于选择硅烷系偶联剂的参数以及包含由此获得的硅烷系偶联剂的蚀刻液组合物,所述硅烷系偶联剂作为添加剂即使不进行另外的实验确认也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻氮化物膜的效果和防蚀能力。此外,本发明的目的在于,提供一种以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能够*选择性蚀刻上述氮化物膜为特征的蚀刻液组合物。此外,本发明的目的在于,提供利用上述蚀刻液组合物的蚀刻方法。此外,本发明的目的在于,提供选择上述蚀刻液组合物所包含的硅烷系偶联剂的方法。解决课题的方法为了实现上述目的,本发明提供一种蚀刻液组合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。BOE蚀刻液的主要成分。绵阳BOE蚀刻液蚀刻液费用

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    为本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔排列示意图,以及其三较佳实施例的宣泄孔排列示意图,在本实用新型其二较佳实施例中,开设于该第二挡板12上的宣泄孔121亦呈千鸟排列的直通孔态样,且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离,例如:图4中所示的w1,其中w1大于图3的w或图5的w2,其中w2大于w,而该宣泄孔121的一孔径a0亦小于3mm,以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象,若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时,则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面,但仍旧可以提供空气宣泄的管道,以借由该宣泄孔121平衡该第二挡板12上、下二端部的压力。此外,请参阅图6与图7所示,为本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的整体结构示意图,以及挡液板结构运作局部放大图,其中本实用新型的蚀刻设备1设置于一湿式蚀刻机的一槽体(图式未标示)内,该蚀刻设备1包括有一如上所述的挡液板结构10、一输送装置30、一基板20,以及一风刀装置40,其中本实用新型主要借由具有复数个宣泄孔121的挡液板结构10搭配该风刀装置40的硬体设计,有效使该风刀装置40吹出的气体43得以由该复数个宣泄孔121宣泄。绵阳市面上哪家蚀刻液供应铜蚀刻液的配方是什么?

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    也很难保证拖车在地磅顶部不移动。在地磅的顶部平台中设置有两条卡块40,卡块与平台之间形成一插槽,在地磅的顶部设置有包括气缸50和压紧块60的气动夹紧机构,压紧块位于插槽中,气缸的伸缩杆与压紧块固连。拖车的边缘沿插槽插入后,气缸带动压紧块下行将拖车紧紧压在地磅的顶部。实施例二本实施例基于实施例一。如图2所示,在拖车的顶部设置有一圈围设在储存罐外部的护栏70,以防止其它物品碰撞储存罐。实施例三本实施例基于实施例一。如图3所示,在拖车的顶部设置有一集液盒,储存罐安装在集液盒80中,过滤器的出液管及灌装头的快速接头从储存罐中拔出时滴落的铝蚀刻液,由集液盒进行收集。实施例四本实施例基于实施例一。如图4所示,拖车的顶部于储存罐的旁侧设置有集液腔室22,过滤器的出液管及灌装头的快速接头从储存罐中拔出时滴落的铝蚀刻液被集液腔室内收集。综上所述,将原有的大型储存罐更换成数个小型储存罐,并采用液压升降式拖车带着储存罐在铝蚀刻液生产车间与自动灌装车间之中周转,如此便可为铝蚀刻液生产设备配备全自动灌装线,即提高了单瓶灌装精度和效率,又降低了企业的人力成本投入;而且,将原有的大型储存罐更换成数个小型储存罐。

    所述液位计7安装于所述分离器的外表面。液位计7安装在方便工作人员查看的位置,有利于提高工作人员工作的效率。在一个实施例中,如图1所示,所述液位开关9为控制阀,设置于所述滤液出口2处。控制阀为内螺纹截止阀,通过旋转操纵盘实现阀门的开关,这种阀结构简单,维修方便,工作行程小,启闭时间短,使用寿命长。在一个实施例中,如图2所示,所述分离器的侧壁上设有多个视镜10。分离器侧壁上设置的视镜10可以帮助工作人员辅助判断液位计7的工作状况。在一个实施例中,如图1所示,所述加热器11为盘管式加热器。盘管式加热器的受热更加均匀,加热效率更高。在一个实施例中,如图1所示,所述分离器底部为锥体形状。分离器底部设置成锥体形状更有利于滤液排出,不会残留在分离器内。以上所述是本实用新型的推荐实施方式,本实用新型的保护范围并不局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。蚀刻液的时刻速率是多少;

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    本发明涉及蚀刻液组合物及选择添加于该蚀刻液组合物的硅烷系偶联剂的方法。背景技术:参照图1,可以确认3dnand闪存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand闪存可以通过在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)来制造。在不损伤氧化物膜的同时将氮化物膜完全去除是这样的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技术之一。一般而言,氮化物膜去除工序中所使用的蚀刻液组合物利用具有防蚀能力的添加剂以获得在不损伤氧化物膜的同时*将氮化物膜完全去除的效果。但是,想要在不损伤氧化物膜的范围内将氮化物膜完全去除时,会使用防蚀能力强的添加剂,由此可能发生氮化物膜没有被完全去除的工序不良(参照图2)。此外,想要将氮化物膜完全去除时,会使用防蚀能力弱的添加剂,由此虽然氮化物膜被完全去除,但是可能发生对氧化物膜也造成损伤(damage)的工序不良(参照图3)。以往,为了在包含氧化物膜和氮化物膜的多层膜中*将氮化物膜选择性完全去除而选择具有适当水平的防蚀能力的添加剂时,按照添加剂的种类和浓度通过实验进行确认。没有这样的实验确认就选择添加剂实际上是不可能的。苏州博洋化学您正确的选择,欢迎咨询。绵阳BOE蚀刻液蚀刻液费用

蚀刻液可以蚀刻什么金属材质;绵阳BOE蚀刻液蚀刻液费用

铜蚀刻液适用于印制版铜的蚀刻,蚀刻速度快。蚀刻速度达4~5um/min。废液回收简单,用于印制板,线路板。本剂也可用于铜工艺品等的蚀刻。蚀刻后的板面平整而光亮。铜蚀刻液的反应速度快、使用温度低、溶液使用寿命长,后处理容易,对环境污染小。用于铜质单面板,双面板、首饰蚀刻,可以蚀刻出任意精美的形态,有效提高蚀刻速度,节约人工水电。常常应用于印刷线路板铜的蚀刻处理

1、蚀刻速度快,效率高。使用方便。蚀刻速度可达10微米/分钟。2、可循环使用,无废液排放。

1、蓝色透明液体,有气味。2、比重:1.10~1.13。3、PH值:10~11.0。

1、采用浸泡的方法即可,浸泡过程中要搅动蚀刻液或移动工件。蚀刻温度为20~40℃,在通风排气处操作,操作时要盖好盖子。2、蚀刻时间可以根据蚀刻的深度确定。 绵阳BOE蚀刻液蚀刻液费用

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