了解PCB设计功能

PCBLAYOUT规范PCBLayout整个流程是：网表导入-结构绘制-设计规划-布局-布线-丝印调整-Gerber输出。1.1网表导入网表导入子流程如下：创建PCB文件→设置库路径→导入网表。创建PCB文件（1）建立一个全新PCBLayout文件，并对其命名。（2）命名方式：“项目名称+日期+版本状态”，名称中字母全部大写，以日期加上版本状态为后缀，用以区分设计文件进度。举例：ABC123_1031A1其中ABC123为项目名称，1031为日期，A1为版本状态，客户有特殊指定要求的除外。（3）改版沿用上一版的PCB文件。设置库路径（1）将封装库文件放入LIB文件夹内或库文件内，由客户提供的封装及经我司封装组确认的封装可直接加入LIB文件夹内或库文件内，未经审核的封装文件，不得放入LIB文件夹内或库文件内。（2）对设计文件设置库路径，此路径指向该项目文件夹下的LIB文件夹或库文件，路径指向必须之一，禁止设置多指向路径。PCB典型的电路设计指导。了解PCB设计功能

调整器件字符的方法还有：“1”、“O”、△、或者其他符号要放在对应的1管脚处；对BGA器件用英文字母和阿拉伯数字构成的矩阵方式表示。带极性器件要把“+”或其他标识放在正极旁；对于管脚较多的器件要每隔5个管脚或者收尾管脚都要标出管脚号（6）对于二极管正极标注的摆放需要特别注意：首先在原理图中确认正极对应的管脚号（接高电压），然后在PCB中，找到对应的管脚，将正极极性标识放在对应的管脚旁边7）稳压二级管是利用pn结反向击穿状态制成的二极管。所以正极标注放在接低电压的管脚处。湖北常规PCB设计批发京晓科技给您分享屏蔽罩设计的具体实例。

评估平面层数，电源平面数的评估：分析单板电源总数与分布情况，优先关注分布范围大，及电流大于1A以上的电源(如:+5V，+3.3V此类整板电源、FPGA/DSP的核电源、DDR电源等）。通常情况下：如果板内无BGA封装的芯片，一般可以用一个电源层处理所有的电源；如果有BGA封装的芯片，主要以BGA封装芯片为评估对象，如果BGA内的电源种类数≤3种，用一个电源平面，如果＞3种，则使用2个电源平面，如果＞6则使用3个电源平面，以此类推。备注：1、对于电流＜1A的电源可以采用走线层铺铜的方式处理。2、对于电流较大且分布较集中或者空间充足的情况下采用信号层铺铜的方式处理。地平面层数的评估：在确定了走线层数和电源层数的基础上，满足以下叠层原则：1、叠层对称性2、阻抗连续性3、主元件面相邻层为地层4、电源和地平面紧耦合（3）层叠评估:结合评估出的走线层数和平面层数，高速线优先靠近地层的原则，进行层叠排布。

工艺方面注意事项（1）质量较大、体积较大的SMD器件不要两面放置；（2）质量较大的元器件放在板的中心；（3）可调元器件的布局要方便调试（如跳线、可变电容、电位器等）；（4）电解电容、钽电容极性方向不超过2个；（5）SMD器件原点应在器件中心，布局过程中如发现异常，通知客户或封装工程师更新PCB封装。布局子流程为：模块布局→整体布局→层叠方案→规则设置→整板扇出。模块布局模块布局子流程：模块划分→主芯片放置并扇出→RLC电路放置→时钟电路放置。常见模块布局参考5典型电路设计指导。整板布线的工艺技巧和规则。

ADC/DAC电路：（2）模拟地与数字地处理：大多数ADC、DAC往往依据数据手册和提供的参考设计进行地分割处理，通常情况是将PCB地层分为模拟地AGND和数字地DGND，然后将二者单点连接，（3）模拟电源和数字电源当电源入口只有统一的数字地和数字电源时，在电源入口处通过将数字地加磁珠或电感，将数字地拆分成成模拟地；同样在电源入口处将数字电源通过磁珠或电感拆分成模拟电源。负载端所有的数字电源都通过入口处数字电源生成、模拟电源都通过经过磁珠或电感隔离后的模拟电源生成。如果在电源入口处（外部提供的电源）既有模拟地又有数字地、既有模拟电源又有数字电源，板子上所有的数字电源都用入口处的数字电源生成、模拟电源都用入口处的模拟电源生成。ADC和DAC器件的模拟电源一般采用LDO进行供电，因为其电流小、纹波小，而DC/DC会引入较大开关电源噪声，严重影响ADC/DAC器件性能，因此，模拟电路应该采用LDO进行供电。京晓科技与您分享等长线处理的具体步骤。正规PCB设计功能

PCB设计中PCI-E接口通用设计要求有哪些？了解PCB设计功能

存储模块介绍：存储器分类在我们的设计用到的存储器有SRAM、DRAM、EEPROM、Flash等，其中DDR系列用的是多的，其DDR-DDR4的详细参数如下：DDR采用TSSOP封装技术，而DDR2和DDR3内存均采用FBGA封装技术。TSSOP封装的外形尺寸较大，呈长方形，其优点是成本低、工艺要求不高，缺点是传导效果差，容易受干扰，散热不理想，而FBGA内存颗粒精致小巧，体积大约只有DDR内存颗粒的三分之一，有效地缩短信号传输距离，在抗干扰、散热等方面更有优势，而DDR4采用3DS(3-DimensionalStack)三维堆叠技术来增大单颗芯片容量，封装外形则与DDR2、DDR3差别不大。制造工艺不断提高，从DDR到DDR2再到DDR3内存，其制造工艺都在不断改善，更高工艺水平会使内存电气性能更好，成本更低；DDR内存颗粒大范围采用0.13微米制造工艺，而DDR2采用了0.09微米制造工艺，DDR3则采用了全新65nm制造工艺，而DDR4使用20nm以下的工艺来制造，从DDR～DDR4的具体参数如下表所示。了解PCB设计功能

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