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  • 安徽12英寸大尺寸半导体晶圆

      如图28c所示。电压衰减电路26090的衰减率的设置范围在5-100之间,推荐20。电压衰减可以用如下公式表达:vout=(r2/r1)*vin假设r1=200k,r2=r3=r4=10k,vout=(r2/r1)*vin=vin/20其中,vout是电压衰减电路26090输出的振幅值,vin是电压衰减电路26090输入的振幅值,...

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    08 2022-08
  • 遂宁半导体晶圆销售价格

      图11b为根据本申请一实施例的半导体基板的结构的剖面的一示意图。图12为根据本申请一实施例的半导体基板的结构的剖面的一示意图。图13为根据本申请一实施例的晶圆的一示意图。图14为根据本申请另一实施例的晶圆的一示意图。图15为根据本申请一实施例的晶圆制作方法的前列程示意图。图16a~16j为根据本申请实施例的晶圆制作过程的各阶段的剖...

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    07 2022-08
  • 枣庄服务半导体晶圆

      一些气泡内爆继续发生,然后,在时间段τ2内,关闭声波功率,气泡的温度从tn冷却至初始温度t0。ti被确定为通孔和/或槽的图案结构内的气泡内爆的温度阈值,该温度阈值触发***个气泡内爆。由于热传递在图案结构内是不完全均匀的,温度达到ti后,越来越多的气泡内爆将不断发生。当内爆温度t增大时,气泡内爆强度将变的越来越强。然而,气泡内爆应...

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    07 2022-08
  • 成都国内12 寸半导体晶圆产

      以及波导表面缺陷微结构204。光源输入端数量以及方位需根据被检测样品的尺寸进行设置。光源载具需要能够在二维平面内进行缩放调控,满足不同尺寸样品的需求。光源载具的设计不限于图中所示圆环形貌,也可是**控制的多组结构。如被检测波导为多边形结构,需要将输入光源的排布形貌做出调整。如图3所示为一种实施实例示意图,包括环形耦合波导302,环...

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    06 2022-08
  • 半导体晶圆收费

      所述动力腔26内设有可控制所述升降块15间歇性往返升降,来达到连续切割状态的动力机构103,所述切割腔27靠上侧位置设有两个左右对称,且能用来冷却所述切割片50的海绵52,所述切割腔27的靠上侧位置左右两侧连通设有冷却水腔14,是冷却水腔14的上侧连通设有传动腔55,所述传动腔55内设有可控制所述海绵52在所述切割片50上升时抵接...

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    06 2022-08
  • 河北半导体晶圆供应商

      功率为p1时检测到的通电时间和预设时间τ1进行比较,如果检测到的通电时间比预设时间τ1长,检测电路发送报警信号到主机,主机接收到报警信号则关闭超声波或兆声波电源;检测电路还比较检测到的断电时间和预设时间τ2,如果检测到的断电时间比预设时间τ2短,检测电路发送报警信号到主机,主机接收到报警信号则关闭超声波或兆声波电源。在一个实施例中...

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    05 2022-08
  • 合肥半导体晶圆诚信合作

      图18b是图18a所示通孔的顶视图。图18c揭示了形成在晶圆18010上的多个槽18036的剖视图。同样的,槽18036中由声波能量产生的气泡18012增强了对杂质的去除,如残留物和颗粒。图18d是图18c所示槽18036的顶视图。饱和点rs被定义为通孔18034、槽18036或其他凹进区域内可容纳的**大气泡量。当气泡的数量超过...

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    04 2022-08
  • 洛阳半导体晶圆推荐厂家

      所述送料腔内设有可在切割状态时限制所述滑块左右晃动,并在所述滑块移动状态时打开的稳定机构,所述送料腔的左侧连通设有切割腔,所述切割腔内设有可用于切割的切割片,所述切割腔的左侧连通设有升降腔,所述升降腔的内壁上设有可带动所述切割片升降的升降块,所述升降腔的下侧开设有动力腔,所述动力腔内设有可控制所述升降块间歇性往返升降,来达到连续切...

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    03 2022-08
  • 西安半导体晶圆片

      图案结构4034包括需要清洁的多个特征,包括但不限于鳍、通孔、槽等。气泡4044变成微喷射,它可以非常猛烈,达到几千大气压以及几千摄氏度。参考图4b所示,一旦微喷射发生,图案结构4034的一部分被损伤。对于器件特征尺寸小于或等于70nm的晶圆,这种损伤更为严重。图5a至图5c揭示了在晶圆清洗过程中气泡5016内的热能变化。当声波正...

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    02 2022-08
  • 开封节约半导体晶圆

      该金属层凹陷区域在该第二表面的投影区域位于该中心凹陷区域当中。在一实施例中,为了设计与制作的方便,其中该金属层凹陷区域与该中心凹陷区域的形状相应,该金属层凹陷区域的面积小于该中心凹陷区域的面积。总上所述,本申请提供了具有强度较大的基板结构的芯片,其具有晶圆层的边框结构,也可以具有晶圆层的内框结构,以便减低芯片在进行热处理、加工与焊...

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    01 2022-08
  • 汕头半导体晶圆供应商

      并且与基座110形成腔室c。在实际应用中,壳体120接触基座110。依据实际情况,壳体120可与基座110密封地接触,然而本发明不以此为限。由壳体120与基座110形成的腔室c被配置成容纳半导体晶圆200。壳体120具有排气口121,其远离基座110设置。微波产生器130设置于壳体120上,并且被配置成对半导体晶圆200所在的腔室...

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    31 2022-07
  • 合肥半导体晶圆承诺守信

      图23揭示了根据本发明的一个实施例的可以执行图7至图22揭示的晶圆清洗工艺的晶圆清洗装置。图24揭示了根据本发明的一个实施例的可以执行图7至图22所揭示的晶圆清洗工艺的另一晶圆清洗装置的剖视图。图25揭示了根据本发明的一个实施例的用于监测采用声能清洗晶圆的工艺参数的控制系统。图26揭示了根据本发明的一个实施例的如图25所示的检测电...

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    30 2022-07
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