微型二极管咨询报价

淀积的金属和硅形成金属硅化物，形成肖特基结108，再使用王水去除表面未发生反应的多余金属。步骤s305，请参照图4e，在肖特基结108及靠近肖特基结108的氧化层103上制作金属层105，并在衬底101远离外延层102的一侧制作第二金属层106。在本申请实施例中，金属层105覆盖在肖特基结108及半导体环104上，并部分延伸至氧化层103。通常金属层105和第二金属层106可以采用tiniag、tiniau、tinial或tinialag等多层金属。具体地，在制作金属层105，在真空度为3e-6torr、温度为190℃的环境下持续加热45分钟，依次在肖特基结108及靠近肖特基结108的氧化层103上沉积多层金属，制作形成金属层105。蒸发过程真空必须保持高真空状态，避免蒸发金属过程中金属被氧化，导致金属间接触不良。采用相同的工艺在衬底101远离外延层102的一侧制作第二金属层106。步骤s306，请参照图4f，在氧化层103远离肖特基结108的两端进行蚀刻形成防水槽1031。在氧化层103远离肖特基结108两端的表面涂覆光刻胶层。通过带有防水槽图案的掩模对光刻胶层进行光刻，在光刻胶层上刻出防水槽图案。再接着，用腐蚀溶剂进行腐蚀，将防水槽图案转移到氧化层103。，蚀刻防水槽图案对应区域的氧化层103，形成防水槽1031。上海藤谷电子科技有限公司为您提供二极管，有想法的不要错过哦！微型二极管咨询报价

但若重复施加，这些单个的脉冲能量积累起来，在某些情况下，也会超过TVS器件可承受的脉冲能量。因此，电路设计必须在这点上认真考虑和选用TVS器件，使其在规定的间隔时间内，重复施加脉冲能量的累积不至超过TVS器件的脉冲能量额定值。6.电容CPPTVS的电容由硅片的面积和偏置电压来决定，电容在零偏情况下，随偏置电压的增加，该电容值呈下降趋势。电容的大小会影响TVS器件的响应时间。7.漏电流IR当比较大反向工作电压施加到TVS上时，TVS管有一个漏电流IR，当TVS用于高阻抗电路时，这个漏电流是一个重要的参数。:按极性可分为:单极性和双极性两种;按用途可分为:通用型和型;按封装和内部结构可分为:轴向引线二极管、双列直插TVS阵列、贴片式和大功率模块等。轴向引线的产品峰值功率可达400W、500W、600W、1500W和5000W。其中大功率的产品主要用在电源馈线上，低功率产品主要用在高密度安装场合。对于高密度安装的场合，也可以选择双列直插和表面贴装等封装形式。江西品质二极管均价上海藤谷电子科技有限公司二极管获得众多用户的认可。

本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现：本发明实施例提供了一种用于整流电路的肖特基二极管，包括：衬底层001、ge层002、压应力层003、金属电极a1、第二金属电极a2，其中，所述ge层002、所述氮化硅层依次层叠设置于所述衬底层001的表面，所述压应力层003设置有电极孔，所述金属电极a1设置于所述ge层002上且设置于所述电极孔中，所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。在本发明的一个实施例中，所述ge层002为n型ge层，掺杂浓度为×1014～2×1014cm-3。在本发明的一个实施例中，所述压应力层003为氮化硅层。在本发明的一个实施例中，所述氮化硅层为si3n4膜。在本发明的一个实施例中，所述压应力层003使所述ge层002内产生压应力，所述ge层002中的压应力的大小与制备所述压应力层003的反应温度相关，其中，所述反应温度越高，所述ge层002中的压应力越大。在本发明的一个实施例中，所述ge层002的厚度为700～800nm。在本发明的一个实施例中，所述衬底层001为n型单晶ge层。在本发明的一个实施例中，所述金属电极a1为钨电极。在本发明的一个实施例中，所述电极孔贯穿所述压应力层003且设置于所述压应力层003中部。

