上海复瞻复光Tracepro设计优化

TracePro的2D和3D优化器是一个很直观的设计工具，能很容易被光学工程师或者设计工程师掌握。

这款工具的主要功能如下：

l  表面列表

有各种类型的表面，例如平面的，B样条的，参数化的（双锥形表面），2D轮廓（非对称，对称，椭圆的），用户自定义路径（2D，3D）。

l  物体外观

显示不同类型的物体，例如辐射对称体，挤压体，透镜，扫描体，双轴的；在属性编辑器里建立可调的初始参数。

l  属性编辑器

根据不同的选择可以编辑不同的参数，大概包括起点，中心，角度（X,Y,Z），倾斜度，位移，厚度，材料种类，表面属性，拔模角，折射率。

l  优化

选择使用选择对象的哪些值作为优化目标，包括：光通量，色空间（CIE），辐照度分布，辐照度曲线，强度，坎德拉曲线，均匀性。用户也可以定义他们自己的优化目标。

可视化的选项包括:真实渲染，实体渲染、轮廓线、线框和隐藏线等，这些选项能帮助设计更直观、准确地区设计所想要的产品。它的多文档和多视图结构允许用户可以在同一时间打开同一个模型的几个视图模式。复制和粘贴一个物体到另一个模型只需要简单的几个按键或者菜单选择项。

TracePro的RepTile特色能够简单的，自动的在任意表面设计大量的微结构，这些微结构的位置既可以随机设置，也可进行周期性排列，例如亮度增强膜，光导中的散射点，并且这些微结构可以均匀分布，可以参数化，或者可以利用已有的数据文件来设置。另外，用户可以设定每个微结构的属性，例如边数，高度，宽度，厚度，曲率半径，二次曲面系数，非球面，旋转角度。 光学设计Tracepro官方下载上海复光光学设计Tracepro。

光线集定义使用以下三种方法的任何组合:

格点光源------指定的空间和光束角度、波长、光束大小以及有光束方向，偏振状态和偏振度

表面光源-----使用光通量或辐照度/光照度确定任何物体的一个或多个表面的指定分数角度和发射光谱。物体表面同样可以被定义为黑体或灰体辐射器。任何物组合的体表面都可以被定义为光源。

档案光源-----预先定义的光源表格包括每条光线的XYZ起始点、方向矢量、偏振状态、波长数据、初始光通量值以及斯托克斯矢量。光源文件一般是从光源测量或理论计算产生的。

TracePro提供了***的工具组合来查看和分析的光线跟 踪，包括：

辐照度/照度分析图显示了光线入射、吸收和逃逸的辐照度和照度，CIE图和真实色彩图。它的多种选项既能控制像素化，剖面曲线，辅助图示，对数量度和平滑化操作，又可以导出文本文件和位图文件。

辉度/辐度分析图可以显示基于跟 踪的波长的真实色彩。可以使用应用于模型中的光学属性和光源得到的亮度图制作出非常精确的逼真渲染图。

三维辐照图可以显示所选择的表面或物体的入射、吸收或者逃逸的照度、CIE和真彩图。这个分析图可由将光通量和色彩图的光照图显示在三维CAD几何模型的表面来实现。有多种选项可用于绘制轮廓，比如透明度，环境照明，线性和对数输出，梯度显示，色彩图示和平滑化。 上海复光复瞻光学模拟Tracepro。

性能和精确性

光线追迹功能包括：

• 光线分裂

• 精确的光线追迹–不会错过任何交叉点或“漏掉”光线

•“分析模式”光线追迹，用于在光线追迹完成后以交互方式查看任何表面或对象上的任何分析结果

•“Simulation Mode”光线跟 踪功能，用于跟 踪非常多的光线，而几乎不消耗内存或不消耗内存

• 多个出射面（模拟模式）

• 使用统一或八叉树体素对对象空间进行体素化以进行快速光线追迹

• 光圈衍射

• 重点取样

• 通过这种方法改进采样的设计的反向光线跟 踪 光学设计优化就用TracePro。光学模拟Tracepro**

上海复光复瞻Tracepro技术支持。上海复瞻复光Tracepro设计优化

3D优化

TracePro 提供3D对称及非对称优化器，可快速指定起始设计以及交互式控制点和分段点规格。优化器具有内置的交互式光线跟 踪工具，可快速诊断设计的可行性，并在控制点或分段点上拉动即可自动更新任何光线跟 踪。TracePro 的优化过程迅速确定了设计的可行性，同时还允许连续监视结果并将其用于模型的后续优化。3D优化器支持复杂的非对称设计，非常适合设计形状异常的复杂光导条和LED透镜。

结构优化

TracePro 提供了Texture Optimizer，可让您优化背光上散射点的分布。首先定义目标辐照度分布，然后定义点的起点分布。 优化器将调整点的密度以实现您的目标分布。

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