动态配气技术就是能连续不断的配制和供给一定浓度的标准气体。用动态配气技术配制标准气体时,首先需要一个能连续不断供给原料气的气源,作为这种配气方法的气源有钢瓶标准气和渗透管等。1.钢瓶气动态配气法在消防实际工作中,所用标准气体的浓度有时需要大,有时需要小。钢瓶标准气虽有不同浓度的规格供应,但购置各种浓度的标准气体,不仅代价太高,而且不一定能及时办到。较好的办法是购置一个浓度较高的标准气瓶,需要低浓度标准气体时,用钢瓶标准气作原料气,压缩空气(由低压空气钢瓶或空压机供给)作稀释气,将它们按图4连接,就可从取气口得到所需浓度的标准气体。740)">所配制的标准气体的浓度,可用改变原料气及稀释气的流量比进行调节,并可按下式计算:740)">式中:z:所配标准气体的浓度(ppm);L:钢瓶标准气的浓度(ppm);Qs:钢瓶标准气的流量(Lömin);Qa:压缩空气的流量(Lömin;用此法配气时,在压缩空气的管路中应安装选择性过滤器(净化器),以除去空气中影响配气纯度的杂质。此外配气出口的总流量应略大于用气口的流量,以保证所配气体的浓度与纯度。2.渗透管动态配气法(1)渗透管及渗透率的测定渗透管是动态配气法中的另一种气源,其结构见图5。740)">。福建二氧化碳标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。便携式气体厂家
混合罐。标准气体分压法1、适用范围分压法适用于制备常温下是气体，含量在1~60%的标准混合气体2、所需设备配气设备：气瓶汇流排，压力表，阀门，真空泵，管道，气瓶卡具。标准气体扩散法1、适用范围扩散法适用于制备常温下是液体的有机气体2、所需设备配气设备：气瓶，阀门，流量控制阀，流量计，液体组分，分析仪表气瓶，卡具。标准气体容积法1、适用范围静态容积法适用于实验室制备多种小、少量的标准气体，压力接近大气压力。2、所需设备配气设备：气瓶，气瓶减压阀门，定体积管，压力计，真空泵。标准气体饱和法1、适用范围饱和法法适用于易于冷凝的气体和蒸汽。2、所需设备配气设备：气瓶，气瓶减压阀门，冷凝器，饱和器，恒温控制器，压力计，循环风机。标准气体流量法1、适用范围流量比法法是动态配气方法，是严格控制一定比例的组分气体和释稀释气体的流量，经混合而得到的标准气体。2、所需设备气瓶，气瓶减压阀门，单向阀，流量控制器，压力表，管道，机箱。标准气体稀释法1、适用范围稀释法法法是制备低含量标准气体的方法之一。2、所需设备气瓶，气瓶减压阀门，流量控制器，压力表，管道。标准气体体积法1、适用范围体积比法是简单的配气方法。成都乙烷标准气体推荐厂家成都工业气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
容器选择盛装标准气体的容器应由耐腐蚀、抗压、吸附少、不生锈、化学特性稳定、机械强度高的材料制成,通常使用的高压容器是铝合金瓶,而碳钢瓶因其内壁不光滑、吸附大而被逐步淘汰。预处理盛装标准气体的钢瓶使用前应进行表面清洁、涂漆处理,然后,将钢瓶加温至100℃左右,同时抽真空处理约4h。钢瓶处理完毕后,必须分析其H2O、O2等杂质含量,合格后方可使用。气体要求配制10%的CH4/Ar四瓶,进行为期一年的稳定性考察,见表1,实验结果表明,由于铝合金钢瓶内壁比较光滑,因此在盛装一般长久气体时性质稳定,变化不大,钢瓶不用特殊处理,即可满足此类标准气体稳定性的要求。在配制COS、H2S、SO2等气体时,必须对钢瓶进行KG或CM处理,即为了防止容器内壁因吸附或解吸等带来的影响。先对容器内壁进行镜面研磨,涂上防氧化漆,然后把高浓度气体充入容器内并放置10d左右,从而提高标准气体的稳定性。用未经KG或CM处理的钢瓶配制mg/m3,COS/N2一瓶,实验结果见图1。用经KG处理的钢瓶配制mg/m3COS/N2一瓶,实验结果见图2。以上实验结果表明。配制易吸附标准气体时,钢瓶必须经KG或CM处理,才能保证其稳定性可靠,否则,组分气的含量变化很大,不宜作为标准气体来使用。
氩气是无色、无味、单原子的惰性气体，原子量为39．948，密度为1．78kg／m3（空气密度为1．29kg／m3）。氩气的重量是空气的1．4倍，可在熔池上方形成一层稳定的气流层，具有良好的保护性能。另外在焊接过程中，产生的烟雾较少，便于控制焊接熔池和电弧。氩气是一种惰性气体，在常温下与其它物质均不发生化学反应，在高温下也不溶于液态金属中，故在焊接有色金属时更能显示其优越性氩气是一种单原子气体，在高温下，氩气直接离解为正离子和电子，因此能量损耗低，电弧燃烧稳定。同时分解后的正离子体积和质量较大，对阴极的冲击力很强，具有强烈的阴极破碎作用。氩气对电弧的冷却作用小，所以电弧在氩气中燃烧时，热量损耗小，稳定性比较好。氩气对电弧的热收缩效应较小，加上氩弧的电位梯度和电流密度不大，维持氩弧燃烧的电压较低，一般10V即可。故焊接时电弧拉长，其电压改变不大，电弧不易熄灭。这点对手工氩弧焊非常有利。氩气是制氧的副产品，因为氩气的沸点介于氧、氮之间，差值很小，所以在氩气中常残留一定数量的杂质。焊接用氩气按我国GB4842－84（氩气及其检验方法）标准要求，其纯度应达到99．99％。具体技术要求见下表，如果氩气中的杂质含量超过规定标准。成都乙烯标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
RareGases)：元素周期表**后一族的六种惰性气体中的任何一种气体,即氦、氖、氩、氪、氙、氡。**种气体均可以空气分离方法从空气中提取。13.低压液化气体(LowPressureLiquefiedGases)：临界温度大于70℃的气体。区分为不燃无毒和不燃**、酸性腐蚀性气体;可燃无毒和可燃**、酸性腐蚀性气体;易分解或聚合的可燃气体。此类气体在充装时以及在允许的工作温度下贮运和使用过程中均为液态。包括的气体品种有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟环丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光气、氟化氢、溴化氢、二氧化硫、硫酰氟、二氧化氮、液压石油气、丙烷、环丙烷、丙烯、正丁烷、异丁烷、1-丁烯、异丁烯、顺-2-丁烯、反-2-丁烯、R142b、R143a、R152a、氯乙烷、二甲醚、氨、乙胺、一甲胺、二甲胺、三甲胺、甲硫醇、硫化氢、氯甲烷、溴甲烷、砷烷、1,3—丁二烯、氯乙烯、环氧乙烷、乙烯基甲醚、溴乙烯。14.高压液化气体(HighPressureLiquefiedGases)：临界温度大于或等于-10℃且小于或等于70℃的气体。区分为不燃无毒和不燃**气体;可燃无毒和自燃**气体;易分解或聚合的可燃气体。此类气体充装时为液态。一氧化氮标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。成都乙烷标准气体推荐厂家
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CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉,而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。6.掺杂气体(DopantGases)：在半导体器件和集成电路制造中,将某种或某些杂质掺入半导体材料内,以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率,用来制造PN结、电阻、埋层等。掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体。便携式气体厂家
