1、注意热镶样品的几何尺寸及位置摆放
样品的几何尺寸及具**置摆放,以及样品之间的距离都会导致热镶嵌效果的差异。复杂形状的样品(如环状、锯齿形)相对于标准形状的样品,更容易出现填充不充分的情形,需适度提高镶嵌压力。如要在一个模具中镶嵌多个样品,则样品之间以及样品到模具边缘的距离需足够(至少需预留2-3mm),否则容易产生缝隙或裂纹。
2、选择合适硬度的镶嵌材料
如果需要实现足够的边缘保持,镶嵌树脂和试样的硬度应大致相当,这样才会有正常的过度区域。否则,若镶嵌树脂过软,会导致正浮凸现象,试样边缘会发生倒角;若树脂过硬,试样去除量更多,则导致负浮凸
深圳市新则兴科技为您提供试样**研磨,欢迎垂询。汕尾电子金相研磨机专业服务化学抛光是一种将金相样品浸入调配的化学抛光液中,借化学药剂的溶解作用而得到的抛光表面的抛光方法。化学抛光是常见的金相样品抛光方法之一,这种方法操作简便,不需任何仪器设备,只需要选择适当的化学抛光液和掌握比较好的抛光规范,就能快速得到较理想的光洁而无变形层的表面。
基本原理:
金属试样表面各组成相的电化学电位不同,形成了许多微电势,在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜,试样表面凸出部分由于粘膜薄,金属的溶解扩展速度较慢,抛光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能达到十分理想的要求。在低和中等放大倍数下利用显微镜观察时,这种小的起伏一般在物镜垂直鉴别能力之内,仍能观察到十分清晰的组织。
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边缘磨圆
当使用回复性高的抛光布时,有时会同时研磨样品的表面和侧面,这种效应称为边缘磨圆。果树脂的磨损速率大于样品,则会出现这种现象。
对措施:
● 磨制过程中要保护好需检验的边缘,不要因检验样品边缘而对样品边缘过度磨制产生倒角;
● 抛光时试样需要保护的一边朝后,不需保护的一边在前,迎着抛光盘转动的方向进行抛光,抛光时尽可能接近盘心位置,抛光时间不宜过长。
浮雕
由于不同相的磨损速率和硬度不同而导致不同的材料剥离速率不同,从而产生浮雕。
应对措施:
● 浮雕主要发生于抛光阶段,研磨后的样品质量要高,给抛光提供好的基础。
● 抛光布对样品的平整度有显注影响,低回复性抛光布要比高回复性抛光布造成的浮雕效果轻。
● 抛光布抛光期间应保持一定的湿度,并且控制制样时间,避免制样时间过长。如果出现了浮雕现象必须要重新制样。
抛光注意事项:
● 抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大,并从边缘到中心不断地作径向往复移动。
● 抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多,会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落,抛光面质量不佳;若抛光液太少,将使抛光面变得晦暗而有黑斑。
● 后期应使试样在抛光盘上各方向转动,以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。
● 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性,整个抛光时间不宜过长,磨痕全部消除,出现镜面后,抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。 金相研磨机的日常保养。
金相试件研磨方法:
1.将水磨砂纸浸湿,平放在研磨盘中。
2.打开左盘水开关,并调整好水流。
3.开电源开关,金相磨抛机研磨逆时针方向旋转。
4.将切割好的试样用力持住,并轻轻靠近砂纸,待试样和砂纸接触良好并无跳动时,可用力压住试样进行研磨。
5.力度大约在不使研磨面因摩擦过热而烧伤组织为佳(大约2kgf)。
二、金相试件抛光方法:
1、打开抛光机,打开水管,水流至砂纸2/3处,在100目的砂纸上进行抛磨,直至试件抛磨表面没有明显变化,更换至200目、400目、800目、1200目进行相同操作。
2、在1200目砂纸上操作完成后,将试件放到绒布上进行操作,操作如下:打开水管将绒布浸湿,用刷子将绒布表面清理,关闭水管,喷涂金相抛光膏0.5S,将试件金相抛光至镜面。
3、试件表面甩干,放置于金相显微镜上观察有无划痕,若有重新进行绒布抛光,若没有则进行第4步。
4、将抛光好的试件表面略倾,滴加4%硝酸酒精,旋转试件使液体在抛好的表面全部覆盖,试件表面发雾,持续2~3秒,用流水将硝酸酒精冲洗干净,用吹风机将试件表面吹干。
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脱落
研磨过程中,样品表面处的粒子或晶粒被拽掉后留下的孔洞称为脱落。由于硬脆材料无法塑性变形,致使样品表面的微小区域发生破碎而脱落或被抛光布拖拽下来。
应对措施:
● 切割和镶样过程中,不要施加过大的应力以免损伤样品。
● 粗磨或精磨时,不能使用过大的压力和粗大的研磨粒子。
● 应使用无绒毛抛光布,这种布不会将粒子从基体上“拽”出来。
● 每道工序都必须去掉上道工序造成的损伤,并尽可能地减小本 道工序造成的损伤。
● 每道工序后都检查样品,找出何时发生脱落,一旦出现脱落就必须重新进行磨制。
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