背板材料:无氧铜(OFC)–目前经常使用的作背板的材料。因为无氧铜具有良好的导电性和导热性,而且比较容易机械加工。如果保养适当,无氧铜背板可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下,如需要进行高温贴合的条件下,无氧铜容易被氧化和发生翘曲,所以会使用金属钼为背板材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配,同样也需要使用金属钼作为背板材料。不锈钢管(SST)–目前**常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管,因为不锈钢管具有良好的强度和导热性而且非常经济。
背板重复使用大部分背板可以重复使用,尤其是采用金属铟进行贴合的比较容易进行清洁和重新使用。如果是采用其他贴合剂(包括环氧树脂)则可能需要采用机械处理的方式对背板表面处理后才能重复使用。当我们收到用户提供的已使用过的背板后,我们会首先进行卸靶处理(如适用)并且对背板进行完全检查,检查的重点包括背板的平整度,完整性及密封性等。我们会通知用户对背板的检查结果,如我们发现有需要维修的地方会书面通知客户并提供维修报价。 ITO靶材被广泛应用于各大行业之中。新疆ITO陶瓷靶材价钱
靶材开裂影响因素裂纹形成通常发生在陶瓷溅射靶材(如氧化物、碳化物、氮化物等)和脆性材料溅射靶材(如铬、锑、铋等)中。陶瓷或脆性材料目标始终包含固有应力。这些内应力是在靶材制造过程中产生的。此外,这些应力不能通过退火过程完全消除,因为它是这些材料的固有特性。在溅射过程中,轰击的气体离子将其动量传递给目标原子,为它们提供足够的能量来脱离晶格。这种放热动量传递增加了目标的温度,在原子水平上可能达到1,000,000摄氏度。这些热冲击将目标中已经存在的内部应力增加到许多倍。在这种情况下,如果不注意适当的散热,靶材可能会开裂。靶材开裂预防措施为了防止靶材开裂,重要的考虑因素是散热。一方面运用水冷机制来去除靶材中不需要的热能,另一方面考虑提高功率,在很短的时间内提升功率也会给目标带来热冲击。此外,建议将这些靶材绑定到背板上,这不仅为靶材提供支撑,而且还促进靶材与水之间更好的热交换。如果靶材破裂有背板加持的情况下,它仍然可以毫无问题地使用。中国台湾陶瓷靶材陶瓷靶材的制备工艺;
氧化铌由于其独特的物理和化学性质而被广地应用于现代技术的许多领域。例如,利用其较强的紫外线吸收能力,可将其用作紫外敏感材料的保护膜;利用其薄膜折射率较高的特性,可与SiO2等配合可制备具有不同折射率的薄膜。由于这些明显的优点,氧化铌靶材被广地应用于太阳能电池、液晶显示器、离子显示器、收集触屏、光学玻璃、气体传感器等众多领域。随着科技的不断发展以及应用领域的不断延伸,氧化铌靶材的需求量也不断增大。目前,市场上使用的多的是氧化铌平面靶材,大都采用真空热压法来制备。但是采用该方法,氧化铌靶坯厚度较大,加工过程中需要通过机加工剖片工艺加工达到所需的厚度要求。
靶材是制备薄膜的主要材料之一,主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等,对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体即为溅射靶材。靶材发展趋势是:高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属。陶瓷靶材的制备工艺难点;
靶材间隙对大面积镀膜的影响除了致密化,如果靶材在生产过程中出现异常,大颗粒会因受热而脱落或缩孔。结果会形成更多的气孔(内部缺陷),靶材中更大或更密的气孔会因电荷集中而放电,影响使用。靶材密度低,加工、运输或安装时气孔易破裂。相对密度高、孔隙少的靶材具有良好的导热性。溅射靶材表面的热量很容易快速传递到靶材或衬板内表面的冷却水中,保证了成膜过程的稳定性。溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的基材进入高真空镀膜室时,如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话,靶材中的杂质粒子会在溅射过程中附着在玻璃表面,导致某些位置的膜层不牢固,出现剥离现象。因此,靶材的纯度越高,薄膜的性能就越好。ITO溅射靶材的发展趋势!黑龙江ITO陶瓷靶材市场价
靶材相对密度对大面积镀膜的影响靶材的相对密度是靶材的实际密度与理论密度之比。新疆ITO陶瓷靶材价钱
靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。(1)靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的主要部分,涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。(2)背板起到主要起到固定溅射靶材的作用,涉及焊接工艺。由于高纯度金属强度较低,而溅射靶材需要安装在机台内完成溅射过程。机台内部为高电压、高真空环境,因此,超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合,背板需要具备良好的导电、导热性能。新疆ITO陶瓷靶材价钱
江苏迪纳科精细材料股份有限公司总部位于南京市江宁区芳园西路10号九龙湖国际企业园创新中心A座8层,是一家2011年成立,一直专注于PVD磁控溅射靶材的研发、生产、销售、应用推广以及靶材回收再利用。产品涵盖陶瓷靶材、高纯金属靶材、合金靶材、贵金属靶材、等离子喷涂靶材、蒸发镀颗粒及高纯陶瓷粉末。20年专注专业,1站式靶材供应。的公司。公司自创立以来,投身于溅射靶材,陶瓷靶材,金属靶材,等离子喷涂靶材,是电子元器件的主力军。迪纳科材料不断开拓创新,追求出色,以技术为先导,以产品为平台,以应用为重点,以服务为保证,不断为客户创造更高价值,提供更优服务。迪纳科材料始终关注电子元器件市场,以敏锐的市场洞察力,实现与客户的成长共赢。