红外透镜基本参数
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红外透镜企业商机

人们初次使用菲涅尔透镜是在18世纪初,当时它被用在灯塔的探照灯上,聚焦射出来的光束。当人们需要一面又薄又轻的透镜时,塑料菲涅尔透镜便派上了用场。尽管成像质量不如玻璃透镜,但是在很多应用中我们并不需要完美的图像质量。菲涅尔透镜的原理基于菲涅尔波带片,菲涅尔波带片具有类似透镜的作用,它可以使入射光汇聚起来,产生极大的光强。菲涅尔透镜的分类:a)正菲涅尔透镜:光线从一侧进入,经过菲涅尔透镜在另一侧出来聚焦成一点或以平行光射出。焦点在光线的另一侧,并且是有限共轭。这类透镜通常设计为准直镜(如投影用菲涅尔透镜,放大镜)以及聚光镜(如太阳能用聚光聚热用菲涅尔透镜。b)负菲涅尔透镜:和正焦菲涅尔透镜刚好相反。菲涅尔透镜淘宝常见问题有哪些?陕西微型红外透镜设计

并且可以在z方向上具有大约500μm到2mm之间的任意厚度。于在***多个vcsel402和第二多个vcsel404内可以存在任意数目的vcsel结构。应该注意的是,所示出的尺寸不是按比例画出的,*出于清楚的目的而提供的。例如,衬底302被示出为具有类似于vcsel402或404中的每个vcsel的厚度的厚度(z轴方向上的尺寸)。但是,衬底302可以比其他层更厚,例如,具有50μm到950μm的厚度或者任何其他适当厚度,如根据本公开将明白的。根据实施例,***多个vcsel402中的每个vcsel的孔径宽度(d1,类似于直径)不同于第二多个vcsel404中的每个vcsel的孔径宽度(d2)。通过改变孔径宽度,横向激光模式的数目也随着主导的横向激光模式的峰值波长一起改变。换言之,具有相同孔径宽度的每组vcsel产生它们自己的斑点图案,因为斑点图案取决于照明光的波长。在图4所示的示例中,***多个vcsel402将产生***斑点图案,而第二多个vcsel404将产生不同的第二斑点图案。斑点减少基于对检测器的空间和时间分辨率内的n个**斑点配置进行平均。例如,在所有n个**斑点配置具有相等的平均强度的情况下,斑点噪声被减少因子由于斑点图案取决于照明光的波长,所以在由该表面创建的平均相对相移≥2π的情况下。湖南人体红外透镜菲涅尔透镜的设计技术指导。

菲涅尔透镜的特点是比普通透镜亮度高且表面平整,辐射面积也大。一般普通凹凸透镜它的直径很有限,而菲涅尔在放大镜这块领域上起了很好的作用,达到了一般普通透镜所不能达到的效果。而且现在做出来的菲涅尔放大镜厚度只有便携带,其实主要作用就是减轻传统放大镜制造出的普通有机玻璃、玻璃放大镜的重量和体积。通常,菲涅尔透镜是球型表面形状切割而成,为了比较大限度降低成像时图象光学象差。透镜能够较好地将理想的点光源校准成平行光源。在现实生活中,没有光源是真正的点光源,然而固体态发光器如LED就非常小,因此只要透镜和LED之间的距离适当,就可以当成点光源。因此菲涅尔透镜能够校准LED输出光线为平行光。而传统的白炽光源产生大量辐射热量,从而限制了塑料光学材料在非常接近光源处的应用。由于LED产生的大部分热是可传导的,就可以比较容易应用塑料光学透镜。当需要将LED发光体的束光源校准为更宽广的角度范围时候,相对常见的做法就是使用反射镜与菲涅尔透镜相结合从而减少光学部件使用量。

适当的结构化光投影仪通常包括激光设备,该激光设备采用衍射图案实现期望的结构化光图案。一个示例激光设备是结合激光条纹使用的垂直腔面发射激光器(vcsel)。但是,存在与这种配置相关联的局限。例如,使用激光条纹获取精确的剖面信息的局限主要归因于与激光相关联的噪声和采样误差,因为激光条纹的中心可能不是在相机的像素中心成像并且可能不是检测到的强度峰值。当在图像上定位激光条纹的中心时出现采样误差。存在尝试从激光条纹提取相关信息的诸如,比较大强度、强度中心、高斯拟合、以及过零点之类的图像处理技术。与这些技术中的若干技术相关联的问题在于,其给出了比较高峰值的位置,但是该位置不是条纹的真实中心。与激光相关联的噪声主要采取激光斑点的形式,该激光斑点当从该部分的表面被反射出来时是激光的强度剖面的振荡并且是由激光的相干导致的。可以使用对接收的图像的数字后处理来补偿激光斑点。但是,这会是计算密集的并且导致相对较高的功率消耗,并且进一步导致3d图像的创建的延迟。因此,根据本公开的实施例,结构化光投影仪采用新型激光源设计,该激光源设计在相对于标准技术不增加计算负担的条件下减少或基本消除了激光斑点。另外。柱状菲涅尔透镜24小时服务客服电话。

集成电路(ic)、**集成电路(asic)、片上系统(soc)、桌面型计算机、膝上型计算机、平板计算机、服务器、智能电话等。其他实施例可以被实现为由可编程控制设备执行的软件。如本文描述的,各种实施例可以使用硬件元件、软件元件、或它们的任意组合实现。硬件元件的示例可以包括处理器、微处理器、电路、电路元件(例如,晶体管、电阻器、电容器、电感器等)、集成电路、**集成电路(asic)、可编程逻辑器件(pld)、数字信号处理器(dsp)、现场可编程门阵列(fpga)、逻辑门、寄存器、半导体器件、芯片、微芯片、芯片集等。本文提出了很多具体细节,以提供对实施例的透彻理解。但是,将明白的是,可以在没有这些具体细节的条件下实施实施例。另外,尽管以特定于结构特征和/或方法动作的语言描述了主题,但是将理解的是,所附权利要求中限定的主题不一定局限于本文描述的具体特征或动作。相反,本文描述的具体特征和动作被作为实现权利要求的示例形式公开。另外的示例实施例下面的示例涉及另外的实施例,根据这些实施例多种排列和配置将是明显的。示例1是一种激光源。该激光源包括衬底、一个或多个***vscel结构、以及一个或多个第二vcsel结构。一个或多个***vcsel结构在衬底的表面上。菲涅尔透镜聚光技术规范。江苏微型红外透镜材料

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因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是,为了清楚起见*示出了单个元原子,但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状,但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如,元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地,元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如,元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料,因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如,芯材804可以是氮化硅(si3n4),并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻,以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如,诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806,并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。陕西微型红外透镜设计

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