因氧化层开设有防水凹槽，即便环境中存在水汽，水汽在侵入时也会聚集在防水槽1031，不会进入到肖特基结，进一步确保肖特基二极管不会失效。在本申请实施例的一种可能的实施方式中，衬底101和外延层102可以为n型半导体层，半导体环104可以为p型半导体环。在本申请实施例的另一种可能的实施方式中，衬底101和外延层102可以为p型半导体层，半导体环104可以为n型半导体环。在本申请实施例中，在衬底101和外延层102为n型半导体层，半导体环104为p型半导体环时，衬底101可以为重掺杂半导体层，衬底101的电阻率可以为ω·cm；外延层102可以为轻掺杂半导体层，外延层102的电阻率可以为ω·cm，其中，外延层102的厚度可以为5μm－30μm。防水槽1031可以是一种规则形状的凹槽，也可以是不规则形状的凹槽。例如图1及图2所示，防水槽1031可以是u型槽，也可以是v型槽，当然还可以是其他形状的凹槽或者不同形状凹槽的组合。防水槽1031的深度小于氧化层103的厚度。在本申请实施例中，肖特基结108由多层金属组成，具体地，该多层金属可以包括ti、ni、ag等。请参照图3，本申请实施例还提供一种用于制造上述肖特基二极管10的制造方法，该制造方法包括以下步骤：步骤s301，请参照图4a。二极管，就选上海藤谷电子科技有限公司，有需求可以来电咨询！

在每个周期内，终的输出DC电压和电流均为“ON”和“OFF”。由于负载电阻两端的电压在周期的正半部分（输入波形的50％）出现，因此导致向负载提供的平均DC值较低。整流后的输出波形在“ON”和“OFF”状态之间的变化会产生具有大量“波纹”的波形，这是不希望的特征。产生的直流纹波的频率等于交流电源频率。在对交流电压进行整流时，我们希望产生无任何电压变化或波动的“稳定”且连续的直流电压。这样做的一种方法是在输出电压端子上与负载电阻并联连接一个大容量电容器，如下所示。这种类型的电容器通常被称为“蓄水池”或“平滑电容器”。带滤波电容器的半波整流器当使用整流来从交流（AC）电源提供直流（DC）电源时，可以通过使用更大容量的电容器来进一步减少纹波电压，但在成本和尺寸方面都存在限制使用的电容器。对于给定的电容器值，较大的负载电流（较小的负载电阻）将使电容器放电更快（RC时间常数），因此会增加获得的纹波。然后，对于使用功率二极管的单相，半波整流器电路，尝试通过电容器平滑来降低纹波电压不是很实际。在这种情况下，改为使用“全波整流”会更实际。实际上，半波整流器由于其主要缺点而常用于低功率应用中。输出幅度小于输入幅度。二极管，就选上海藤谷电子科技有限公司，用户的信赖之选，欢迎您的来电！上海现代二极管费用

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主要用于把交流电变换成直流电的“整流”电路中。面接触型晶体二极管比较适用于大电流开关。平面型二极管平面型二极管是一种特制的硅二极管，得名于半导体表面被制作得平整。初，对于被使用的半导体材料是采用外延法形成的，故又把平面型称为外延平面型。在半导体单晶片(主要地是N型硅单晶片)上，扩散P型杂质，利用硅片表面氧化膜的屏蔽作用，在N型硅单晶片上选择性地扩散一部分而形成的PN结。因PN结合的表面被氧化膜覆盖，稳定性好和寿命长。它不能通过较大的电流，而且性能稳定可靠，多用于开关、脉冲及高频电路中。晶体二极管主要特性二极管的伏安特性曲线如下：外加电压Uw方向为P→N时，Uw大于起动电压，二极管导通；外加电压Uw方向为N→P时，Uw大于反向击穿电压，二极管击穿。晶体二极管性能参数比较大整流电流Idm：二极管连续工作允许通过的比较大正向电流；电流过大，二极管会因过热烧毁；大电流整流可加装散热片。比较大反向电压Urm：Urm一般小于反向击穿电压，选规格以Urm为准，并留有余量；过电压易损坏二极管。反向饱和电流Is：二极管外加反向电压时的电流值；Is反向击穿前很小，变化也很小；Is会随温度的升高而升高，一般地，常温下硅管Is<1μA。微型二极管咨询报价

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