四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时,由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。
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高纯四氟化碳和六氟化硫产品满足重大专项/课题任务书研究内容和考核指标规定的技术要求。项目的验收完成,标志着黎明院开发的高纯度含氟电子气体四氟化碳和六氟化硫产品,能够满足极大规模集成电路行业所需的高纯度气体需求,也标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升,芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进,其对电子气体的纯度要求越来越高。为此,黎明院借助科技重大专项平台,突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术,攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题,制备出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫,部分杂质含量在0.1ppm以内。在研发过程中,并建成了标准化洁净间。
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四氟甲烷(Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane),亦称四氟化碳、全氟化碳,PFC-14(R-14),化学式CF4,商品名称Reflube 14,相对分子量88.00。在常温下,四氟甲烷是无色、无臭、不燃,不溶于水的可压缩性气体。沸点-128℃,熔点-183.6℃。液体密度(-130℃)1.613g/cm3,临界温度-45.67℃,临界压力3.74MPa,蒸气压(-150.7℃)13.33kPa,介电常数(25℃,0.5MPa)1.0006。挥发性较高,是稳定的有机化合物之一,在900摄氏度时,不与钢、镍、钨、钼反应,在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25摄氏度及0.1MPa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时, 会分解产生有毒氟化物,危险性类别为第2.2类不燃气体。
四氟化碳的环境影响都有哪些?安全性如何?四氟化碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定,可以长时间停留在大气层中,是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年,全球增温(全球暖化)系数是6,500(二氧化碳的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似,但四氟化碳不会破坏臭氧层。这是因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子,它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强,因此分离的可能性比较低。吸入四氟化碳的后果与浓度有关,包括恶心、头昏眼花及心血管系统的破坏(主要是心脏)。长时间接触会导致严重的心脏破坏。四氟化碳的密度比较高,可以塡满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。 四氟化碳漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。
四氟化碳是不燃性压缩气体。储存于阴凉、通风仓间内。仓内温度不宜超过60℃。远离火种、热源。防止阳光直射。应与易燃或可燃物分开存放。验收时要注意品名,注意验瓶日期,先进仓的先发用。搬运四氟化碳时轻装轻卸,防止钢瓶及附件破损。泄漏时,应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。如有可能,即时使用。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。四氟化碳不与铜、镍、钨反应。南通优良四氟化碳销售价格
四氟化碳具有高稳定性,属于完全不燃气体,常温下不与酸、碱及氧化剂反应。四氟化碳厂家价格
另外还涉及到大宗气体储存和分配系统、气柜和配气管等系统和专业服务等。气体可以发现,其早期以空分气体及设备为立足点,逐步打入电子用气、医疗用气等领域,其优势在于利用大型空分装置切入下游客户,借助平台优势顺势发展成为气体综合解决方案提供商。从空分气体设备供应商向气体综合解决方案提供商蜕变。半导体工厂配气装置可以发现,气体服务是一项系统工程,包括超纯大宗气体、现场气体发生器、气瓶和批量供应的电子特种气体,四氟化碳厂家价格
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