四川精密平面磨

    研磨速度研磨速度是控制余量去除速度和研磨表面质量的重要工艺参数。图5为工件余量去除、研磨便面粗糙度与研磨速度的关系曲线。为了获得规定的表面粗糙度而必须耗费的研磨时间大于去除余量所需的时间，就应适当降低研磨速度，反之一样，而平面研磨时速度可参照表2选取研磨速度。研磨速度对余量去除和表面粗糙度的影响对研具的磨损影响很大。研磨速度过快时，研具急剧磨损，可能引起工件的热变形，直接影响加工精度。因此，为了避免研磨磨损过快，可根据实际情况，在表2基础上选取1/3~1/2范围进行研磨。研磨时间通常密封面在研磨前，通过其他加工方式获得预加工精度，研磨开始阶段，因研磨剂磨粒锋利，微切削作用强，零件研磨表面的几何形状误差和粗糙度较快得以纠正。随着研磨时间延长，磨粒钝化，微切削作用下降，不仅加工精度不能提高，反而因热量增加造成表面质量下降。所以，粗研时在规定工艺参数内，选用较粗的研磨剂、较高速度和研磨压力下进行研磨，以较快地消除几何形状误差和切去较大的加工余量，通常即可完成粗磨，以密封面全部研磨出为准。一般精研时间约为5min~10min，超过10min研磨效果不明显。抛光完成研磨后的密封面，便面采用酒精或清洗器密封面。

    同时适时、适量添加研磨剂，保证研磨剂流动连续性。四川精密平面磨

    往盘面开始滴入研磨液(粗抛液)，主轴速度调至50-60转之间，把操作板面的计时器设好时间后，点启动按钮，产品研磨时间按实际而定。磨盘面要定期清洗。粗抛后清洗：粗抛完成后，取出来用自来水把产品清洗干净，待下一步精抛或抛光。精抛：研磨操作程序和粗抛的一样，但研磨液是精抛液。精抛后清洗，精抛完成后清洗干净研磨产品。抛光：抛光有白垫粗抛，白布抛光，还有白垫加白布一起抛光，先举三种。白垫一般在背面粘有胶纸直接贴在底盘后就可以使用。白布要用抱箍勒紧才能使用，操作工序和上面差不多，就是主轴速度要调至70到80左右，时间要有所调整，抛光液要以产品的种类来匹配。抛光后清洗：抛光后是一道加工，所以清洗产品时，不可用水或其他硬的物质接触到产品表面。加温/下蜡：产品加工完成后，把产品清洗干净，吧粘贴板吹干后，放在控温炉，到一定时间后，吧产品取下。如果是用治具生产的，直接取下清洗干净或放到专门清洗线上，清洗干净。清洗除蜡：把产品放在待定的清洗支架上，用专门机器清洗设备清洗干净。 重庆精密平面打磨同时也可储藏研磨中产生的切屑，避免划伤工件表面。

    磨料对平面抛光效果的影响平面抛光过程中磨料的作用是借助于机械力，将晶片表而经化学反应后形成的钝化膜去除，从而达到表而平整化的目的。日前常用的磨料有胶体SiO2、Al2O3及CeO2等。磨料的种类决定了磨粒的硬度、尺寸，从而影响抛光效果。抛光铝实验中，相对于SiO2、Al2O3磨料能获得较好的表而平整度，表而刮痕数量少、尺寸小，其原因是胶体SiO2磨粒尺寸小，抛光时磨料嵌入晶片表面的深度较小，并且在推荐其它参数的情况下，也能获得很高的抛光效率。磨料的浓度会影响抛光效果。抛光铝实验中，随着磨料(胶体SiO2)浓度的提高，单位而积参与磨削的磨粒数日增加，所以抛光效率提高，表而刮痕尺寸缓慢增人或基本保持不变;但磨料浓度过人时，抛光液的粘性增人，流动性降低，影响加工表而氧化层的有效形成，导致抛光效率降低。磨粒的尺寸也会对抛光效果产生影响，磨粒尺寸越小，表而损伤层厚度小。据统计，在硅片的精抛过程中，每次磨削层的厚度为磨粒尺寸的四分之一。为了有效地减小表而粗糙度和损伤层厚度，通常采用小尺寸的胶体硅(15~20nm)来代替粗抛时的胶体硅(50~70rnm);同时通过加强化学反应及提高产物的排除速度来提高抛光效率。

