本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现:本发明实施例提供了一种用于整流电路的肖特基二极管,包括:衬底层001、ge层002、压应力层003、金属电极a1、第二金属电极a2,其中,所述ge层002、所述氮化硅层依次层叠设置于所述衬底层001的表面,所述压应力层003设置有电极孔,所述金属电极a1设置于所述ge层002上且设置于所述电极孔中,所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。在本发明的一个实施例中,所述ge层002为n型ge层,掺杂浓度为×1014~2×1014cm-3。在本发明的一个实施例中,所述压应力层003为氮化硅层。在本发明的一个实施例中,所述氮化硅层为si3n4膜。在本发明的一个实施例中,所述压应力层003使所述ge层002内产生压应力,所述ge层002中的压应力的大小与制备所述压应力层003的反应温度相关,其中,所述反应温度越高,所述ge层002中的压应力越大。在本发明的一个实施例中,所述ge层002的厚度为700~800nm。在本发明的一个实施例中,所述衬底层001为n型单晶ge层。在本发明的一个实施例中,所述金属电极a1为钨电极。在本发明的一个实施例中,所述电极孔贯穿所述压应力层003且设置于所述压应力层003中部。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管,欢迎您的来电哦!河北数字二极管规范
肖特基二极管工作参数肖特基二极管的选型要点要根据开关电源所要输出的电压VO、电流IO、散热情况、负载情况、安装要求、所要求的温升等确定所要选用的肖特基二极管种类。在一般的设计中,我们要留出一定的余量VR只用到其额定值的80%以下(特殊情况下可控制到50%以下),IF用到其额定值的40%以下。在单端反激(FLY-BACK)开关电源中,假定一产品:输入电压VIMAX=350VDC,输出电压VO=5V,电流IO=1A。根据计算公式,要求整流二极管的反向电压VR、正向电流IF满足下面的条件:VR≥2VI×NS/NPIF≥2IO/(1-θMAX)其中:NS/NP为变压器次、初级匝比θMAX为比较大占空比NS/NP=1/20,θMAX=则VR≥2×350/20=35(V)IF≥2×1/()=3(A)我们可以参考选用SR340或1N5822。若产品为风扇冷却,则管子可以把余量留小一些。TO220、TO3P封装的管子有全包封、半包封之分这要根据具体情况选用。半包封管子的散热优于全包封的管子,但需注意其散热器和中间管脚相通。负载若为容性负载,建议IF再留出20%的余量。注意功率肖特基二极管的散热和安装形式,要搞清楚产品为自然冷却还是风扇冷却,管子要安装在易通风散热的地方,以提高产品的可靠性。TO-220、TO-3P型的管子与散热器之间要加导热硅脂。河南微型二极管价目二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,用户的信赖之选,有想法的不要错过哦!
所述ge层002、所述压应力层003依次层叠设置于所述衬底层001的表面,所述压应力层003设置有电极孔,所述金属电极a1设置于所述ge层002上所述电极孔中,所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。所述衬底层001为锗衬底层,具体地,可以为n型掺杂浓度为1020cm-3的n型单晶锗(ge)。需要说明的是,作为衬底材料,ge材料相对于si材料来说,在ge衬底上生长ge层比si上生长ge层更容易得到高质量ge层。所述ge层002为n型ge层,掺杂浓度为×1014~2×1014cm-3,厚度为形成700~800nm。需要说明的是,n型ge外延层的厚度如果低于700nm制作的肖特基二极管器件如果应用于无线充电和无线传输系统极易发生击穿,同时为了器件整体性能和体积考虑n型ge外延层的厚度也不易太厚,因为,为了降低器件的厚度,且制作的肖特基二极管用于无线充电后的器件性能考虑,将n型ge外延层的厚度设置为700~800nm。所述压应力层003为氮化硅层,所述压应力层003使所述ge层002产生压应力。需要说明的是,所述压应力层003也可以是sin、si3n4等能产生压应力的半导体层,此处不做过多限制。地,所述氮化硅层为压应力si3n4膜。需要说明的是。
在每个周期内,终的输出DC电压和电流均为“ON”和“OFF”。由于负载电阻两端的电压在周期的正半部分(输入波形的50%)出现,因此导致向负载提供的平均DC值较低。整流后的输出波形在“ON”和“OFF”状态之间的变化会产生具有大量“波纹”的波形,这是不希望的特征。产生的直流纹波的频率等于交流电源频率。在对交流电压进行整流时,我们希望产生无任何电压变化或波动的“稳定”且连续的直流电压。这样做的一种方法是在输出电压端子上与负载电阻并联连接一个大容量电容器,如下所示。这种类型的电容器通常被称为“蓄水池”或“平滑电容器”。带滤波电容器的半波整流器当使用整流来从交流(AC)电源提供直流(DC)电源时,可以通过使用更大容量的电容器来进一步减少纹波电压,但在成本和尺寸方面都存在限制使用的电容器。对于给定的电容器值,较大的负载电流(较小的负载电阻)将使电容器放电更快(RC时间常数),因此会增加获得的纹波。然后,对于使用功率二极管的单相,半波整流器电路,尝试通过电容器平滑来降低纹波电压不是很实际。在这种情况下,改为使用“全波整流”会更实际。实际上,半波整流器由于其主要缺点而常用于低功率应用中。输出幅度小于输入幅度。二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,让您满意,期待您的光临!
