企业商机
二极管基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • 藤谷
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
二极管企业商机

当瞬时脉冲峰值电流出现时,TVS被击穿,并由击穿电压值上升至比较大箝位电压值,随着脉冲电流呈指数下降,箝位电压亦下降,恢复到原来状态。因此,TVS能可能出现的脉冲功率的冲击,从而有效地保护电子线路。峰值电流波形A.正弦半波B.矩形波C.标准波(指数波形)D.三角波TVS峰值电流的试验波形采用标准波(指数波形),由TR/TP决定。峰值电流上升时间TR:电流从10%IPP开始达到90%IPP的时间。半峰值电流时间TP:电流从零开始通过比较大峰值后,下降到。下面列出典型试验波形的TR/TP值:/1000nsB.闪电波:8μs/20μsC.标准波:10μs/1000μs3.比较大反向工作电压VRWM(或变位电压)器件反向工作时,在规定的IR下,器件两端的电压值称为比较大反向工作电压VRWM。通常VRWM=()V(BR)。二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司。西藏智能二极管优化价格

肖特基二极管工作参数肖特基二极管的选型要点要根据开关电源所要输出的电压VO、电流IO、散热情况、负载情况、安装要求、所要求的温升等确定所要选用的肖特基二极管种类。在一般的设计中,我们要留出一定的余量VR只用到其额定值的80%以下(特殊情况下可控制到50%以下),IF用到其额定值的40%以下。在单端反激(FLY-BACK)开关电源中,假定一产品:输入电压VIMAX=350VDC,输出电压VO=5V,电流IO=1A。根据计算公式,要求整流二极管的反向电压VR、正向电流IF满足下面的条件:VR≥2VI×NS/NPIF≥2IO/(1-θMAX)其中:NS/NP为变压器次、初级匝比θMAX为比较大占空比NS/NP=1/20,θMAX=则VR≥2×350/20=35(V)IF≥2×1/()=3(A)我们可以参考选用SR340或1N5822。若产品为风扇冷却,则管子可以把余量留小一些。TO220、TO3P封装的管子有全包封、半包封之分这要根据具体情况选用。半包封管子的散热优于全包封的管子,但需注意其散热器和中间管脚相通。负载若为容性负载,建议IF再留出20%的余量。注意功率肖特基二极管的散热和安装形式,要搞清楚产品为自然冷却还是风扇冷却,管子要安装在易通风散热的地方,以提高产品的可靠性。TO-220、TO-3P型的管子与散热器之间要加导热硅脂。海南微型二极管价格优惠上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司,欢迎您的来电哦!

并部分延伸至所述氧化层上;在所述氧化层远离所述肖特基结的两端进行蚀刻形成防水槽;在所述氧化层远离所述衬底一侧制作钝化层,其中,所述钝化层包括填充于所述防水槽并在所述防水槽的位置形成与防水槽咬合的凸起。在本申请的一种可能实施例中,蚀刻所述氧化层,在所述外延层远离所述衬底的一侧形成半导体环的步骤,包括:在所述氧化层远离所述衬底的一侧均匀涂覆光刻胶层;通过带有半导体环图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出半导体环图案;使用腐蚀溶剂对所述氧化层进行腐蚀,将所述半导体环图案转移到所述氧化层;使用光刻胶溶剂将所述氧化层残留的光刻胶去除;在所述半导体环图案对应区域注入离子,经扩散炉中退火处理在所述半导体环图案对应区域形成半导体环。在本申请的一种可能实施例中,将所述半导体环之间的所述氧化层蚀刻掉,在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结的步骤,包括:在所述氧化层远离所述衬底的一侧涂覆光刻胶层;通过带有肖特基结图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出肖特基结图案;用腐蚀溶剂进行腐蚀,将所述肖特基结图案转移到所述氧化层;蚀刻所述肖特基结图案对应区域内残留的氧化层;通过物相淀积法。

