精密工业烤箱多少钱

冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min四、温度控制系统1.温度测量采用K分度热偶测量2.控制仪表采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能4.控制方式固态继电器过零控制5.超温处理⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。使用工业烤箱前的检查步骤。精密工业烤箱多少钱

电热鼓风烤箱：本设备适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。箱体结构：1、本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2、箱体采用先进设备制作、业内**的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。3、工作室材质为不锈钢、外箱材质为优良冷轧钢板，产品外壳使用环保金属漆喷制，整体设计美观大方，适合前端实验室的颜色搭配。4、工作室内的搁架不可调节。5、工作室与外箱之间的保温材质是优良超细玻璃纤维保温棉，保温厚度：＞70mm，隔温效果好，国内**，高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层，内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特，极大减少了内腔热量的外传。6、门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构，密封、耐高温性、抗老化性好。控制系统：1、采用数显微电脑温度控制器，控制精确可靠。2、具有定时功能、控温保护功能，设有风机停转开关。保护系统1、超温保护系统2、过电流保护3、快速熔断器4、接地保护上海工业烤箱的价格和照片有哪些领域需要使用工业烤箱？

HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃（恒温800℃,1h）二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气，流量计量程为2～20L/min；每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气*囱，用于废气排放，废气3.经过水封清洗后进入大气中，减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量：5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量三、冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min四、温度控制系统1.温度测量采用K分度热偶测量2.控制仪表采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能4.控制方式固态继电器过零控制5.超温处理⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。工业烤箱的重要组成部分有哪些？

一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.二、主要技术指标：1、工作室温度范围：常温～+300℃用户使用温度260℃2、温度波动度：1.0℃（空载）；3、温度偏差：常压温度试验：常温～200℃时2℃200～300℃时5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时2.0℃，100℃～200℃时5.0℃200℃～300℃时7.0℃4、升降温速率：升温时间：①常压时：90min（常温～+260℃）②低气压0.0001pa时：180min（常温～+260℃）降温时间：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常温℃）降温方式：水冷降温5、试验箱承压方式：采用内承压方式6、压力范围：常压～0.0001Pa合肥真萍告诉您如何正确使用工业烤箱？生产工业烤箱专卖

工业烤箱的重要组成部分。精密工业烤箱多少钱

下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉一.产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；4、加热元件：石墨加热棒；5、冷却方式：气冷+循环风冷降温；6、控温稳定度：2℃，具有PID参数自整定功能；7、炉膛温度均匀度：5℃（恒温1500℃）；8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；9、极限真空:10-3torr级；10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr11、升温功率：170kW；12、升温速率：15℃/min（空载）；13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟精密工业烤箱多少钱