上海市四氟化碳高性价比的选择

四氟甲烷(CF4)是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蚀刻。同时，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料等行业。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格将会长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广的发展潜力。四氟化碳有哪些作用？上海市四氟化碳高性价比的选择

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性Chemicalbook极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，四氟化碳（CF4）以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体市场，因此具有广阔的发展潜力。扬州安全四氟化碳推荐企业四氟化碳没有腐蚀性。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时，由于四氟化碳的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。在使用四氟化碳的同时，也要注意使用四氟化碳的注意事项，如在泄漏时，应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。如有可能，即时使用。漏气容器要妥善处理，修复、检验后再用。

四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，也可以广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，铝合金门窗制造、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。同时，由于四氟化碳的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。四氟化碳是不燃性压缩气体。

质量指标纯度（%）≥99.99水份（PPm）≤10酸度（PPm）≤0.3蒸发残留物（PPm）≤100％物理性质分子量88.0沸点（1atm），℃-128临界温度，℃-45.67临界压力，kPa3740饱和蒸气压（25℃），kPa3650（-45.6℃）汽化热/蒸发潜热（沸点下，1atm），kJ/kg-破坏臭氧潜能值（ODP）0全球变暖潜能值(GWP，100yr)5700ASHRAE安全级别A1（无毒不可燃）化学性质相对分子量88.00。在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是**稳定的有机化合物之一，不易溶于水。在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，*在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。在使用四氟化碳的同时。苏州节能四氟化碳高性价比的选择

四氟化碳也可作为低温制冷剂、低温绝缘介质。上海市四氟化碳高性价比的选择

    四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程，使尺寸和形状得到更好的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项异性控制）。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 上海市四氟化碳高性价比的选择

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