下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的技术指标。1.使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2.绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;3.加热元件:石墨加热棒;4.冷却方式:气冷+循环风冷降温;5.控温稳定度:2℃,具有PID参数自整定功能;6.炉膛温度均匀度:5℃(恒温1500℃);7.气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;8.极限真空:10-3torr级;9.抽气速率:空载下,30min达到10-2torr10.升温功率:170kW;11.升温速率:15℃/min(空载);12.降温速率:1450℃至80℃,240分钟13.腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)上海哪家存储柜值得信赖?新余不锈钢存储柜
用途:不同的用途需要不同的存储柜,如家庭需要木质存储柜,工厂需要金属存储柜。材质:存储柜的材质直接影响其质量和使用寿命,需要选择质量好、材质坚固的存储柜。尺寸:存储柜的尺寸需要根据存储的物品大小来选择,过大或过小都会影响使用效果。功能:不同种类的存储柜具有不同的功能,需要根据实际需求选择。品牌:品牌的好坏也是选择存储柜时需要考虑的因素之一,品牌好的存储柜质量更有保障。四、存储柜的维护存储柜的维护可以延长其使用寿命,具体方法如下:定期清洁:存储柜需要定期清洁,可以使用湿布擦拭,避免使用含有酸性或碱性的清洁剂。防潮防虫:存储柜需要防潮防虫,可以在存储柜内放置干燥剂或防虫剂。福建存储柜图片存储柜使用时的注意事项。
无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。一、技术指标与基本配置:1.使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;2.炉膛腔数:2个,上下布置;3.炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度4.温度和氧含量记录:无纸记录仪;二、氧含量(配氧分析仪):1.高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.控温稳定度:1℃;2.3温度均匀度:2%℃(260℃平台);
下面为大家介绍一下高温钟罩炉的结构系统。一、炉体配置炉膛结构:采用多晶莫来石材料砌筑而成有效尺寸:φ300320mm(DH)设备重量:约1200Kg外观颜色:挂板采用高温喷塑,颜色为江淮蓝,不含(囱、指示灯)二、热工系统1.额定温度:1550℃2.限制温度:1600℃3.加热元件:U型硅钼棒4.加热功率:16kW5.空炉保温功率≤8kW6.温区个数:1个7.控温点数:1点8.热偶:B分度9.程序**精度:2℃(大于600℃,升温速率≤3℃/min)10.控温稳定度:1℃(恒温平台)11.炉膛温度均匀度:4℃(恒温1500℃,2h)存储柜制作原理是什么呢?合肥真萍科技为您专业解答。
使用高温钟罩炉有特定的操作方法,需按照标准操作规范进行。下面是真萍科技的钟罩炉的使用注意事项。在使用高温钟罩炉时,其升温要缓慢地用逐渐进步电压的方法进行。留意不要超过安全温度,避免焚毁电热丝。将物料放入炉膛时,切勿碰及热电偶,因伸入炉膛内的热电偶热端在高温下易于折断。将金属以及其它矿藏放入高温钟罩炉炉内加热时,有必要置于耐高温的瓷坍涡或瓷皿中,或垫以耐火泥板或石棉板,避免与炉膛粘连在一起。不要让高温钟罩炉受潮,以防漏电。合肥真萍告诉您使用存储柜的便捷性。江西存储柜图片
存储柜怎样使用?合肥真萍告诉您。新余不锈钢存储柜
存储柜柜子机壳的一侧外表面垂直方向中心处安装有动力传输装置,上述柜子机壳的另一边外表面垂直方向中心处设有数据传输装置,上述柜子机壳的内表壁接近底部边缘处设有隔离板,上述隔离板的顶部中心处和上述柜子机壳的内部顶面中心处中间前后方向上设有一号隔断板,上述一号隔断板的一侧垂直方向中心处开设有长条凹形槽,上述柜子机壳的内表壁一侧中心处竖直向上开设有长条埋孔,上述长条凹形槽和长条埋孔方的内表壁中间衔接有活动衣杆,上述活动衣杆的一侧延展出柜子机壳与上述动力传输装置相连接。新余不锈钢存储柜
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁...