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实验室分析仪基本参数
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实验室分析仪企业商机

磨料的粒度测量:以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用,CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米,典型的过大聚集体为1-10微米,并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸,同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%,粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。驰光机电科技在客户和行业中树立了良好的企业形象。青海纳米粒度分析仪报价

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如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺,提高产品质量和增加产量。C-Quand在线EDXRF分析仪:利用 C-Quand在线EDXRF分析仪对钴、锰、溴三种催化剂进行了同时和连续的分析。所使用的技术是由X射线管激发的能量分散X射线荧光,不需要放射源。在分析过程中,连续流动过程样品中的催化剂被X射线激发,并发出其特征辐射。使用技术气体比例计数器(GPC)检测和分析这些放射X射线,并使用存储的校准曲线将其转换为结果。安徽粒度分析仪报价驰光机电以好的,优良的产品,满足广大新老用户的需求。

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主要特点如下:1.所需样品量少。每次只需要0.1ml,这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后,可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较,对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒,依旧可以很好地区分测量出来,即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较,由于采用更快的圆盘转速和高速检测器,因此较大缩短了分析所需时间。

CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间,以及病毒颗粒的团聚情况,峰值清晰可见,为疫苗的研发生产提供全新的解决方案。应用范围:CPS纳米粒度分析仪可测量粒度分布在5nm-75微米之间的超细粉,大量应用于以下领域。化工:聚合物乳胶和乳液,助剂及添加剂(纳米碳酸钙CaCO,重晶石3CaSO),白炭黑SiO2,金刚石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等,抗冲击增强颗粒。制药/生物:纳米金和纳米银,病毒和类病毒颗粒,细胞和细胞碎片,蛋白质,脂质体。驰光机电科技有限公司推行现代化管理制度。

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对于粒径分布范围很宽的样品,通过可选的速度调节功能圆盘,只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示:与扫描电镜所显示的结果基本一致,裂解后的炭黑较小粒径为3um,较大可至50多微米,并且出现很多峰值,证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环,CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。驰光机电科技有限公司敢于承担、克难攻坚。河北高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价

驰光机电科技有限公司从国内外引进了一大批先进的设备,实现了工程设备的现代化。青海纳米粒度分析仪报价

CPS纳米粒度分析仪测量参数:粒径、粒形和浓度;粒径范围:0.1-3600μm;浓度范围:高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒);供样方式:液体、干粉、表面;系统规格/重量电源:665L×280W×183H(mm);14Kg;100-130V,205-240V,50/60Hz,100VA;2mW He-Ne,632.8nm,硅PIN二极管检测器;全量程的0.3%,小可达0.2μm;同步频闪光源,亮度和持续时间可调;频闪率;可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素;PAL768×572像素。Windows XP操作系统,检测报告自动生成,符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准;符合多项ISO方法标准;测量池模块:液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。青海纳米粒度分析仪报价

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