企业商机
四氟化碳基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 不限
  • 型号
  • 不限
  • 是否定制
四氟化碳企业商机

二氧化碳钢瓶的使用方法及注意事项; 使用前检查连接部位是否漏气,可涂上肥皂液进行检查,调整至确实不漏气后才进行实验。使用时先逆时针打开钢瓶总开关观察高压表读数,记录高压瓶内总的二氧化碳压力。然后顺时针转动低压表压力调节螺杆,使其压缩主弹簧将活门打开。这样进口的高压气体,由高压室经节流减压后进入低压室,并经出口通往工作系统。使用后,先关闭顺时针,关闭钢瓶总开关,再逆时针旋松减压阀。各种气瓶必须定期进行技术检查。充装一般气体的气瓶三年检验一次;如在使用中发现有严重腐蚀或严重损伤的,应提前进行检验。






在使用四氟化碳的同时。上海***四氟化碳价格走势

    四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体,它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物,可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别::吸入健康危险:吸入浓度高的四氟化碳后,出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 上海***四氟化碳价格走势四氟化碳不燃烧,有低毒性和窒息性。

    氢氟甲烷氟化法是一种适合工业化推广的生产四氟化碳的方法,它具有工艺简单、不需使用催化剂、四氟化碳的收率和纯度高等优点。但目前作为原料的氢氟甲烷的价格相对较高,限制了工业化装置的规模。四氟化碳早就是通过氟碳直接反应法制得的,该方法经过不断的发展与完善,如今已成为工业上制备全氟烷的主要的方法之一。以四氟化碳作为表示的全氟烷广用作微电子行业中的等离子体蚀刻气体,近年来世界需求量日益扩大,市场看好,国外大公司纷纷扩大其产能。

只有适当的条件下,四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。四氟化碳不燃烧,有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时,发生分解,产生的氧化物有毒。四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象,但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下,它全变脆。


与可燃性气体一起燃烧时,发生分解,产生的氧化物。

    四氟化碳一般认为是惰性低毒物质,在高浓度下是窒息剂,其毒性不及四氯化碳。安全防护四氟化碳为非腐蚀性气体,所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜,铝等金属材料都可以使用,但是含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。可以用聚四氟乙烯,环氧树脂和醋酸纤维。尼龙在高温,有水和空气时变脆。聚三氟氯乙烯聚合体可以用,但稍微有膨胀。废气可直接排人大气中。 所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中,需要使用四氟化碳。上海***四氟化碳价格走势

不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂、危险。上海***四氟化碳价格走势

    四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体,用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。 上海***四氟化碳价格走势

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