南京四氟化碳高性价比的选择

    四氟化碳用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。四氟化碳是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。不燃气体，遇高热后容器内压增大，有开裂危险。化学性质稳定，不燃。常温下只有液氨-金属钠试剂能发生作用。 .由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应。南京四氟化碳高性价比的选择

    在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，发挥性较高，是稳定的有机化合物之一，在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，只在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及％（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 南京四氟化碳高性价比的选择由于四氟化碳的化学稳定性。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时，由于四氟化碳的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。

R-14商品名称Reflube14。R-14属于FC类物质——对臭氧层没有破坏、但存在温室效应；目前对于R14制冷剂的生产、销售以及在新制冷设备上的初装、售后设备上的再添加均没有限制。四氟化碳（四氟甲烷/全氟甲烷）CF4R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon14等，中文名称四氟化碳、四氟甲烷，英文名称CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane，化学式CF4，产品用途R-14作为一款特种**温制冷剂，主要应用于要求温度非常低的深冷设备中（包括科研制冷、医用制冷等），R14同时也是**温配合冷媒的重要组分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。

开放的深入，使中国气体行业得以借助他国优势，弥补在技术和设备上的空白。然而，这也为中国特气行业的发展埋下了隐患。这一时期，中国半导体行业引进的大多为技术含量低的封测工序，在供应链中处于劣势状态，直接影响到上游特种气体的生产和供应水平。同时，由于下游半导体产业的发展原动力完全依赖政策投入，重视短期成果和效益，缺少长远观念，这种饮鸩止渴的思维一直蔓延到特气领域。靠与外国企业合作，就能收获不错的效益，加之技术上的差距又十分悬殊，很少有企业静下心来搞研发。相反，前沿的国外气体公司为了保持地位，每年在研发上投入巨额资金。以1995年为例，各主要气体公司研发投入为6100万美元，为1.446亿美元，这一支出在净利润中的占比达36.75%。值得一提的是，当年，英国BOC加工设备公司还设计开发了一种现场用的组装式制氮装备，特别适用于电子、金属等领域的生产。

四氟化碳是稳定的有机化合物之一。南京四氟化碳高性价比的选择

四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高。南京四氟化碳高性价比的选择

 四氟化碳有  制冷、气体绝缘、干蚀刻气、氟化剂、表面处理剂、激光气体泄漏检验剂等用途。四氟化碳为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。    可以用聚四氟乙烯，环氧树脂和醋酸纤维。尼龙在高温，有水和空气时变脆。聚三氟氯乙烯聚合体可以用，但稍微有膨胀。废气可直接排人大气中。南京四氟化碳高性价比的选择