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本发明的另一个实施例提供了一种整流电路，包括上述任一实施例所述的用于整流电路的肖特基二极管。与现有技术相比，本发明的有益效果：本发明通过对肖特基二极管的材料进行设计，采用应变ge层作为肖特基接触的半导体层，通过对ge材料的能带结构进行调制，使肖特基二极管具有更高的电子迁移率和能带优势，使用该肖特基二极管制备的整流电路具有更高的转换效率；本发明在ge层上增加通过压应力层施加压应力，工艺简单，且生成的应变ge层不会因为晶格失配产生大量缺陷，因此得到的应变ge层质量更好，因此，肖特基二极管的器件性能也更优；本发明的肖特基二极管结构简单，无需设计复杂的二极管结构，元件的互连结构简单。附图说明图1为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的结构示意图；图2为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的制备工艺的流程示意图；图3a～3h为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的工艺示意图。具体实施方式下面结合具体实施例对本发明做进一步详细的描述，但本发明的实施方式不限于此。实施例一请参见图1，图1为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的结构示意图。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管，有想法可以来我司咨询！海南数字二极管制品价格

本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力，n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制，反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变，即改变了导带电子的有效质量，引起各散射机制中散射概率的改变，进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地，将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等，与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言，氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单，且不会因为晶格失配产生大量缺陷，故而能够得到质量更好的压应变ge层，因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地，在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关，具体地，其他工艺条件不变的情况下，压应力层003反应温度越高，压应力层003使ge层002中的产生的应力越大，且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下，压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下，低频功率越大，形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小，则fwg和温度tp的关系满足：fwg＝×fwg的单位为pa，twg的单位为摄氏度。具体地，在其他工艺条件不变的情况下，压强越高。湖南功率二极管费用上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管，有想法的不要错过哦！

根据中国商业资讯研究院的数据，全球通讯行业功率半导体的市场规模将有2017年的亿美元增长至2021年的亿美元，年复合增长率为。功率半导体在物联网行业应用：传感器技术、射频识别技术、二维码技术、微机电系统和GPS技术是实现物联网的五大技术，每一项技术的实现都离不开功率半导体的支持，势必将带来功率半导体需求的增长。另一方面,受移动互联网与物联网的影响，全球集成电路产业的调整力度正在加大。物联网设备需要随时处在供电模式且新增的数据收集及传输环节增大了用电需求，为功率半导体创造了额外的增长空间。后，相比其他设备物联网设备对高精密度和低功率有着更高的要求，出于节能方面的考虑，需要通过加装负载开关等功率半导体原件来实现每一用电端的单独控制，从而降低设备功耗。中商产业研究院数据，中国物联网的产业规模增至7500亿元，“十二五”期间年复合增长率达到25%。预计2020年，中国物联网整体规模将达到万亿元。国内能性。

使用宽禁带半导体材料制造新一代的电力电子器件，可以变得更小、更快、更可靠和更高效。这将减少电力电子元件的质量、体积以及生命周期成本，允许设备在更高的温度、电压和频率下工作，使得电子电子器件使用更少的能量却可以实现更高的性能。根据Yole相关数据的测算，2019年全球功率半导体器件市场规模为381亿美元，预计2022年达到约426亿美元的市场规模，年复合增长率约为。行行查数据库（/#/）全球IGBT市场成长迅速：搜狐科技数据，2017年世界IGBT的市场规模为，预计未来IGBT市场规模将持续增长，到2022年世界IGBT市场规模将达到亿美金，年复合增长率达维持在7%-9%之间。国内新能源车市场政策利好：在国内市场方面，2012年颁布了《关于印发节能与新能源汽车产业的发展规划》后，我国作为全球大的新能源汽车市场市场规模正在迅速扩大。随着2016年新能源汽车的规范与补贴政策陆续出台，市场进入了高速发展阶段。受益支持及国民环保意识的增强，中国新能源汽车的总销量从2017年的67万辆上涨至2019年的112万辆，同比上升。预计在未来几年，中国新能源汽车将保持强劲的增长态势，2020年产量将突破250万辆，2023年突破500万辆未来五年年符合增长率约为。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管，有需求可以来电咨询！

本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现：本发明实施例提供了一种用于整流电路的肖特基二极管，包括：衬底层001、ge层002、压应力层003、金属电极a1、第二金属电极a2，其中，所述ge层002、所述氮化硅层依次层叠设置于所述衬底层001的表面，所述压应力层003设置有电极孔，所述金属电极a1设置于所述ge层002上且设置于所述电极孔中，所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。在本发明的一个实施例中，所述ge层002为n型ge层，掺杂浓度为×1014～2×1014cm-3。在本发明的一个实施例中，所述压应力层003为氮化硅层。在本发明的一个实施例中，所述氮化硅层为si3n4膜。在本发明的一个实施例中，所述压应力层003使所述ge层002内产生压应力，所述ge层002中的压应力的大小与制备所述压应力层003的反应温度相关，其中，所述反应温度越高，所述ge层002中的压应力越大。在本发明的一个实施例中，所述ge层002的厚度为700～800nm。在本发明的一个实施例中，所述衬底层001为n型单晶ge层。在本发明的一个实施例中，所述金属电极a1为钨电极。在本发明的一个实施例中，所述电极孔贯穿所述压应力层003且设置于所述压应力层003中部。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司，有想法的可以来电咨询！江苏数字二极管价目

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可以使用h2so4：h2o2＝5:1的化学试剂去除光刻胶。，在半导体环图案对应区域注入离子，经扩散炉中退火处理在半导体环图案对应区域形成半导体环104。具体地，可以在半导体环图案对应区域注入离子(比如硼离子)，使用h2so4：h2o2＝5:1的化学试剂去除表面沾污，然后送入扩散炉，经过1000℃退火，形成半导体环104。步骤s304，请参照图4d，将半导体环104之间的氧化层103蚀刻掉，在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结108。在氧化层103远离衬底101的一侧涂覆光刻胶层。通过带有肖特基结图案的掩模对光刻胶层进行光刻，在光刻胶层上刻出肖特基结图案。再接着，蚀刻肖特基结图案对应区域的氧化层103。具体地，使用腐蚀溶剂boe(nh4f40％+hf7％)，在211℃的温度条件下，透过肖特基结图案对氧化层103进行腐蚀，将光刻胶层上的半导体环图案转移到氧化层103上。用化学试剂sc2(hcl:h2o2:h2o＝1:1:6-1:2:8)清洗20分钟，去除表面颗粒，然后用hf的水溶液漂30秒去除肖特基结图案内残余氧化层103。，通过物相淀积法，在肖特基结图案对应区域淀积金属和硅形成金属硅化物，得到肖特基结108。通过物相淀积金属(ti/ni/pt/nipt/cr/nicr等金属)，金属淀积后放入扩散炉中退火处理。海南数字二极管制品价格

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