灰度光刻基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳光刻系统
  • 规格
  • QuantumX
  • 厂家
  • Nanoscribe
  • 产地
  • 德国
灰度光刻企业商机

将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度特别高。    Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。Nanoscribe双光子灰度光刻系统Quantum X适用于制造微光学衍射以及折射元件。上海德国灰度光刻无掩膜激光直写

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   Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。微米级增材制造能够突破传统微纳光学设计的上限,借助Nanoscribe双光子聚合技术的出色的性能,可以轻松实现球形,非球形,自由曲面或复杂3D微纳光学元件制作,并具备出色的光学质量表面和形状精度。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。江苏双光子灰度光刻技术双光子灰度光刻(2GL ®)系统Quantum X实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。

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德国Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统,该系统是first基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的精密加工微纳米打印系统,可应用于折射和衍射微光学。Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印的面世**着Nanoscribe已进军现代微加工工业领域。具有全自动化系统的QuantumX无论从外形或者使用体验上都更符合现代工业需求。下面讲讲在衍射微光学中的应用:多级衍射光学元件双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。

超高速灰度光刻技术的应用不仅局限于传统领域,还可以拓展到新兴领域。例如,在新能源领域,它可以用于制造高效的太阳能电池板;在人工智能领域,它可以用于制造更快、更强大的计算芯片。这些应用将进一步推动科技的发展,为人类创造更美好的未来。超高速灰度光刻技术的发展离不开科研人员的不懈努力和创新精神。他们通过不断突破科技边界,攻克了一个又一个难题,从而实现了这一技术的突破。他们的付出为我们带来了更多的机遇和挑战,也为科技进步做出了巨大贡献。超高速灰度光刻技术的问世,标志着科技进步的新里程碑。我们相信,在这项技术的推动下,未来将会有更多的创新和突破。让我们共同期待超高速灰度光刻技术带来的美好未来!Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司带您一起了解双光子灰度光刻系统的应用。

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   Nanoscribe是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的子公司,开发并提供用于纳米、微米和中尺度的3D打印机以及光敏材料和工艺解决方案。其口号是:“我们让小物件变得重要”,公司创始人开发出一种技术,对智能手机、手持设备和医疗技术领域至关重要的3D打印产品。通过基于双光子聚合(2PP)的3D打印机投入市场,他们已经为全球的大学和新兴行业提供了新的解决方案,致力于3D微打印生命科学研究以及纳米级3D打印光学,甚至利用他们的技术来开发创新的设备,例如用于类固醇洗脱的3D微支架人工耳蜗。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨双光子灰度光刻系统。山东高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

关于双光子聚合(2PP)和双光子灰度光刻(2GL ®)的问题,咨询请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。上海德国灰度光刻无掩膜激光直写

Nanoscribe称QuantumX是世界上首套基于双光子灰度光刻技术(two-photongrayscalelithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换,物镜和样品夹持器识别会自动运行。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。上海德国灰度光刻无掩膜激光直写

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