山西直角棱镜反射镜

平面反射镜，反射面是一个平面，是一种能够用于多种应用的反射镜，包括光束转折、干涉测量，或在成像系统中用作为光学组件。平面反射镜重要参数为：面型及反射率。高表面精度能够降低因色散造成的光线损失量。晶亮光电提供不镀膜、镀反射膜的反射镜，反射膜选项包括普通保护性铝膜、保护性紫外反射铝膜、保护性银膜、保护性金膜。熔融石英基片合用于紫外应用。平凹球面反射镜，反射面为球面的一部分，平行入射光线经球面反射可以汇聚到一点，具有正的焦距。平凹球面反射镜的焦距为球面曲率半径的一半。晶亮光电提供不镀膜、镀反射膜的球面反射镜，反射膜选项包括普通保护性铝膜、保护性紫外反射铝膜、保护性银膜、保护性金膜或介质高反膜。该按照怎样的标准挑选反射镜？山西直角棱镜反射镜

碳化硅反射镜制备工艺：1、反应烧结法。反应烧结是一种较为常见的反射镜制备工艺，这种工艺采用具有反应活性的液态硅浸渗含碳的反射镜预制体，硅与碳反应生成的新碳化硅原位地结合预制体中原有的碳化硅颗粒，并填充预制体中剩余的孔隙，然后得到近乎完全致密的反射镜毛坯。2、化学气相沉积法。化学气相沉积法是在温度为1275℃～1350℃的反应容器内，通入一种气体或几种气体的混合气，在石墨或其它物质的基片上得到碳化硅的沉积层。3、热压(或热等静压)法。热压(或热等静压)烧结的主要工艺步骤：把微米级的碳化硅粉和助烧剂以及阻止晶粒过分长大的添加剂混合后预压成预制体，然后将这种预制体用合适的封装材料封装后放入压力腔中，在合适的温度-压力-时间制度下进行烧结。北京半透反射镜激光反射镜能起到在激光管内改变光线的作用，起到减少激光管长度的作用。

碳化硅反射镜的烧结工艺：SiC陶瓷材料的制备工艺方式主要有：热压烧结工艺、反应烧结工艺、常压烧结工艺和化学气相沉积工艺（CVD）。其中热压烧结工艺由于工艺过程的限制，不适合制备形状复杂的反射镜镜坯。常压烧结工艺烧结过程镜坯的收缩率达到10%~15%，这种工艺对于制备精密尺寸的近净尺寸成型不利。CVD技术制备SiC质反射镜，是将含有硅源（SiCl４）和碳源（CXHY）的气体共同导入反应炉，合成SiC后沉积在基板上。采用该工艺制备的镜体质量较好，但成本也较高，只有在特殊的情况下应用该技术。反应烧结工艺可以制备大尺寸、形状复杂的SiC反射镜镜坯，并且反应烧结的制备温度相对较低、烧结时间周期短、镜坯制造成本低、烧结完成的结构致密，机械综合性能、热特性较优，符合超大口径反射镜的应用要求。

反射镜是一种利用反射定律工作的光学元件。反射镜按形状可分为平面反射镜、球面反射镜和非球面反射镜三种。按反射程度，可分成全反反射镜和半透半反反射镜(又名分束镜)。金属膜反射镜适用于很多应用，但激光应用往往需要比标准金属镀膜更高的反射率。因此，激光镜常用多层介电质HR镀膜代替金属镀膜，因为它们具有较高的反射率。金属表面反射光线，因为松散附着的电子可以自由地随入射光波振动，没有太多阻抗或阻碍，但所有金属都会吸收一定量的入射光。这使得金属膜与高功率激光一起使用时容易损坏。反射镜一般采用钼和硅作为基底，钼反射镜能在条件苛刻的环境中工作，并且使用寿命长，承受功率高。

反射镜小知识：入射光在界面处被反射或者透射的比例由菲涅耳方程描述，并且取决于入射角以及入射介质的折射率（n1）和折射介质的折射率（n2）。入射光在界面被反射的比例称为反射比或者反射率（R），而在第二介质中折射的比例称为透射比或者透射率（T）。假设两种介质都是非吸收性介质，R和T的总和一定是1。据此，如果已知一种介质后就能推出另外一种介质的信息。此外，入射光的不同线性偏振分量具有不同的R和T值。对于垂直入射的光，即θi=0，菲涅耳方程简化。垂直入射时，公式中R不再依赖于角度和偏振（T与R互补），只与折射率相关。在有特殊用途的时候必须考虑反射镜的性能、规格等。北京半透反射镜

反射镜用于光束转折，干涉测量、成像或照明。山西直角棱镜反射镜

电介质膜反射镜根据使用用途的不同会有差异，目前主要种类有：强激光用电介质反射镜、超带宽电介质膜反射镜和入射角可变激光谱线反射镜。a、强激光用电介质膜反射镜主要适用于高功率，脉冲Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或准分子激光的光学系统。在YAG激光器中，用作从基波（1064nm）到4次谐波（266nm）的反射镜，也用作ArF（193nm），KrF（248nm）的准分子激光的反射镜。b、超带宽电介质膜反射镜，这类反射镜在紫外谱区、可见光谱区和红外谱区都有着高反射率，即使是在紫外和红外谱区，也比一般金属膜反射镜要高。c、入射角可变激光谱线反射镜，适用于迈克尔逊干涉仪或其他需要在两面反射镜之间反复多次反射的、入射角需要小于45°的光学系统中。当入射角固定时，可用的波长范围较宽，如：TFVM-800，45°入射时，在730~900nm波长范围，其反射率均大于99%。山西直角棱镜反射镜

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