本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力,n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制,反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变,即改变了导带电子的有效质量,引起各散射机制中散射概率的改变,进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地,将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等,与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言,氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单,且不会因为晶格失配产生大量缺陷,故而能够得到质量更好的压应变ge层,因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地,在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关,具体地,其他工艺条件不变的情况下,压应力层003反应温度越高,压应力层003使ge层002中的产生的应力越大,且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下,压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下,低频功率越大,形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小,则fwg和温度tp的关系满足:fwg=×fwg的单位为pa,twg的单位为摄氏度。具体地,在其他工艺条件不变的情况下,压强越高。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管,欢迎新老客户来电!天津数字二极管均价
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电子元器件是构成电子信息系统的基本功能单元,是各种电子元件、器件、模块、部件、组件的统称,同时还涵盖与上述电子元器件结构与性能密切相关的封装外壳、电子功能材料等。中国功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管行业协会秘书长古群表示 5G 时代下功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管产业面临的机遇与挑战。认为,在当前不稳定的国际贸易关系局势下,通过 2018—2019 年中国电子元件行业发展情况可以看到,被美国加征关税的功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管产品的出口额占电子元件出口总额的比重只有 10%。回顾过去一年国内功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管产业运行情况,上半年市场低迷、部分外资企业产线转移、中小企业经营困难,开工不足等都是显而易见的消极影响。但随着功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管产业受到相关部门高度重视、下游企业与元器件产业的黏性增强、下游 5G 在产业发展前景明朗等利好因素的驱使下,我国电子元器件行业下半年形势逐渐好转。电子元器件产业作为电子信息制造业的基础产业,其自身市场的开放及格局形成与国内电子信息产业的高速发展有着密切关联,目前在不断增长的新电子产品市场需求、全球电子产品制造业向中国转移、中美贸易战加速国产品牌替代等内外多重作用下,国内电子元器件分销行业会长期处在活跃期,与此同时,在市场已出现的境内外电子分销商共存竞争格局中,也诞生了一批具有新商业模式的电子元器件分销企业,并受到了资本市场青睐。河北数字二极管规范
上海藤谷电子科技有限公司是一家从事功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管研发、生产、销售及售后的服务型企业。公司坐落在淞滨路500号6幢D397室,成立于2019-08-01。公司通过创新型可持续发展为重心理念,以客户满意为重要标准。在孜孜不倦的奋斗下,公司产品业务越来越广。目前主要经营有功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管等产品,并多次以电子元器件行业标准、客户需求定制多款多元化的产品。上海藤谷电子科技有限公司研发团队不断紧跟功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管行业发展趋势,研发与改进新的产品,从而保证公司在新技术研发方面不断提升,确保公司产品符合行业标准和要求。功率器件芯片,IGBT器件模块,trench MOS器件,功率二极管产品满足客户多方面的使用要求,让客户买的放心,用的称心,产品定位以经济实用为重心,公司真诚期待与您合作,相信有了您的支持我们会以昂扬的姿态不断前进、进步。