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通常用于金属层蚀刻的铜酸蚀刻溶液主要成分为过氧化氢和一些添加剂；过氧化氢用于对金属进行氧化，而添加剂则主要将氧化物酸化成离子态，使其溶解于溶液中，并且维持蚀刻特性要求。由于过氧化氢同时具有氧化性和还原性，其可以将铜氧化，也可以被金属离子催化发生歧化分解反应，生成氧气。如果此反应速度过快，则会生热乃至引起等安全事故。与此同时，二价铜离子也具有一定的氧化性，当蚀刻时间较长，所述铜酸蚀刻溶液体系内的铜离子含量较高时，溶液的蚀刻特性会发生变化，以至于蚀刻达不到要求，所述铜酸蚀刻溶液不能够再进行蚀刻，即达到蚀刻寿命。基于以上两个方面，过氧化氢体系的铜酸蚀刻溶液寿命较低，一般为当铜酸溶液中铜离子的浓度达到4000-8000百万分比浓度，则不能再使用。江苏哪些新型BOE蚀刻液推荐厂家维信诺用的哪家的BOE蚀刻液？

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Buffered Oxide Etch，BOE就是buffer oxide etch， B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（体积比）的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液，NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度，使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质，对皮肤有强烈的腐蚀性，不小心被溅到，应用大量水冲洗。

BOE（Buffered Oxide Etch），缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸（49%）与水或氟化铵与水混合而成。 苏州性价比较好的BOE蚀刻液的公司联系电话。

在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到比较好的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度比较好水平，蚀刻用过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工艺的要求，又可节省生产成本。蚀刻液再生循环系统有酸性、碱性两大系统，两大系统又可分为萃取法、直接电解法。可将大量原本需要排放的用后蚀刻液还原再生成为可再次使用的再生蚀刻液。从而减少生产废液的排放，回用降低生产成本，且可提取出高纯度电解金属铜。天马微电子用的哪家的BOE蚀刻液？一种BOE蚀刻液推荐厂家

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    酸性蚀刻是制造印刷电路板过程中必不可少的工序，酸性蚀刻工序利用酸性蚀刻液在蚀刻机内完成。酸性蚀刻液包括酸性蚀刻子液和酸性蚀刻母液。通过再生循环方法提取铜回收废液继续使用，可以明显减少环境的污染，电解反应是通过阳极的氧化作用使一价铜变为二价铜，使得蚀刻液恢复再生能力，而阴极则通过还原作用来沉积铜，使得蚀刻液具备蚀刻的负载能力。但是会产生氯离子，阳极存在氯气析出的问题。氯气的析出不只危害了车间工人的健康，产生空气污染。湖北应用BOE蚀刻液推荐货源