**是全世界一个主要死亡原因，2020年有近1000万人死于**[1]。而其中胶质母细胞瘤是一种极具破坏性的脑**，其*细胞增殖非常快且具有**性。为了研究、***和破坏脑肿瘤细胞，研究人员正在研究使用质子放射***，该***手段已被证明在不同**类型中比x射线放射***更有效和微创的技术。然而，质子放射***的成本很高，这使得在动物和人类身上进行的试验也变得非常昂贵，几乎无法进行。质子放射***的高成本也导致缺乏从细胞水平了解质子对胶质母细胞瘤影响的临床研究。体外模型为评估*细胞对药物和辐射的反应提供了一个平台。然而，由于无法模拟体内自然发生的3D环境，传统2D单层细胞培养存在很大局限性。为了寻找更真实的模拟环境，代尔夫特理工大学（DelftUniversityofTechnology）的科学家们利用Nanoscribe的3D微纳加工系统制作了3D工程细胞微环境，并且***次在质子束放射实验中研究了所培养的胶质母细胞瘤细胞3D打印支架，以探究其对辐射的反应。令人印象深刻的是，该实验结果显示，与2D单层细胞相比，3D工程细胞培养中的DNA损伤得到了***降低。光固化光刻技术，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。江苏2PPNanoscribe微流道
Nanoscribe公司成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，秉持着卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的技术背景的德国卡尔蔡司公司的支持，经过十几年的不断研究和成长，已然成为微纳米生产的带领者，一直致力于推动诸如力学超材料，微纳机器人，再生医学工程，微光学等创新领域的研究和发展，并提供优化制程方案。如今，Nanoscribe客户遍布全球30个国家，超过1500名用户正在使用Nanoscribe3D打印系统。这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院等等。为了拓展并加强中国及亚太地区的销售推广和售后服务范围，Nanoscribe于2017年底在上海成立了独资子公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。湖北实验室NanoscribeQuantum X微纳光学器件制造，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。
因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK 集团成为世界上头一家拥有双光子聚合 (2PP) 增材制造能力的生物科技公司。 Nanoscribe公司 的 2PP 技术能够在亚细胞尺度上对血管微环境进行生物打印，适用于细胞研究和芯片实验室应用。该技术未来也将助力集团的相关产品线开发，用于制造植入体、微针、微孔膜和组学应用耗材等。 CELLINK集团的前列宏观结构生物打印技术与 Nanoscribe 公司的微观结构生物打印技术相结合做到了强强联手的协作效应，可以实现更逼真的组织结构，例如血管化和细胞支持体等。 2PP 技术将实现CELLINK集团所有三个业务的跨领域应用，并增强集团的耗材产品开发和供应。 “借助 Nanoscribe 特别先进的 2PP 技术，我们可以实现扩大补充我们的产品组合，为我们的客户提供更加广的产品。
Nanoscribe首届线上用户大会于九月顺利召开，在微流控研究中，通常在针对微流控器件和芯片的快速成型制作中会结合不同制造方法。亚琛工业大学（RWTHUniversityofAachen）和不来梅大学（UniversityofBremen）的研究小组提出将三维结构的芯片结构打印到预制微纳通道中。生命科学研究的驱动力是三维打印模拟人类细胞形状和大小的支架，以推动细胞培养和组织工程学。丹麦技术大学(DTU)和德国于利希研究中心的研究团队展示了他们的成就，并强调了光刻胶如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微纳光学和光子学研究中，布鲁塞尔自由大学的研究人员提出了用于光纤到光纤和光纤到芯片连接的锥形光纤和低损耗波导等解决方案增材制造技术具有高的坚固性，稳定性，耐用性。
对于光纤上打印的SERS探针，研究人员必须克服几个制造上的挑战。首先，他们设计了一个定制的光纤支架，可以在光纤的切面上打印。然后，打印的物体必须与光纤的重要部分部分完全对齐，以激发制造的拉曼热点。剩下的一个挑战，特别是对于像单体阵列这样的丝状结构，是对可能倾斜的基材表面的补偿。光纤倾斜的基材表面导致SERS活性微结构的产量很低。为了推动光学领域的创新以及在医疗设备的应用和光学传感的发展，例如光纤SERS探头，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系统QuantumXalign。凭借其专有的在光纤上的打印设置和在所有空间方向上的倾斜校正，新的3D打印系统可能已经为在光纤上打印SERS探针的挑战提供了答案，并为进一步改进和新的创新奠定了基础。
这项技术具有快速、精确和可定制的特点。四川超高速NanoscribeQuantum X
Nanoscribe是德国高精度增材制造系统的先驱。江苏2PPNanoscribe微流道
Nanoscribe称，QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。江苏2PPNanoscribe微流道
