企业商机
陶瓷靶材基本参数
  • 品牌
  • 迪纳科,迪丞,东玖,靶材
  • 型号
  • 平面,旋转
  • 是否定制
陶瓷靶材企业商机

靶材间隙对大面积镀膜的影响除了致密化,如果靶材在生产过程中出现异常,大颗粒会因受热而脱落或缩孔。结果会形成更多的气孔(内部缺陷),靶材中更大或更密的气孔会因电荷集中而放电,影响使用。靶材密度低,加工、运输或安装时气孔易破裂。相对密度高、孔隙少的靶材具有良好的导热性。溅射靶材表面的热量很容易快速传递到靶材或衬板内表面的冷却水中,保证了成膜过程的稳定性。溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的基材进入高真空镀膜室时,如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话,靶材中的杂质粒子会在溅射过程中附着在玻璃表面,导致某些位置的膜层不牢固,出现剥离现象。因此,靶材的纯度越高,薄膜的性能就越好。ITO在薄膜太阳能电池中的作用是一种透明导电层,在电池中作为透光层主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极。新疆显示行业陶瓷靶材厂家

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ITO(氧化铟锡)靶材是溅射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一种,在显示靶材中占比将近60%。ITO靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型,再高温气氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。中低端ITO靶材有玻璃镀膜靶材、发热膜和热反射膜靶材,包括汽车的显示屏、一些仪器仪表的显示。优异的ITO靶材主要用于显示器薄膜靶材、集成电路薄膜靶材以及磁记录和光记录膜靶材,尤其用于大面积、大规格的LED、OLED等领域,具备高密度、高纯度、高均匀性等特点。


海南氧化锌陶瓷靶材如何制成良好的陶瓷靶材也是需要注意的地方。

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ITO靶材生产过程包括金属提纯和靶材制造两个主要环节。因高纯金属原料的品质影响靶材的导电性能等性状,对成膜的质量有较大影响,且靶材种类繁多,客户需求非标,定制属性明显。故而金属提纯环节技术壁垒及附加值均较高。其中铟属于稀散金属,因其具有可塑性、延展性、光渗透性和导电性等特点,而以化合物、合金的形式被广泛应用。目前,铟的主要应用领域是平板显示领域,包括ITO靶材及新兴的铟镓锌氧化物(IGZO)靶材,占全球铟消费量的80%;其次是半导体领域、焊料和合金领域、太阳能发电领域等。生产ITO靶材对于铟的纯度要求一般在4N5及以上,生产化合物半导体材料对于铟的纯度要求则更高,一般在6N及以上。

磁控溅射的工作原理简单说就是利用磁场与电场交互作用,氩离子轰击靶材表面,同时也把动能传导进去,随后靶材表面的原子就被轰击出来,从不同角度飞向基片,在其表面凝集沉积形成一层薄膜。“这层薄膜非常薄,往往都在纳米量级,是人类肉眼看不见的,而一支10毫米厚的靶材所镀的薄膜面积可达几万甚至十几万平方米,镀膜后产生的价值远超过靶材本身的价值,靶材起的作用非常关键,所以我常将靶材称为小而美、小而精的材料。”“别小看这些薄膜材料,它们是很多功能器件得以大显神威的主要材料。”在显示面板和触控屏两个产品生产环节需要使用靶材,主要用于ITO玻璃及触控屏电极,用量比较大的是ITO靶材。

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从ITO靶材的发展趋势来看:1)大尺寸化,在需要大面积镀膜时,通常将小尺寸靶材拼接焊接成大尺寸靶材,由于具有焊缝,靶材镀膜质量将降低;2)高密度化,在溅射过程中ITO靶材表面会出现结瘤现象,如果继续溅射,所制备的薄膜光学性能以及电学性能将降低。高密度的靶材具有较好的热传导性以及较小的界面电阻,因此结瘤现象出现的概率较小,所制备的ITO薄膜的质量较高,且生产效率、成本较低;3)提高靶材利用率,由于平面靶材在溅射过程中,中间部分难以被侵蚀,因此靶材利用效率相对较低。通过改变靶材形状,可以提高靶材的利用效率,从而降低备ITO薄膜的成本。钙钛矿太阳电池在短短数十年间不断刷新转换效率。辽宁镀膜陶瓷靶材厂家

ITO溅射靶材的发展趋势!新疆显示行业陶瓷靶材厂家

靶材安装注意事项靶材安装过程中非常重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射腔体冷却壁之间建立很好的导热连接。如果冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响,导致在溅射过程中热量无法散发**终会造成靶材开裂或脱靶。为确保足够的导热性,可以在阴极冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意要仔细检查和明确所使用溅射***冷却壁的平整度,同时确保密封圈始终在位置上。由于所使用冷却水的洁净程度和设备运行过程中可能会产生的污垢会沉积在阴极冷却水槽内,所以在安装靶材时需要对阴极冷却水槽进行检查和清理,确保冷却水循环的顺畅和进出水口不会被堵塞。有些阴极设计与阳极的空隙较小,所以在安装靶材时需要确保阴极与阳极之间没有接触也不能存在导体,否则会产生短路。新疆显示行业陶瓷靶材厂家

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透明导电薄膜的种类很多,主要有ITO,TCO,AZO等,其中ITO的性能比较好,ITO具有高透光率,低电阻率。目前ITO的制备方法主要是磁控溅射,要获得高质量的ITO薄膜,制备高密度、高纯度和高均匀性的ITO靶材是关键。高质量的成品ITO溅射靶应具有99%的相对密度。这样的靶材才具有较低电阻率、较高导热率及较高的机械强度。高密度靶可以在温度较低条件下在玻璃基片上溅射,获得较低电阻率和较高透光率的导电薄膜。甚至可以在有机材料上溅射ITO导电膜。目前ITO靶材的制备方法主要有热压法、冷等静压-烧结法、热等静压法。其中采用冷等静压-烧结法,其相对密度能达到99%以上,烧结温度高,保温时间长,制备工艺...

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