介绍一下目前国内主要的高纯氧化铝生产工艺。目前,国内氧化铝生产厂家工艺都各不相同,主要分为碳化法、双铝法、快脱粉水化法、硫酸铝铵法、金属铝水化法以及醇盐水解法等等。重点介绍以下四种方法:1.碳化法制备高纯氧化铝以二氧化碳和铝酸钠为原料,沉淀得到拟薄水铝石,在经过高温煅烧得到氧化铝。通过大量洗涤去除产品中的钠、铁、硅等杂质。碳化法因原料成本低、操作简单、易于控制重点等优点被廣泛研究。但只适用于大规模生产,品种相对单一,纯度较低,晶相不稳定。高纯的α型氧化铝还是生产人造刚玉、人造红宝石和蓝宝石的原料;还用于生产现代大规模集成电路的板基。髙品质高纯氧化铝诚信合作
氧化铝陶瓷覆铜板,英文名称:directbondingcopper,英文简写为dbc或dcb,是指在惰性气体中铜箔和陶瓷基片通过高温熔炼和扩散过程而形成的一种高导热、高绝缘强度的电气复合材料。在功率电子行业中依托该材料发展出了模块封装芯片互联技术,带动功率电子产品朝着高功率密度、多功能及合、高性能低成本的方向发展。陶瓷覆铜板的产品优越性:铜箔和陶瓷直接结合,导热性好,氧化铝-dbc热导率为陶瓷基片的稳固性使dbc在各种使用条件下都具有十分优异的绝缘性能。河北高纯氧化铝厂家供应氧化铝纤维是高性能无机纤维中的重要一类,其主要成分为Al203, 有的还含有SiO2和B203等金属氧化物成分。
温度的影响以往的研究已经表明了温度对长大速度的影响是遵循Arrhenius关系式的。即随着温度的升高,晶核的生长速度也会增快,单位时间内醇盐水解形成氢氧化铝的微粒数目会增多,粒径就越细。但是往往由于生成晶粒数目过多、过快,相互间碰撞、附聚在一起,形成大晶粒的可能性增大。同时,由于水解温度的提高,使溶液的过饱和度减小,晶体的生长速度减慢,水解时间延长,从而使氢氧化铝粒度长大。相反,如果温度过低,就会影响到晶核的生长速度,这对形成较微细的颗粒也明显不利的。我们通过实验可知,温度控制在65~68℃时,醇化反应终点pH为8左右,所得AI(OH);纯度高达99.95%,粒度《尤其异丙醇效果更好。同时,为了回收有机溶剂,故在蒸馏中更加严格控制好温度,对此,我们选择乙醇作醇化剂,时间为2小时,进一步试验温度对粒径的影响,如图2所示,可知,适当的温度的对形成微细粒径是有利的。
a.热压烧结(HPS)热压烧结即在烧结过程中施加一定的压力,压力的存在使原子扩散速率增大,烧结驱动力增加,从而加快烧结过程。然而,在高压条件下,烧结体中会出现垂直于压力方向定向生长的晶粒,为避免这种现象,可以选用热等静压烧结(HIP)的方法。b.两步烧结(TSS)两步烧结法即将坯体加热到一个特定温度T1以排除坯体中的亚临界气孔,然后降至一个较低温度T2使坯体达到致密。在两步烧结法中的低温烧结阶段,由于晶界迁移比晶界扩散所需要的活化能高,所以这一阶段主要以晶界扩散为主。因此,在两步烧结法中的第二个阶段,坯体不断致密化,但晶粒不会生长过快。氧化铝是两性氧化物,能溶于无机酸和碱性溶液中,几乎不溶于水及非极性有机溶剂;
高纯氧化铝陶瓷的制备方法。在获得高纯氧化铝粉体后,将其制备成成型良好的素坯,根据产品要求与成本,选择合适的烧结方法来制备高纯氧化铝陶瓷。目前,常用的烧结方法包括:常压烧结、热压烧结、两步烧结、放电等离子体烧结、微波烧结等。常压烧结(PS)采用常压烧结方法,高纯氧化铝陶瓷通常需要在高于1600℃下才能烧结致密,较高烧结温度能会导致氧化铝晶粒异常长大,烧结体致密化程度降低,从而影响高纯氧化铝陶瓷的性能。减小粉体颗粒的平均尺寸,添加适当的添加剂,采用特殊的成型方法等通常可降低高纯氧化铝陶瓷的烧结温度。利用高纯氧化铝的高度绝缘性能,还可以制作髙端的电路基板,用作各种敏感元件的保护膜、电子器件的衬底等。天津高纯氧化铝替代进口
高纯氧化铝因其优良的特性、廣泛的应用,一直是众多技术人员研究的热点。髙品质高纯氧化铝诚信合作
时间的影响本次实验的醇化时间控制在某些方面2小时左右为好。时间的长短将会影响到醇化反应的进行程度,这已被普遍认同。如果时间过短,有可能导致醇化反应末结束;相反时间过长,对整个实验流程来说是不利的。同时,时间过短也会造成颗粒尺寸分布不均,这是由于大小粒子因溶解度不同而造成的平均粒径的增加;相反,时间过长,粒子就会长大,不易形成超微细结构。为此,我们也选择了乙醇作醇化剂,温度为65℃左右,来进一步试验时间对粒径的影响,如图3所示。从图中可明显地看出,适当的时间对形成微细粒经是有利的。髙品质高纯氧化铝诚信合作
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