重庆motic 显微镜

聚焦离子束（FIB）显微镜

随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的重要部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束（FIB）技术利用聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析等。

技术特征

1、比较高束流可以达到100nA,且加工性能优异。可以实现快速切割和纳米加工。

2、最高分辨率小于3nm，可以实现精细加工，并显示优异的FIB成像质量。

3、电压范围在500V-30KV可调，可以实现精细抛光，降低样品表面非晶层厚度。

4、离子源比较稳定，使用寿命长。行业内**长离子源寿命1500小时（3000uAh），72小时束流变化在5%以内。5、与SEM镜筒完美配合，可以实现FIB加工过程中可以利用SEM进行实时观察。 透射电镜主要应用于半导体、材料科学、生命科学等领域。重庆motic 显微镜

显微镜常见故障的排除：

一、显微镜灯泡不亮1、检查电源线是否有松动，插座是否正常。2、检查保险丝是否烧断（保险丝多在机身电源接口处），如烧断了则更换保险丝。3、更换备用灯泡，注意在更换过程中不要手指直接接触到灯泡。

二、显微镜无法对焦成像1、检查调焦限位机构是否没调节好，导致工作距离不够。2、检查样品是否放反。

三、低倍下成像清晰，高倍下成像较模糊1、高倍下对样品厚度和平整度有更高要求，检查样品是否平整。2、盖玻片位置是否放反，注意盖玻片朝上。3、生物显微镜应注意100X物镜是否滴油，物镜是否干净。4、切换到高倍镜时，聚光镜上的孔径光阑相应调大。

变倍 显微镜规格体视显微镜和光学显微镜。

显微镜的观察方法

明视场观察：垂直照射测量物表面，适用于金属、印刷电路板、浅孔的表面观察。

暗视场观察：通过对从工件发出的散射光进行观察，可完成在明视场下观察不到的划痕、尘埃、凹凸，以及胜任低反射工件的观察。

偏光观察：观察具有偏光特性的物质，适用于半导体材料、液晶、结晶、金属组织、矿物等表面观察。

微分干涉（DIC）观察：利用Nomarski棱镜将光线分为两束，形成明暗和对比度变化，可进行立体观察。适用于观察硅片的结晶缺陷、磁头研磨面的损伤检查、涂装面、金属组织、矿石表面等。

透射电子显微镜和扫描电子显微镜两者用的都是电子作为发射源，不过透射电子显微镜的结构更像是我们看到的光学显微镜，即通过两次电子束的聚焦，然后经过样品，经过投影屏放大分析，得到样品的微观结构。但是扫描电子显微镜则没有后面用来放大的投影屏，而是接收屏，即电子打在样品上后激发产生的二次电子，也可以理解为“反射”。所以看到的TEM和SEM在图像成像上，前者看着极其扁平，如同光镜的图像，是一个平面。但是SEM获得的图像有纵深，看着像是3D图像。探针台显微镜的选型；

透射电镜的工作过程与光学显微镜类似。在光学显微镜中聚焦后的可见光射向样品，穿过样品的光经过物镜、目镜等光学系统聚焦后被眼睛接收。在电子显微镜中，可见光由电子枪发射出来的电子束所代替,在阳极加速电压的作用下，电子经过2、3个电磁透镜会聚为电子束，用来照明样品薄片 (电子的穿透能力很弱，因此样品必须很薄)，穿过样品薄片的电子携带了样品本身的结构信息，经物镜、中间镜和投影镜所组成的成像系统的接力聚焦放大以图像或衍射谱的形式显示于荧光屏或感光材料上。探针台显微镜选用的是长工作距离物镜；变倍 显微镜规格

电子显微镜与光学显微镜；重庆motic 显微镜

共聚焦显微镜是由显微镜光学系统、激光光源、扫描器及检测及处理系统4部分组成，采用相干性较好的激光作为光源，在传统光学显微镜基础上采用共轭聚焦原理和装置，并利用计算机对图象进行处理的一套观察、分析和输出系统。激光扫描束通过光栅针（zhen）孔形成点光源，经过分光镜反射至物镜，聚焦在在标本上并进行扫描。样品受到激发后，发出的荧光回到分光镜聚集到探测针（zhen）孔，之后经过光电倍增管转化为电信号传输到计算机上显示为清晰的焦平面图像。激发光通过光栅针（zhen）孔聚焦在样品上，荧光通过物镜聚焦在针（zhen）孔上，此过程中形成两次聚焦，故被称为共聚焦显微镜。

主要应用于：生物学领域、高分子化学领域、表面粗糙度领域。 重庆motic 显微镜

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