光学镀膜材料是在光学零件表面上改变光学零件表面特性的一种层或多层涂层。它可以是金属薄膜、介电膜或这两种膜的组合。光学镀膜材料是先进的光电技术中不可缺少的一部分。它不只可以提高系统的性能,而且是达到设计目标的必要手段。光学薄膜的应用领域和光学系统的各个方面,包括激光系统、光学通信、光显示、光存储等,主要的光学镀膜材料器件包括反射膜、反反射膜、偏光膜、干涉滤光片和分光镜。它们在国民经济和**建设中得到了普遍的应用,越来越受到科学家和技术人员的重视。如果没有光学镀膜加工技术作为发展的基础,现代光电、通信或激光技术就不会取得进展。宁波镀膜材料公司电话
光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜,而且可以应用于塑料制成的基底。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部,驱动轴遮挡晶控。背面的大开口通向附加的高真空泵。基底加热系统由4个石英灯组成,真空室的两边各两个。宁波镀膜材料公司电话光学镀膜可以通过基本电镀膜和透明介质多层膜获得多种颜色、色调和金属光泽。
镀膜机镀膜为什么要用到高纯气体? 在真空离子镀膜中,所选用不同气体所生产出来的,液态气体色泽也会不一样,氩气一般用作创造镀膜的环境镀钛和铬时,工业气体充入氮气可生产出银色和黄色的产品而想要生产出黑色或灰色的产品,则需要加入乙炔气体加入氧气则生产蓝色的产品。除了气体外所生产出的产品颜色还受压力、温度、时间等条件影响。在高真空度的条件下,高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面,形成镀层。氩气为保护性气体,防止氧化反应影响镀层质量。氩气不参与反应,只是增加气压,改善镀膜时靶的放电条件,氩气不是用于镀膜,主要用于创造镀膜的环境。氮气和氩气都是惰性气体,冲进去以后,一 可以排除氧气,防止氧化,二更具氮气和氩气在扩散泵内的含量比例不同,可以镀膜出不同的颜色.主要是为了改变镀膜出来产品的色彩。
常见的光学镀膜材料有以下几种:氟化镁:材料特点:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点。二氧化硅:材料特点:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。氧化锆:材料特点 白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点。 光学镀膜产品常见不良分析及改善方法: 镀膜产品的不良,部分是镀膜工序的本身造成的,部分是前工程遗留的不良,镀膜较终的品质是整个光学零件加工的(特别是抛光、清洗)的综合反映,对策镀膜不良时必须综合考虑,才能真正找到不良产生的原因,对策改善才能取得成效。通过适当的设计,可以调制不同波段器件表面的透射率和反射率,不同偏振面的光可以具有不同的特性。
光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展,从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术进展包括:间歇式直接光控。光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统,对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统,间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差,可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间;渐变折射率结构薄膜技术与装备。已经有大量研究工作已经证实Rugate无界面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布,能设计出非常复杂的光谱性能,(部分)消除了薄膜界面特征,(部分)消除界面效应,如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射,也可以增加了薄膜力学稳定性。光学镀膜技术的常用方法是通过真空溅射在玻璃基板上涂覆薄膜。宁波镀膜材料公司电话
在对光学部件的表面进行涂层之后,光学镀膜在涂层上多次反射和透射,从而形成多光束干涉。宁波镀膜材料公司电话
“预熔化”光学镀膜材料:传统的光学镀膜材料其形态主要包括自由颗粒和药片状两种。镀膜时,先往坩埚中填充一定量的材料,然后进行预熔,一般地,根据不同的镀膜需要,预熔时间大约2h~4h。采用传统材料主要有以下问题: 其一,由于颗粒和小片堆积密度小,因此坩埚装料有限;其二,预熔需要大量时间,对于工业生产,降低了生产效率;其三,在实际镀膜过程中,随着材料的消耗,往往会产生薄膜性能的差异,所以实际上材料利用率非常有限。因此,当镀制多层精密膜系和规模化生产时,传统材料具有一定的局限性。“预熔化”光学镀膜材料正是针对以上缺点而设计的一种的材料。真空镀膜时的预熔过程是通过电子口轰击来实现的,对于氧化物镀膜材料来说,电子束轰击预熔过程使材料在坩埚中完全或部分熔化成一体,但同时失去少量晶格氧。宁波镀膜材料公司电话
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