随着芯片尺寸加大，工艺线宽减小，从9Onm工艺开始，以往IC清洁剂在清洗过程中使用的超声波清洗遇到一些问题，如造成半导体器件结构损伤，在65nm及以下工艺，其损伤程度可能会加剧。芯片中的深沟槽结构清洗时清洗液和漂洗去离子水很难进入结构内部，难以达到清洗目的。高堆桑式和深沟槽式结构清洗后的干燥过程也是很关键的技术问题。一般小于130nm工艺中，要求必须去除所有大于或等于100nm的颗粒，而由于表面边界层的限制，现行清洗技术，如液体或高压〈液体〉喷射清洗已无法洗去0onm的颗粒。IC封装药水适用于各种Cu-alloy、Fe-Ni-alloy、Ni。南京IC除胶清洁剂哪里有销售
IC封装药液在酸性、中性、碱性条件下均能溶解透明，且长期稳定。与磷酸酯类物质相比，本剂具有好于磷酸酯类物质”三倍以上的防腐蚀效果。“磷酸酯类物质”含磷，易生菌，容易产生大量泡沫。而本剂不含磷、不易生菌、无泡。对黑色金属和其它有色金属都有辅助的防腐蚀作用；无毒、无味等特点，不含有害物质，环保型水性产品﹔极低的添加量，综合使用成本低；经本剂处理的工件，可保持金属本色，不影响加工精度﹔能够锁住金属表面颜色，稳定性好，防腐蚀性强，保护效果好，金属表面不褪色，从保护金属元件的稳定性。江苏IC除胶清洁供应商IC封装药水具有剥镍镀层功能，有机封闭剂。
HCFC类IC清洁剂及其清洗工艺特点：这是一种含氢的氟氯烃，其蒸发潜热小、挥发性好，在大气中容易分解，破坏臭氧层的作用比较小，属于一种过渡性产品，规定在2040年以前淘汰，所以，我们不推荐使用该类清洗剂。其存在的问题主要有两个：一是过渡性。因为对臭氧层还有破坏作用，只允许使用到2040年；二是价格比较高，清洗能力较弱，增加了清洗成本。氯代烃类的清洗工艺特点：氯代烃类如二氯甲烷、三氯乙烷等也属于非ODS清洗剂。其清洗工艺特点是：清洗油脂类污物的能力特别强；像ODS清洗剂一样，也可以用蒸气洗和气相干燥。
IC清洁剂不燃烧、不炸裂，使用安全；清洗剂可以蒸馏回收，反复使用，比较经济；清洗工艺流程也与ODS清洗剂相同。烃类清洗工艺特点：烃类即碳氢化合物，过去把通过蒸馏原油而得的汽油、煤油作为清洗剂使用。烃类随碳数的增加而闪点提高，增加了安全性，但是干燥性不好；干燥性好的，使用上又不太安全，故两者十分矛盾。当然，作为清洗剂应尽量选用防火安全性好的、闪点比较高的清洗剂。其清洗工艺特点是：对油脂类污物清洗能力很强，洗净能力持久性强，且表面张力低，对细缝、细孔部分清洗效果好。IC封装药水保光、保色效果好，耐久，很好的耐候性，为耐黄变产品。
IC封装药液由于连续处理过程中浓度不断变化，要定期测定PH值，确定IC-502清洗剂含量浓度，保持在规定的浓度范围内，及时补充添加，以确保清洗效果。工件油污清洗干净后用清水冲洗，水洗后的工件再做后续处理。工件如需防锈，油污清洗干净后直接烘干，不需要水洗，用水冲洗会影响防锈效果。定期清理脱脂槽，定期倒槽排渣。IC芯片容易生锈，不但影响外观质量，还会影响喷漆、粘接等工艺的正常进行，如不及时处理，更会造成材料的报废，导致不必要的经济损失。IC封装药水经本剂处理的工件，可保持金属本色，不影响加工精度。无锡IC除胶清洁剂费用
IC封装药水耐腐蚀性能提高5-20倍。南京IC除胶清洁剂哪里有销售
翻新处理过程中，清洗是比较重要的环节，由于电路板与IC芯片等元器件回收来源复杂，表面污染物差异很大，除了常见的三防漆、松香残留、油脂、导电胶、导热膏、灰尘、设备长期运行产生的积碳等，还会混有其他生活和工业垃圾所带来的各种污染物。目前常用的主流环保清洗方法有以碳氢清洗剂为主的溶剂类清洗及高效水基清洗，碳氢清洗方法运行成本较高；水基清洗对某些污染物的去除能力有限，同时需要配置烘干环节。如正确选用合适的IC清洁剂，一般情况下可做到成本与清洁效果的兼顾。南京IC除胶清洁剂哪里有销售
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