增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司带您了解增材制造技术的作用。重庆微纳米增材制造无掩膜光刻

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增材制造(AM)技术又称为快速原型、快速成形、快速制造、3D打印技术等,是指基于离散-堆积原理,由零件三维数据驱动直接制造零件的科学技术体系。基于不同的分类原则和理解方式,增材制造技术的内涵仍在不断深化,外延也不断扩展。增材制造技术不需要传统的刀具和夹具以及复杂的加工工序,在一台设备上可快速精密地制造出任意复杂形状的零件,从而实现了零件“自由制造”,解决了许多复杂结构零件的成形,并**减少了加工工序,缩短了加工周期,而且产品结构越复杂,其制造速度的作用就越明显。重庆微纳米增材制造无掩膜光刻激光增材制造是一种高效、精确的制造技术。

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Nanoscribe设备专注于纳米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印机设计用于使用双光子聚合生产纳米和微结构塑料组件和模具。在该过程中,激光固化部分液态光敏材料,逐层固化。使用双光子聚合,分辨率可低至200纳米或高达几毫米。另一方面,GT2现在可以在短时间内在高达100×100mm2的打印区域上生产具有亚微米细节的物体,通常为160纳米至毫米范围。此外,使用GT2,用户可以选择针对其应用定制的多组物镜,基板,材料和自动化流程。该系统还具有用户友好的3D打印工作流程,用于制作单个元素。这些元件可以创造出比较大的形状精度和表面光滑度,满足智能手机行业中微透镜或细胞生物学中的花丝支架结构的要求。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。增材制造的优势在于能够将热交换器芯和歧管作为单个整体部件生产。

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QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。另外,Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点,这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。增材制造可减少材料浪费和能源消耗。广东双光子增材制造微纳光刻

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3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构,自此成为全球市场的高精度,微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机来制造包括标准折射微光学,自由光学元件,衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示,“将3D打印技术与用户友好的软件和创新材料相结合,导致可重复的精益流程”,使客户能够“克服当前的技术障碍”。Nanoscribe使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机,近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。重庆微纳米增材制造无掩膜光刻

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