腔式黑体炉和面源黑体炉是两种较为常用的黑体炉类型。腔式黑体炉主要用于校准红外测温仪和热成像测试仪。它通过特定的腔深设计，使得进入空腔的电磁辐射在内部壁的每一次入射都有很少的能量被反射，经过在腔内的多次反射和吸收，电磁辐射几乎全部被吸收，从而达到高辐射率。一般腔式黑体炉的辐射率≥0.995。面源黑体炉则是一种肉眼能看到靶面的黑体辐射源，主要用于校准红外热成像测试仪。它通过高传导性、高保温性的靶底与发黑处理，达到规定的辐射率、稳定性、均匀性。虽然面源黑体炉吸收的电磁辐射较少，但通过人为处理，其辐射率可以≥0.95。由于其面比较大，可满足市面上热像仪的比较小视角需求。选择哪种黑体炉更常用，主要取决于具体的应用场景和需求。例如，如果需要进行精确的红外测温仪校准，腔式黑体炉可能更适合；而如果需要满足大视角的红外热成像测试仪校准需求，面源黑体炉则可能更合适。因此，在选择黑体炉时，应根据实际需求和预算进行综合考虑。实际黑体炉存在着非均匀的温度分布，空腔有效发射率就随着温度分布和波长变化而变化。上海红外测温黑体炉
黑体炉的另一个品牌INFRAMET位于波兰，成立于2002年，一家高科技设备制造商，用于测试电光监视系统（热成像仪、夜视设备、可见光近红外摄像机、SWIR成像仪、激光测距仪、激光指示器、多传感器系统、融合系统、紫外摄像机、光学瞄准器）和此类系统的主要模块（图像增强器管、红外焦平面阵列/CCD/CMOS成像传感器、光学物镜）。EO监测系统的质量控制、设计优化、制造和维护需要测试设备。这里就简单介绍一下INFRAMET黑体源，分为腔体和面源低温黑体炉BR125发射率测量仪器见图4，分别为日本某公司生产的FTIR-6100型傅里叶光谱分析仪和HIT-2型面源黑体炉。
稳定性是指随着时间的推移黑体能够控制和发射相同的温度的能力。高稳定性能够使黑体在测试过程中保持相同的温度，这对于红外芯片和相机的NETD和噪声测试时非常必要。实际上，**红外芯片和相机拥有低噪声和极小的NETD值，这就要求黑体具有高稳定性，才能遵从测试设备和校正设备之间4：1的测试精度。例如，德国DIAS的CS1500黑体的稳定性为0.002K，所以它是可以应用于所有制冷型红外探测器（这些探测器的典型NETD值是30mKd到10mK）的NETD测试。
考虑到这种情况，有些人可能认为反射率不如等效反射率那么重要。然而，辐射校准是在实验环境中计算得出的，实验环境温度大概在22-23℃左右，并且是在光谱中的特定波段，其校正结果只在该实验温度和波段下有效。因此这种情况下需要严格控制工作环境的温度。发射率越高，光谱辐射力才接近完美黑体。。辐射定标是为了在全波段范围内匹配完美黑体的总体信号，而不是为了匹配每个波长的信号。这意味着某个波段的光谱辐射力不等于它是一**美的黑体。***，在黑体进行辐射校准时的温度和环境温度相差较大的情况下，比较好使用黑体的实际反射率而不是等效反射率，并且对后来的测量进行校正。而DIAS黑体炉的出色性能也是特色之一，就是即使在没有辐射校准的境况下也可以使用对初筛检不符合的额温计增加了低温黑体炉复核方法。
黑体炉改变10℃以内的温度需要的温度稳定时间在60秒以内，无论是升温或降温情况下。HGH的黑体可以在任意时间设置成任意想要的温度，不受步骤流程的约束，在降温过程中（低于0℃）。例如，当把一个黑体从100℃降温到25℃时，普通低温黑体大概需要15分钟；对于**黑体来说，它的典型冷却速率为0.2℃/s，所以只需要6分钟就可以从100℃降温到25℃；而HGH的DCN1000黑体系列，*需要3分钟。另外，对于双温应用(例如NETD)，HGH研发了双发射面黑体：TwiN1000黑体。它们有两个**的发射面，温度范围0-150℃，可以满足在两种温度下同时工作的应用需求，是比短升温和降温时间更好的选择。一般黑体炉是和标准温度计是一体检定的，参照标准温度计检定周期检定即可 。智能黑体炉推荐货源
哪种黑体炉比较常用？上海红外测温黑体炉
当谈及黑体炉的温度精度时，必须考虑以下四个因素：•温度传感器（通常是Pt传感器）•电子测试单元•温度传感器和发射面之间的导热材料•反射率只要以上因素中有一个没能控制好，就不能保证温度精度。问题是温度芯片和发射表面之间的热接触无法测量。这也就是为什么在说明温度精度时，厂家只能说明其温度传感器结合他们测试卡的精度，而不是黑体温度的实际精度。总之，厂家给出的精度也许是一个不错的指导。作为需要慎重考虑的参数，DIAS投入了很大的精力在黑体的反射率以及温度传感器和发射面之间的导热材料上，从而保证黑体的温度精度尽可能的接近温度传感器的精度。上海红外测温黑体炉
