贵州智能真空控制器口碑推荐

抽真空过程中，可以通过压力控制仪来实现对真空度的控制。那压力控制仪的选择过程中都有哪些要求呢，

首先选择的压力控制仪其控制方式要符合控制要求。

其次是压力控制仪的可控气路数要等于或大于实际需求所要求的气路控制数量。

第三，压力控制仪的反应时间要小于实际应用要求的反应时间。

第四，压力控制仪所能测量的真空范围要大于应用要求的压力调节范围。

第五，压力控制仪本身的压力调节范围要大于被控对象要求的压力调节范围，也就是说真空微调阀流量调节的范围要大于压力调节范围所要求的流量变化范围。

真空控制器设定范围多少？贵州智能真空控制器口碑推荐

真空控制器主要用于各种蒸发器的真空度控制。针对不同物料选择Z适合真空度可使其在Z理想的沸点下***稳定的蒸发，同时又可**提高溶煤回收率，减少环境污染

真空控制器

真空控制器主要用于各种蒸发器的真空度控制。针对不同物料选择*适合真空度可使其在*理想的沸点下***稳定的蒸发，同时又可**提高溶煤回收率，减少环境污染。尤其对超临界物质分离，恒定的真空度尤为重要。

数字显示设定真空度和测量真空度，自动恒定控制真空度。

内置快速应答电磁阀，能有效保持系统气密性，阻止泵液倒流。

有外接真空泵电源接口，控制真空泵间断工作，**提高真空泵寿命。

抽气口配有低温冷阱，减少有害气体对设备或环境污染。

传感器材质，不锈钢，适应用广。

江苏本地真空控制器诚信合作真空控制器控制下真空度能抽到多少？

我们在使用旋转蒸发仪浓缩样品的时候，尤其是对于低沸点溶剂或者中药提取液，在浓缩过程中经常会产生爆沸的现象，这是由于真空泵的抽气速度很快，极限真空度比较高，真空泵一旦启动很快便达到了样品的沸点导致沸腾现象的产生。

为了解决这一问题，传统上我们的实验人员会一刻不停地守候在仪器旁边，一旦出现爆沸现象，立即放气，平息爆沸。虽然这样做可以解决爆沸的问题，但使得试验人员的宝贵时间**用在防止爆沸上，显然这样会把工作效率变得很低。

为了解决这一问题可以配置真空控制器来控制真空度，通过设定适合的真空度，可以使样品保持比较好的浓缩条件，保持较快的浓缩速度，而又不产生爆沸现象，试验人员可以安心地同时做其他的工作。

真空控制器除了控制真空度以外，还可以使得样品浓缩时的冷凝回流变得更有效，由于真空泵的力量一般都比较强大，溶剂蒸汽被快速抽取时，有很多溶剂蒸汽还没来得及冷凝便被抽到泵里，这使得溶剂冷凝回收变差，而抽到泵里的溶剂对真空泵和环境会造成损害。而在真空控制器的控制下，抽气速度可以被控制，所以理论上所有的溶剂蒸汽都可以在冷凝时得到充分的冷凝而回收

真空控制器具有体积小巧、安装方便、性能稳定等优良品质，自动测控系统内的真空压力，输出开关信号，适用不同的流体介质。

一、真空控制器工作原理：

当系统内真空压力高于或低于设定压力时，控制器内的压力感应器立即动作，使控制器内的开关触点断开或接通，此时设备停止工作；当系统内的真空压力回到设备设定的压力范围时，控制器的压力立即复位，使控制器内的开关触点接通或断开，此时设备正常工作。

二、真空控制器应用：

主要用在冶金、化工、石油、钢铁、机械、制冷设备、冷冻设备、水泵的压力控制，低水位保护压力控制、电厂、水泥、食品、船舶等行业的气体及水、油等液体压力设备和其它工业设备于执行机构配套上进行压力监控、报警、联锁保护，实现二位式自动控制。

三、真空控制器特点：

1.精度高、调节方便、稳定性好、耐腐蚀性强

2. 可用于任何气体或液体介质

真空控制器生产厂家有哪些？

VC100C真空控制器广泛应用于旋转蒸发仪、真空浓缩仪、干燥箱等设备的真空调控。调控真空可以以缩短工艺时间并提高重复性。

VC100C  概述：

VC100C是一台即插即用的两点法真空控制器,它包含带内置陶瓷真空传感器的VC100C真空控制器，集成了单向阀的放气阀及耐化学腐蚀的电磁阀，结构非常紧凑，整个控制器安装方便。对于已有真空源如无油真空泵或有效的真空网络源，电子控制可以增加过程效率，并增加溶剂回收率。在“探测”模式下，控制器可以**探测到沸腾所需蒸汽压，并切换到两点法真空控制模式。在操作过程中随时可进行手动调节。

VC100C性能特性：

1、**的蒸汽压探测功能—更节省过程时间

2、结构紧凑，带耐腐蚀真空阀及实验室常用软管接口—即插即用

3、真空测量集成在真空阀块内—直接将VC100C连接在泵和真空应用之间

4、内置放气阀—简单的压力平衡或过程结束后的惰性气体放气

5、单向止回阀—共用真空源的平行应用不会相互干扰 真空控制器目标系统压力怎么控制？江苏本地真空控制器诚信合作

真空控制器管理的连接方式？贵州智能真空控制器口碑推荐

目前，PLC已一种普及的工业控制装置，被认为是现代工业自动化的三大支柱（PLC、机器人、CAD/CAM）之一。

计算机控制系统。计算机控制系统的发展得益于微处理器的快速发展。目前其在真空系统应用中主要涉及程序控制、工艺参数的数据采集、传输、计算、处理显示、记录调节，并对真空装置的运行状态进行监视、诊断，提高真空系统的控制品质，实现真空系统的真正自动化。

真空系统应用的计算机控制系统包括硬件与软件。硬件上包括计算机、相关的**设备、测量装置和执行机构。这里的计算机可以是工业控制机，也可以是微型计算机、单片机，配置适当的接口与**设备。而软件主要就是控制系统的控制程序，包括系统软件与应用软件，可以使计算机自动完成真空系统预置的控制任务。

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