新旧半导体设备进口报关办理机电证、CCIC等需一般资料是：1、申请表2、申请报告（报告详细写明企业的基本情况、生产情况、进口机电设备的用途、生产制造日期、使用年限、现在状况，如生产日期较早必须作出特殊情况说明）3、机电设备检测说明，必须出具国家检验机构或机电设备供应商提供的检测报告。4、企业的营业执照、批准证书（外商投资企业须提供）5、设备清单（含原产地、品牌、型号、货值、生产年份、使用年限等）6、机电设备彩色照片7、工作联系单新旧半导体清关一般所需资料：A进口法定检验B进口机电许可证(旧)C进口旧机电产品装运前检验证书(我国九个驻外商检机构:日本、香港、不莱梅、马赛、伦敦、加拿大、欧洲、北美、西班牙）D进口口岸检疫局办的进口旧机电产品备案申请书E如进口的机器是印刷机就需要到国家总暑办理印刷经营许可证F如产品税号涉及到国家强制认证的需提供3C证书G如进口国为美日韩欧盟等国家的还需提供IPPC。进口半导体设备需要获得进口许可证。深圳办理半导体设备进口报关常见问题
晶圆加工设备中，光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备(PVD和CVD)技术难度比较高，三者占比分别为30%、25%、25%。预计2019年全球光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备市场规模分别为127亿美元、106亿美元和106亿美元。全球竞争格局高度集中，CR5占比75%2018年全球半导体设备榜单名包括应用材料、东京电子、拉姆研究、ASML和科磊半导体。除ASML外，各家公司产品线均比较丰富，且名企业营收均超过一百亿美元。半导体设备高门槛导致竞争格局高度集中。目前全球半导体设备市场主要被美国、日本、荷兰企业所垄断。2018年行业CR5占比75%，CR10占比91%，全球半导体设备竞争格局呈现高度集中状态。，国内设备企业平均自制率为16%，国产设备自制率还有较大提升空间。我国计划到“十三五”末期，国产集成电路设备在国内芯片制造厂的替代率至少达到30%，全球半导体产能大转移为国内集成电路设备企业带来重要历史机遇。2018年我国半导体设备单位完成销售收入，同比增长。目前，我国半导体设备比较大的公司收入与海外巨头差别较大。国内半导体设备公司有望把握国内晶圆厂投资高峰，迎来重要的发展时机。、竞争格局高度集中。国内设备中，有中微公司的介质刻蚀机成功进入了国际前列IC制造厂的工艺线。杭州供应半导体设备进口报关公司半导体设备进口报关需要选择合适的报关代理公司。
导体设备供应商业务通常横跨半导体多领域，在各细分领域拥有各异的竞争优势与商业策略。那么半导体的投资机会何在？为获得更的视角，申港证券机械行业分析师夏纾雨在进门财经路演时，站在全局角度依据产业链制造顺序逐一分析市场空间与竞争格局。1、硅定义:应用为的半导体材料硅为地壳第二大丰富元素，在地壳中的含量约为27%，排名次于氧。20世纪60年代，以硅氧化与外延生长为前导的硅平面器件工艺形成从而带来硅集成电路的大发展。作为应用为的半导体材料，约99%的集成电路与约95%的太阳能电池由硅制造而成。从硅原料到硅片，主要工艺流程包括:提纯制成多晶硅→区熔法/直拉法制成区熔单晶硅/直拉单晶硅→硅片/抛光片外延片等。硅的同素异形体包括结晶形与无定形，其中，结晶形进一步分为单晶与多晶。熔融的单质硅凝固时硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，根据晶核晶面取向的相同与否，形成对应的单晶硅或多晶硅。多晶硅可用于制造单晶硅的原料。
