企业商机
Tracepro基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • Tracepro
  • 型号
  • Tracepro
  • 是否定制
Tracepro企业商机

TracePro通过使用蒙特卡洛方法追迹光线,模拟了整个模型或选定表面上的发光强度,辐照度/照度和通量的分布。光源通过发出光线来建模。此外,TracePro的Surface Source Property Utility可将图形化的Surface Source属性直接从制造商的数据表中导入。

光线集是使用以下三种方法的任意组合定义的:

• 网格–指定空间和角度光束轮廓,波长和尺寸,以及光束方向,偏振状态和偏振度。

• 表面–使用光通量或辐照度/照度指定任何固体物体的一个或多个表面的角度分布和发射光谱。表面也可以定义为黑体或灰体辐射体。可以将表面的任何组合定义为光源。

• 光线文件–由XYZ起点和方向矢量,偏振态,波长数据,以及每条光线的初始通量值或斯托克斯矢量。光线文件通常是根据源测量或理论计算创建的 TracePro直接导入OSLO, CodeV和Zemax的镜头设计参数,可以建立精细的透镜模型。浙江Tracepro代理Tracepro给您好的建议

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实体建模

通过导入镜头设计或CAD文件以及直接在TracePro中创建实体几何来创建TracePro模型。可以通过用户友好的3DCAD界面使用移动,旋转,缩放,扫掠和旋转对象和曲面操作来修改模型。原始固体(例如管)块,圆锥和球体;也可以插入光学元件,包括透镜元件,反射镜和菲涅耳透镜。TracePro实用程序允许交互式草绘快速输入2D和3D配置文件;然后拉伸,旋转并组合这些表面,以创建复杂的几何形状,例如光导条,反射镜和自由曲面的光学元件。可视化选项包括:拟真渲染,实体渲染,轮廓,线框和隐藏线视图。 山西光学软件Tracepro常用解决方案此外TracePro也可用于成像系统中进行杂散光分析及模拟偏振效果。

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光学追迹功能包括:

l  分光

l  准确的光线追踪-----不错过交叉或虚弱的光线

l  分析模式光线追迹对于交互式视图在任何表面或物体上的分析结果都是完整的

l  仿真模式光线追迹在追踪大量光线时的内存消耗是非常少或者是没有的

l  多出射面(仿真模式)

l  均匀或八叉树的立体像素地光线追迹使物体空间体素化

l  孔径衍射

l  重点分层采样

l  通过反向光线追迹来完善抽样方法的设计

TracePro仿真布局在发光强度,辐照度/光照度和波动在一个模型或在选定面使用Monte Carlo的方法追踪光线。光源由发射光线建模。此外,在TracePro表面光源属性中可以绘制面源属性直接从制造商的数据表导入。

坎德拉图以坎德拉或瓦特/星等表示发光或辐射强度。坎德拉图共有四种类型:Polar Candela, Iso-Candela, Rectagular Candela, and Iso-Candela.

• 偏振图绘制了入射到选定表面上的通量的偏振椭圆。颜色级别和椭圆图形显示了表面上各点的偏振度和椭圆度。

• 入射光线表提供入射到选定表面上的光线的表格输出。

•“光线历史记录表”提供了入射到选定表面上的所有光线的完整历史记录。

•“路径分类表”提供了入射到选定表面上的光线路径的可分类表,可以交互查看光线和所选路径的辐照度图。 TracePro能轻易解决各种光学设计上的问题。

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TracePro拥有完整成熟的操作界面,其直觉友善的设计架构,可以非常快速地让使用者熟悉软件的操作环境。TracePro使用ASIC实体绘图引擎作为其CAD的运算**,能轻易地新建或汇入光学模拟所需的固体模型。目前主流的CAD软件均有支持ACIS规格(SAT格式),故其几何转档上的兼容性极高。TracePro亦可支持IGES、STEP的几何文件格式,亦可汇入镜头设计文件(如OSLO、CodeV、ZEMAX、ACCOSV及Sigma)做后续光线追迹之用。

TracePro研发的RepTile功能,可方便地建构重复性的光学零件,特别像是LCD的背光模块导光板上的网点结构设计,可以大幅降低建模时间,加速产品的研发、生产时程。 上海复光Tracepro**。云南Tracepro代理Tracepro多少钱

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3D优化

TracePro 提供3D对称及非对称优化器,可快速指定起始设计以及交互式控制点和分段点规格。优化器具有内置的交互式光线跟 踪工具,可快速诊断设计的可行性,并在控制点或分段点上拉动即可自动更新任何光线跟 踪。TracePro 的优化过程迅速确定了设计的可行性,同时还允许连续监视结果并将其用于模型的后续优化。3D优化器支持复杂的非对称设计,非常适合设计形状异常的复杂光导条和LED透镜。

结构优化

TracePro 提供了Texture Optimizer,可让您优化背光上散射点的分布。首先定义目标辐照度分布,然后定义点的起点分布。 优化器将调整点的密度以实现您的目标分布。

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