企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

本发明涉及化学制剂技术领域:,特别涉及一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液。背景技术::随着半导体制造技术以及立体封装技术的不断发展,电子器件和电子产品对多功能化和微型化的要求越来越高。在这种小型化趋势的推动下,要求芯片的封装尺寸不断减小。3d叠层粉妆技术的封装体积小,立体空间大,引线距离短,信号传输快,所以能够更好地实现封装的微型化。晶圆叠层是3d叠层封装的一种形式。叠层晶圆在制造的过程中会对**外层的晶圆表面进行显影蚀刻,当中会用到光刻胶剥离液。苏州口碑好的剥离液公司。无锡天马用的蚀刻液剥离液哪里买

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以往的光刻胶剥离液对金属的腐蚀较大,可能进入叠层内部造成线路减薄,药液残留,影响产品的质量。因此有必要开发一种不会对叠层晶圆产生过腐蚀的光刻胶剥离液。技术实现要素:本发明的主要目的在于提供一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液,既具有较高的光刻胶剥离效率,又不会对晶圆内层有很大的腐蚀。本发明通过如下技术方案实现上述目的:一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液,配方包括10~20wt%二甲基亚砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氢氧化铵,~1wt%硫脲类缓蚀剂和~2wt%聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去离子水。具体的。浙江哪家蚀刻液剥离液销售公司剥离液的价格哪家比较优惠?

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 如遇水,图案则随着背胶的脱落而脱落。这种印刷方法是通过滚筒式胶质印模把沾在胶面上的油墨转印到纸面上。由于胶面是平的,没有凹下的花纹,所以印出的纸面上的图案和花纹也是平的,没有立体感,防伪性较差。胶版印刷所需的油墨较少,模具的制造成本也比凹版低。目前我国汽车尾气直接排入空气中,并未进行回收处理,对空气造成了巨大污染,同时会对人体造成伤害。技术实现思路本**技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种印刷品胶面印刷剥离复合装置。

    按照组成成分和应用工艺不同,湿电子化学品可分为通用性和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品以超净高纯试剂为主,一般为单组份、单功能、被大量使用的液体化学品,按照性质划分可分为:酸类、碱类、有机溶剂类和其他类。酸类包括氢氟酸、硝酸、盐酸、硫酸、磷酸等;碱类包括氨水、氢氧化钠、氢氧化钾等;有机溶剂类包括甲醇、乙醇、异丙醇、**、乙酸乙酯等;其他类包括双氧水等。功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品,即在单一的超净高纯试剂(或多种超净高纯试剂的配合)基础上,加入水、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂混合而成的化学品。例如剥离液、显影液、蚀刻液、清洗液等。由于多数功能湿电子化学品是复配的化学品,是混合物,它的理化指标很难通过普通仪器定量检测,只能通过应用手段来评价其有效性。 剥离液蚀刻后如何判断好坏 ?

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    但现有的回收装置普遍存在如下问题:剥离废液利用水洗装置水洗过滤出光刻胶树脂成分,回收率低。为了解决这一问题,现有技术通常再向剥离废液中加入沉淀剂继续反应,而后沉淀过滤出光刻胶树脂成分,但所得到的光刻胶树脂成分品质不宜再用于光刻胶原料,只能用于其他要求较低的树脂需求场所。技术实现要素:本实用新型的目的是为了提供一种结构设置更为合理、使用方便可靠的光刻胶废剥离液回收装置,从根本上解决现有回收装置回收率低的问题,同时分级回收输出线性酚醛树脂成分,分级储存,以用于不同场合,物尽其用。为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种光刻胶废剥离液回收装置,包括搅拌釜和与搅拌釜连通的过滤罐,搅拌釜顶部设有废剥离液投料口,其技术要点是:所述过滤罐的数量为两个,由一级过滤罐和二级过滤罐组成,所述一级过滤罐和二级过滤罐在垂直方向上位于搅拌釜下方,一级过滤罐和二级过滤罐的进料管路分别与搅拌釜底部连通,且进料管路上分别设有电磁阀,所述一级过滤罐的底部出液口连接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端与搅拌釜顶部的循环料口连通,所述搅拌釜顶部另设有功能切换口。剥离液适用于哪些行业。浙江什么剥离液厂家现货

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    本实用新型涉及光刻胶生产设备,具体是一种光刻胶废剥离液回收装置。背景技术:光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,其是由溶剂、感光树脂、光引发剂和添加剂四种成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下,进行光化学反应,经曝光、显影等过程,将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上,然后进行蚀刻等工艺加工,终得到所需图像。其中,溶剂使光刻胶具有流动性,易挥发,对于光刻胶的化学性质几乎没有影响。感光树脂是惰性的聚合物,用于把光刻胶中的不同材料聚在一起的粘合剂,给予光刻胶其机械和化学性质。光引发剂是光刻胶中的光敏成分,对光能发生光化学反应。添加剂是控制光刻胶材料特殊方面的化学物质,用来控制和改变光刻胶材料的特定化学性质或响应特性。在光刻工艺中,一般步骤为匀胶—干燥—前烘--曝光—显影—后烘—蚀刻—剥离。在光刻胶剥离工序中会产生剥离废液,光刻胶价格昂贵,如不对废液中的光刻胶成分回收利用,会造成较大的资源浪费,因此企业通常将剥离废液中的光刻胶树脂进行有效回收并应用于再生产中。无锡天马用的蚀刻液剥离液哪里买

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