得益于储存芯片和逻辑芯片对10/7nm先进工艺的强劲需求，早些的预测都看好2018年半导体设备的稳健增长。2017年半导体设备支出将达到创纪录的历史比较高水平，截止目前看来，这种势头很可能会持续到2018年。今年，由于对3DNAND闪存和程度稍小的DRAM的巨大需求，半导体设备制造商发现自己正处于一个意想不到的繁荣周期之中。但在逻辑/代工业务方面，2017年的设备需求却相对温和。尽管该行业在2018年将难以超过2017年创纪录的增长数字，不过对设备需求看起来仍很强劲。事实上根据目前的预测，预计集成电路设备市场将会有一点降温，在2018年看到更正常一点的增长模式。据VLSIResearch的数据显示，2017年半导体设备市场总值预计达704亿美元，较2016年上升％。同样根据VLSIResearch的预测，到2018年IC设备市场预计将达到735亿美元，比2017年增长％。图1：半导体设备市场增长数据来源：VLSIResearch当然，预测很可能变化，因为有许多可能会影响半导体设备行业的因素。和以前一样，经济因素和问题在这个领域扮演着重要的角色。不过，半导体设备供应商仍很乐观。应用材料公司市场和业务发展副总裁ArthurSherman说：“我们预计2018年是WFE。半导体设备的进口已经成为了许多企业的必然选择。
薄膜沉积设备:应用材料在PVD领域优势明显集成电路薄膜材料制造采用的工艺为物相沉积PVD(PhysicalVaporDeposition)与化学气相沉积CVD(ChemicalVaporDeposition)等。物相沉积指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积，包括蒸发、溅射、离子束等。化学气相沉积指将含有薄膜元素的气体通过气体流量计送至反应腔晶片表面反应沉积，包括低压化学气相沉积LPCVD、金属有机化合物气相沉积MOCVD、等离子体增强化学气相沉积PECVD等。原子层沉积ALD属于化学气相沉积的一种，区别在于化学吸附自限制(CS)与顺次反应自限制(RS)，每次反应只沉积一层原子，从而具备成膜均匀性好、薄膜密度高、台阶覆盖性好、低温沉积等优点，适用于具有高深宽比、三维结构基材。全球竞争格局:集成电路PVD领域主要被美国应用材料(AppliedMaterials)、瑞士Evatec、日本爱发科(Ulvac)所垄断，其中应用材料占比约85%;CVD领域全球主要供应商为美国应用材料(AppliedMaterials)、东京电子(TokyoElectron)、泛林半导体(LamResearch)，其中应用材料占比约30%。国内竞争格局:国内集成电路领域沉积设备供应商主要为沈阳拓荆与北方华创。沈阳拓荆:两次承担国家“02专项”。进口半导体设备需要进行海关申报。连云港办理半导体设备进口报关诚信合作
半导体设备进口报关是一个非常重要的环节，需要企业认真对待。深圳办理半导体设备进口报关常见问题
进口半导体免税的范围如下：（1）对符合《外商投资产业指导目录》的鼓励类和限制乙类，并转让技术的外商投资项目，在投资总额内进口的自用设备，除《外商投资项目不予免税的进口商品目录》所列的商品外，免征关税和进口环节增值税。对于符合条件的外资项目，由项目审批单位（自治区外经贸厅或自治区经委）明确批复，并出具《国家鼓励发散发展的内外资项目确认书》，海关依据项目确认书，对照《外商投资项目不予免税的进口商品目录》，办理进口设备免税手续。外国垡和国际组织项目进口的自用设备、加工贸易外商提供的不作价进口设备，比照上述规定执行。（2）对符合《当前国家重点鼓励发展的产业、产品和技术目录》的国内投资项目，在投资总额内进口的自用设备，除《国内投资项目不予免税的进口商品目录》所列商品外，免征关税和进口环节增值税。对于符合条件的国内鼓励项目，由项目审批单位（自治区计委或自治区经贸委）明确批复，并出具《国家鼓励发展的内外资项目确认书》，海关依据项目确认书，对照《国内投资项目不予免税的进口商品目录》，办理进口设备自鸣得意手续。（3）对符合上述规定的项目，按照合同随设备进口的技术及配套件、备件，也免征关税和进口环节增值税。深圳办理半导体设备进口报关常见问题
