安徽POLOSBEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米

某revolution生物医学研究机构致力于开发快速、precise的疾病诊断技术。在研发一种用于早期tumor筛查的微流体诊断芯片时，采用了德国 Polos 光刻机。利用其无掩模激光光刻技术，科研团队成功制造出拥有复杂微通道网络的芯片。这些微通道能精确控制生物样本与检测试剂的混合及反应过程，极大提高了检测的灵敏度和准确性。以往使用传统光刻技术制备此类芯片，不only周期长，且精度难以保证。而 Polos 光刻机使制备周期缩短了近三分之一，助力该机构在tumor早期诊断研究上取得重大突破，相关成果已发表在国际authority医学期刊上。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。实时观测系统：120 FPS高清摄像头搭配20x尼康物镜，实现加工过程动态监控。安徽POLOSBEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米

德国 Polos 光刻机系列以其紧凑的设计，在有限的空间内发挥着巨大作用。对于研究实验室，尤其是空间资源紧张的高校和初创科研机构来说，设备的空间占用是重要考量因素。Polos 光刻机占用空间小的特点，使其能够轻松融入各类实验室环境。​ 尽管体积小巧，但它的性能却毫不逊色。无掩模激光光刻技术保障了高精度的图案制作，低成本的优势降低了科研投入门槛。在小型实验室中，科研人员使用 Polos 光刻机，在微流体、电子学等领域开展研究，成功取得多项成果。从微纳结构制造到新型器件研发，Polos 光刻机证明了小空间也能蕴藏大能量，为科研创新提供有力支持。安徽POLOSBEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米微型传感器量产：80 µm开环谐振器加工能力，推动工业级MEMS传感器升级。

某分析化学实验室采用 Polos 光刻机开发了集成电化学传感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技术在 PDMS 通道底部直接制备出 10μm 宽的金电极，传感器的检测限达 1nM，较传统电化学工作站提升 100 倍。通过软件输入不同图案，可在 24 小时内完成从葡萄糖检测到重金属离子分析的模块切换。该芯片被用于即时检测（POCT）设备，使现场水质监测时间从 2 小时缩短至 10 分钟，相关设备已通过欧盟 CE 认证。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

单细胞分选需要复杂的流体动力学控制结构，传统光刻难以实现多尺度结构集成。Polos 光刻机的分层曝光功能，在同一片芯片上制备出 5μm 窄缝的细胞捕获区与 50μm 宽的废液通道，通道高度误差控制在 ±2% 以内。某细胞生物学实验室利用该芯片，将单细胞分选通量提升至 1000 个 / 秒，分选纯度达 98%，较传统流式细胞仪体积缩小 90%。该技术已应用于循环tumor细胞检测，使稀有细胞捕获效率提升 3 倍，相关设备进入临床验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。环保低能耗设计：固态光源能耗较传统设备降低30%，符合绿色实验室标准。

Polos光刻机在微机械加工中表现outstanding。其亚微米分辨率可制造80 µm直径的开环谐振器和2 µm叉指电极，适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术（如Nanoscribe系统），用户还能扩展至3D微纳结构打印，为微型机器人及光学元件提供多尺度制造方案。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化，无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下，将该技术带到了桌面上，进一步提升了其优势。多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金属，微流控芯片集成电极与通道一步成型。江苏德国PSP-POLOS光刻机

图案灵活性：支持 STL 模型直接导入，30 分钟完成从设计到曝光全流程。安徽POLOSBEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米

德国 Polos 光刻机系列的一大突出优势，便是能够轻松输入任意图案进行曝光。在科研工作中，创新的设计理念往往需要快速验证，而 Polos 光刻机正满足了这一需求。科研人员无需花费大量时间和成本制作掩模，只需将设计图案导入系统，就能迅速开始光刻作业。​ 在生物医学工程领域，研究人员利用这一特性，快速制作出具有特殊结构的生物芯片，用于疾病诊断和药物筛选。在材料科学研究中，可根据不同材料特性，定制独特的图案结构，探索材料的新性能。这种灵活的图案输入方式，remarkable缩短了科研周期，加速科研成果的产出，让科研人员能够将更多精力投入到创新研究中。安徽POLOSBEAM-XL光刻机MAX层厚可达到10微米