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并控制磁转子12和喷头11每间隔20s旋转10s,也就是说,控制磁转子旋转10s,控制磁转子停止旋转后,控制喷头喷涂抛光液10s,停止喷涂抛光液10s后,控制磁转子旋转10s,以此类推。本发明实施例中,控制部件在脉冲工作模式下,实现减薄和抛光两种工艺交替作用,使得减薄和抛光一体化完成,整个过程稳定,速度快,控制性好,重复度高,无粉尘污染,衬底减薄终厚度达到20μm,抛光面ra<2nm。还需要说明的是,本发明实施例中,在减薄的过程中,可以不断更换磁转子12,如磁转子12工作1小时后,将磁转子12更换为新的磁转子,以使磁转子与待加工表面贴合紧密,避免了传统减薄工艺中由于转子形变误差造成的加工精度失真。此外,本发明实施例中,在完成抛光和减薄后,可以采用直链烷基苯磺酸盐溶剂对待加工部件20进行清洗,用di水冲洗干净,40℃的氮气吹干。之后,将清洗后的待加工部件20和托盘10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min,使得待加工部件20和托盘10自动分离,取出待加工部件20后清洗干净即可。本发明实施例还提供了一种抛光减薄方法,如图5所示,包括:s101:将待加工部件固定在托盘上,待加工部件包括inp基晶圆;可选地。减薄清洗剂,采用科技,为您带来好的清洁效果。广州国产减薄用清洗剂什么价格
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产生不良次品;同时由于所述侧支撑件44的移动,可带动玻璃在所述玻璃加工治具4上的摆动,从而实现玻璃与喷淋液的充分均匀接触。较佳的,所述底座41和实施支撑架42上均设置有若干流通孔,所述流通孔便于所述玻璃加工治具4上的所述喷淋液流至所述收集槽内。实施例四所述支撑架42包括对应设置的架体和第二架体,所述架体和所述第二架体均固定设置在所述底座41上,所述架体包括平行对应设置的两竖直平板421,所述第二架体为与所述竖直平板421连接的对应两侧板422,所述架体和所述第二架体形成盛放部,玻璃设置在所述盛放部内;所述侧板422和所述竖直平板421可均固定设置于所述底座41上,也可相互固定连接形成稳定的矩形框架。所述架体和所述第二架体均设置有若干所述侧支撑件44,且所述侧支撑件44对应所述底支撑件43设置。较佳的,所述架体上固定设置有若干固定孔,所述侧支撑件44可根据玻璃的具体尺寸在相应所述固定孔上固定设置;所述第二架体上设置有调节槽,对应所述调节槽还设置有固定板423,所述固定板423的两端分别设置在对应两所述侧板422的所述调节槽上,并可在所述调节槽内调节移动,从而可使所述玻璃加工治具4适用于不同尺寸的玻璃放置。一般的。南通半导体减薄用清洗剂替代