淀积的金属和硅形成金属硅化物,形成肖特基结108,再使用王水去除表面未发生反应的多余金属。步骤s305,请参照图4e,在肖特基结108及靠近肖特基结108的氧化层103上制作金属层105,并在衬底101远离外延层102的一侧制作第二金属层106。在本申请实施例中,金属层105覆盖在肖特基结108及半导体环104上,并部分延伸至氧化层103。通常金属层105和第二金属层106可以采用tiniag、tiniau、tinial或tinialag等多层金属。具体地,在制作金属层105,在真空度为3e-6torr、温度为190℃的环境下持续加热45分钟,依次在肖特基结108及靠近肖特基结108的氧化层103上沉积多层金属,制作形成金属层105。蒸发过程真空必须保持高真空状态,避免蒸发金属过程中金属被氧化,导致金属间接触不良。采用相同的工艺在衬底101远离外延层102的一侧制作第二金属层106。步骤s306,请参照图4f,在氧化层103远离肖特基结108的两端进行蚀刻形成防水槽1031。在氧化层103远离肖特基结108两端的表面涂覆光刻胶层。通过带有防水槽图案的掩模对光刻胶层进行光刻,在光刻胶层上刻出防水槽图案。再接着,用腐蚀溶剂进行腐蚀,将防水槽图案转移到氧化层103。,蚀刻防水槽图案对应区域的氧化层103,形成防水槽1031。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司,有想法的不要错过哦!

本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本申请的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“”、“第二”等用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。经本申请的发明人研究发现,现有肖特基二极管的钝化层和氧化层因材质不同,热膨胀系数不同,在肖特基二极管的使用过程中,由于器件的工作温度的变化,钝化层和氧化层会在彼此结合处存在剪切力,从而在结合处出现微小缝隙。在肖特基二极管存放或使用过程中,环境中的水汽可能会从微小缝隙侵入肖特基结,导致肖特基二极管短路失效。为了解决上述技术问题,发明人创新性地设计以下的肖特基二极管结构。请参照图1。二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,让您满意,有想法可以来我司咨询!河南模拟二极管制品价格

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击穿电压V(BR)器件在发生击穿的区域内,在规定的试验电流I(BR)下,测得器件两端的电压称为击穿电压,在此区域内,二极管成为低阻抗的通路。2.比较大反向脉冲峰值电流IPP在反向工作时,在规定的脉冲条件下,器件允许通过的比较大脉冲峰值电流。IPP与比较大箝位电压Vc(MAX)的乘积,就是瞬态脉冲功率的比较大值。使用时应正确选取TVS,使额定瞬态脉冲功率PPR大于被保护器件或线路可能出现的比较大瞬态浪涌功率。当瞬时脉冲峰值电流出现时,TVS被击穿,并由击穿电压值上升至比较大箝位电压值,随着脉冲电流呈指数下降,箝位电压亦下降,恢复到原来状态。因此,TVS能可能出现的脉冲功率的冲击,从而有效地保护电子线路。峰值电流波形A.正弦半波B.矩形波C.标准波(指数波形)D.三角波TVS峰值电流的试验波形采用标准波(指数波形),由TR/TP决定。峰值电流上升时间TR:电流从10%IPP开始达到90%IPP的时间。半峰值电流时间TP:电流从零开始通过比较大峰值后,下降到。下面列出典型试验波形的TR/TP值:/1000nsB.闪电波:8μs/20μsC.标准波:10μs/1000μs3.比较大反向工作电压VRWM(或变位电压)器件反向工作时,在规定的IR下,器件两端的电压值称为比较大反向工作电压VRWM。通常VRWM=()V(BR)。西藏智能二极管优化价格

上海藤谷电子科技有限公司在功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管一直在同行业中处于较强地位,无论是产品还是服务,其高水平的能力始终贯穿于其中。公司成立于2019-08-01,旗下藤谷,已经具有一定的业内水平。上海藤谷电子科技以功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管为主业,服务于电子元器件等领域,为全国客户提供先进功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管。多年来,已经为我国电子元器件行业生产、经济等的发展做出了重要贡献。

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