    什么是精密平面研磨抛光加工？原始的定义是指在一块很平坦的定盘上（如花岗石、铸铁…等，都叫LAP），把加工物放在上面，均匀地移动，使它因摩擦而产生一个很好的平面，它就是LAPPING，只是手工随著机械加工业的神速进展，就发展出单面LAPPING机及双面精磨机，这几年又配合手机加工行业蓬勃发展，又发展出很多专业用途的磨精度机器。抛光液的性能直接影响到抛光后工件的表面质量，是平面研磨抛光加工的关键要素之一。抛光液一般包括超细的固体磨粒(如纳米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性剂以及氧化剂和稳定剂等几部分，其中固体磨粒产生切削作用，去除发生化学变化需要切除的部位，氧化剂产生化学腐蚀溶解作用，溶解切屑。在抛光过程中，抛光液中磨粒的种类、形状、大小、浓度、化学成分、PH值、粘度、流速和流动的途径都会对去除速度产生影响。对不同材料的工件进行抛光时，所需要抛光液的成份、PH值也不尽相同同。PH值影响工件的表面质量和去除率表现在对磨料的分解与溶解度、被抛表面刻蚀及氧化膜的形成、悬浮度(胶体稳定性)等方面，因此需要严格控制抛光液的PH值。 研磨开始阶段，因研磨剂磨粒锋利，微切削作用强，零件研磨表面的几何形状误差和粗糙度较快得以纠正。

    抛光液的性能对工件双面抛光的影响抛光液的性能直接影响到抛光后工件的表面质量，是双面抛光的关键要素之一。抛光液一般包括超细的固体磨粒(如纳米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性剂以及氧化剂和稳定剂等几部分，其中固体磨粒产生切削作用，去除发生化学变化需要切除的部位，氧化剂产生化学腐蚀溶解作用，溶解切屑。在抛光过程中，抛光液中磨粒的种类、形状、大小、浓度、化学成分、PH值、粘度、流速和流动的途径都会对去除速度产生影响。对不同材料的工件进行抛光时，所需要抛光液的成份、PH值也不尽相同同。PH值影响工件的表面质量和去除率表现在对磨料的分解与溶解度、被抛表面刻蚀及氧化膜的形成、悬浮度(胶体稳定性)等方面，因此需要严格控制抛光液的PH值。当处于抛光氧化物时，抛光液一般选取Si0:作为磨料，PH值控制在10以上;而抛光金属时，抛光液一般选用酸性的，保证PH值在较小的数值，以便保持极高的工件去除率。磨粒按硬度可分为软磨粒和硬磨粒两类。常用的磨粒包括氧化铝系、碳化物系、超硬磨料系和软磨料系4类。抛光用磨粒需具有下列性能:(1)磨粒形状和尺寸均匀一致，保持在一定范围;(2)磨粒的熔点要比工件的熔点高;(3)磨粒能适当地破碎，使切刃变锋利。 考虑采用平台或平板研具对零件进行研磨，密封面平面度要求0.01。重庆精密平面打磨

因密封面所处位置原因，无法采用磨削方式加工。四川精密平面磨

    为什么砂轮能作为磨削工具砂轮是磨削的切削工具，它由许多细小而坚硬的磨粒和结合剂粘而成的多孔物体。磨粒直接担负着切削工作，必须锋利并具有高的硬度，耐热性和一定的韧性。常用的磨料有氧化铝(又称刚玉)和碳化硅两种。氧化铝类磨料硬度高、韧性好，适合磨削钢料。碳化硅类磨料硬度更高、更锋利、导热性好，但较脆，适合磨削铸铁和硬质合金。同样磨料的砂轮，由于其粗细不同，工件加工后的表面粗糙度和加工效率就不相同，磨粒粗大的用于粗磨，磨粒细小的适合精磨、磨料愈粗，粒度号愈小。结合剂起粘结磨料的作用。常用的是陶瓷结合剂，其次是树脂结合剂。结合剂选料不同，影响砂轮的耐蚀性、强度、耐热性和韧性等。磨粒粘结愈牢，就愈不容易从砂轮上掉下来，就称砂轮的硬度，即砂轮的硬度是指砂轮表面的磨粒在外力作用下脱落的难易程度。容易脱落称为软，反之称为硬。砂轮的硬度与磨料的硬度是两个不同的概念。被磨削工件的表面较软，磨粒的刃口(棱角)就不易磨损，这样磨粒使用的时间可以长些，也就是说可选粘接牢固些的砂轮(硬度较高的砂轮)。反之，硬度低的砂轮适合磨削硬度高的工件。砂轮在高速条件下工作，为了保证安全，在安装前应进行检查，不应有裂纹等缺陷。

    四川精密平面磨