用于降低来自激光源的斑点噪声的方法1100开始于操作1102，在操作1102从***多个vcsel结构发射辐射。辐射可以包括可见光或红外辐射。辐射可以具有大约935nm到大约945nm之间的峰值波长。根据实施例，***多个vcsel结构中的每个vcsel结构具有相同的孔径宽度，使得从***多个vcsel结构发射的辐射在对物体进行照射时产生***斑点图案。从***多个vcsel结构发射的辐射包括部分地取决于孔径宽度的***数目的横向模式。接着，在操作1104，从第二多个vcsel结构发射辐射。第二多个vcsel结构可以被布置在与***多个vcsel结构相同的衬底上。辐射可以包括可见光或红外辐射。辐射可以具有大约935nm到大约945nm之间的峰值波长。根据实施例，第二多个vcsel结构中的每个vcsel结构具有不同于***多个vcsel结构的孔径宽度的相同孔径宽度，使得从第二多个vcsel结构发射的辐射在对物体进行照射时产生第二斑点图案。从第二多个vcsel结构发射的辐射包括部分地取决于孔径宽度第二数目的横向模式。第二数目的横向模式不同于***数目的横向模式。例如，从***多个vcsel结构发射的辐射包括两个或更多个横向模式，而从具有较小孔径宽度的第二多个vcsel结构发射的辐射*包括单个横向模式。菲涅尔透镜的作用是什么？辽宁人体红外透镜结构
之类的其他材料包括使得它们更适用于操纵光学波振面的更高的折射率，但是这种材料对以5:1至10:1之间的更高纵横比进行制造提出了挑战。下面的表2提供了不同材料的概况，包括它们的折射率、比较大效率的厚度、比较大散射效率、以及可见范围中的光吸收。比较大散射效率是通过使用周期性透射sws作为将垂直入射的平面波偏转到特定衍射级的模型系统计算得出的。从表2可以看出，诸如硅和锗之类的材料具有极好的散射效率和高反射率。但是，这些材料还会由于它们的小带隙而吸收可见范围中的光(并且还将部分地吸收近红外波长)。诸如氧化硅和氧化铝之类的材料在可见范围中几乎是透明的，但是具有较低的散射效率，因此限制了它们作为sws材料候选的有用性。诸如氮化硅和氧化钛之类的材料提供了散射效率和低光吸收率的良好混合。根据实施例，在实现对于**造成本至关重要的高制造吞吐量的同时，制造在可见和/或红外范围中将高光约束和低光吸收结合在一起的新型sws设计(这里称为“元原子(metaatom)”)。图8示出了根据实施例的具有圆柱形状的示例元原子800，其中，芯材804被薄壳材806围绕。元原子800被制造在vcsel结构的顶层802上。顶层802可以是vcsel结构的发出光的任意层。热红外透镜按需定制菲涅尔透镜螺距代理价格。
菲涅尔透镜的应用菲涅尔透镜是透镜的一个分支，由于它同其他的透镜相比，具有体积小，重量轻，结构紧凑的优点，同时它拥有不逊于其它透镜的良好聚光性和成像性能，因此在**、航空、空间、工业生产和民用等各个领域获得***的应用。菲涅尔透镜应用在投影系统中的优势就是，通过聚焦或调整光线准直从而增加增体显示亮度，如果取消准直镜，光线在穿过面板时会大量损失，显示中会出现明显的热斑效应，降低显示屏幕四周亮度。同样，在LCD屏幕的另一面，我们也必须将光线从面板上集中到投影透镜中。在观看屏幕前使用菲涅尔透镜所增加的亮度，在下图中看光线分布。比较常用的是以下几个方面的应用：菲涅尔透镜被证明比较好应用就是在投影系统中，其作用就是准直光线和聚焦光线。菲涅尔透镜将光源发出的束光源调整为平行光，显著提高显示面板四周亮度，消除了太阳斑效应，从而提高整体显示亮度均匀性。通常菲涅尔透镜与其他显示元件（如柱面镜）一起使用。菲涅尔透镜应用在投影系统中的优势就是，通过聚焦或调整光线准直从而增加增体显示亮度，如果取消准直镜，光线在穿过面板时会大量损失，显示中会出现明显的热斑效应，降低显示屏幕四周亮度。
焦点和光线在同一侧，通常在其表面进行涂层，作为**反射面使用。1)圆形菲涅尔透镜2)菲涅尔透镜阵列3)柱状菲涅尔透镜4)线性菲涅尔透镜5)衍射菲涅尔透镜6)菲涅尔反射透镜7)菲涅尔光束分离器和菲涅尔棱镜。菲涅尔透镜的作用，简单的说就是在透镜的一侧有等距的齿纹。通过这些齿纹，可以达到对指定光谱范围的光带通(反射或者折射)的作用。传统的打磨光学器材的带通光学滤镜造价昂贵，菲涅尔透镜可以极大的降低成本。典型的例子就是PIR（被动红外线探测器）。PIR普遍的用在警报器上，每个PIR上都有个塑料的小帽，此即菲涅尔透镜。小帽的内部都刻上了齿纹，这种菲涅尔透镜可以将入射光的频率峰值限制到10微米左右（人体红外线辐射的峰值）。小菲涅尔透镜常见问题有哪些？
并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。菲涅尔透镜组生产厂家电话多少？江苏远红外透镜结构
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壳材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或单层原子。图9a至9c示出了根据一些实施例的图案化在vcsel结构的顶层802上的元原子的不同示例。图9a示出了***元结构902，其中，壳材806围绕用于每个元原子的芯材804，但是不覆盖顶层802在每个元原子之间的区域。在蚀刻工艺期间，使用例如光刻胶或硬掩模来保护壳材806的围绕芯材804的部分，以移除壳材806在顶层802的表面上的暴露部分。图9b示出了第二元结构904，其中，壳材906共形地覆盖包括芯材804的所有表面和顶层802的表面。图9c示出了第三元结构906，其中，壳材806*覆盖芯材804的一个或多个侧壁。在沉积壳材806后，可以执行包层各向异性干法蚀刻工艺，以移除壳材806的所有水平平面部分，*留下芯材804的侧壁上的那些部分。图10示出了根据实施例的包括不止一种类型的元原子的元结构1000(这里称为“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根据实施例，***元原子1002包括具有基部1006和顶部1008的芯材。基部1006可以比顶部1008更宽或更窄。第二元原子1004包括芯材1010，并且***元原子1002和第二元原子1004二者被壳材1012环绕。辽宁人体红外透镜结构
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