通常用于金属层蚀刻的铜酸蚀刻溶液主要成分为过氧化氢和一些添加剂;过氧化氢用于对金属进行氧化,而添加剂则主要将氧化物酸化成离子态,使其溶解于溶液中,并且维持蚀刻特性要求。由于过氧化氢同时具有氧化性和还原性,其可以将铜氧化,也可以被金属离子催化发生歧化分解反应,生成氧气。如果此反应速度过快,则会生热乃至引起等安全事故。与此同时,二价铜离子也具有一定的氧化性,当蚀刻时间较长,所述铜酸蚀刻溶液体系内的铜离子含量较高时,溶液的蚀刻特性会发生变化,以至于蚀刻达不到要求,所述铜酸蚀刻溶液不能够再进行蚀刻,即达到蚀刻寿命。基于以上两个方面,过氧化氢体系的铜酸蚀刻溶液寿命较低,一般为当铜酸溶液中铜离子的浓度达到4000-8000百万分比浓度,则不能再使用。苏州口碑好的BOE蚀刻液公司。河南什么是BOE蚀刻液
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸和硝酸的混合水溶液。现有的制备装置在进行制备时会发热反应,使得装置外壳稳定较高,工作人员直接接触有烫伤风险,热水与盐酸接触会产生较为剧烈的反应,溅出容易伤害工作人员,保护性不足,盐酸硝酸具有较强的腐蚀性,常规的搅拌装置容易被腐蚀,影响蚀刻液的质量,用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌,成本过高,且混合的效果不好。所以,如何设计一种ito蚀刻液制备装置,成为当前要解决的问题。工业级BOE蚀刻液销售电话哪家BOE蚀刻液的的性价比好。
Buffered Oxide Etch,BOE就是buffer oxide etch, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,不小心被溅到,应用大量水冲洗。
BOE(Buffered Oxide Etch),缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成。
Cu2+的蚀刻作用由次要地位而跃居主要地位,此时蚀刻速率慢,即应考虑蚀刻液的更新。一般工厂很少分析和测定蚀刻液中的含铜量,多以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。蚀刻铜箔的同时,还伴有一些副反应,就是CuCl2和FeCl3的水解反应:FeCl3+3H2O→Fe(OH)3↓+3HClCuCl2+2H2O→Cu(OH)2↓+2HCl生成的氢氧化物很不稳定,受热后易分解:2Fe(OH)3→Fe2O3↓+3H2OCu(OH)2→CuO↓+H2O结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒,悬浮于蚀刻液中,对抗蚀层有一定的破坏作用。2.影响蚀刻速率的因素Fe3+的浓度和蚀刻液的温度蚀刻液温度越高,蚀刻速率越快,温度的选择应以不损坏抗蚀层为原则。Fe3+的浓度对蚀刻速率有很大的影响。蚀刻液中Fe3+浓度逐渐增加,对铜的蚀刻速率相应加快。当所含Fe3+超过某一浓度时,由于溶液粘度增加,蚀刻速率反而有所降低。哪家的BOE蚀刻液配方比较好?
多级逆流萃取性能优势:1、新型设备采用多级连续萃取,效率离萃取效果好,处理能力大;2、设备运行成本低,功耗只有传统设备的1/10~1/3,萃取剂的损耗低;3、传质效率高,级效率高,同等处理量下,所需设备台数要比传统的设备台数少;4、便于管理:开停车方便,停车后不破坏平衡,可以单台操作,也可以多台连续运行,根据需要而定;5、应用范围广,可以用于石油化工、制yao、环保、油水分离等多个领域,而且可以适用于各种不同的体系。多级逆流萃取使用离心萃取机处理含酚废水成本低,而且效果好,是非常合适的选择。高浓度COD有机废水的种类有很多,比如焦化废水、造纸废水、废水、纺织废水、印染废水、石油/化工废水、垃圾渗滤液等。这些废水在生活中都是非常常见的,所以说,一定要处理好,不然的话,如果直接排放出来,会对环境造成非常大的污染和破坏。那么,高浓度COD有机废水处理用什么设备好呢?前几种方法都或多或少的存在一些缺点,所以说,小编主要想介绍的是溶剂萃取法。萃取:在高浓度COD有机废水中,加入浓硫酸调节废水的PH值,然后加入萃取剂和废水溶解,萃取剂将废水中的COD萃取出来,剩余的废水进入到下一个工段处理;反萃:经过萃取段的萃取剂出来后。BOE蚀刻液的类别一般有哪些。湖北介绍BOE蚀刻液电话
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