企业商机
真空烘箱基本参数
  • 品牌
  • 宏誉科技
  • 型号
  • HY-608-100
真空烘箱企业商机

    充氮洁净烘箱是一种新型可造就洁净的恒温环境的电热干燥箱,可满足电子、医疗卫生仪器、仪表,工厂,高等院校、科研部门等有关单位作净化烘箱的需要。充氮洁净烘箱采用不锈钢工作室,不锈钢管作加热,内胆周身做密闭氩弧焊接,保证箱体内部洁净度高,箱内充以氮气等惰性气体有效防止产品氧化,有助于保证产品质量!充氮洁净烘箱采用精确的控温系统-数显温控系统。安装在箱体的顶部。其特点具有读数清晰、调节方便、控温精度高、结构简单、安全可靠之优点。充氮洁净烘箱采用水平送风强鼓风循环系统,特殊风道设计,使箱内温度均匀,确保了温度的稳定性。充氮洁净烘箱拥有完善的安全保护措施,超温报警、欠相缺相保护、过电流保护、快速熔断器、接地保护等系统,该功能充分保护实验人员的安全! 利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。苏州双层钢化玻璃观察窗真空烘箱价格

真空烘箱

从结构上分析,一般的干燥箱外壳都是采用冷轧钢板制造,但是从厚度上将,差别却很大。由于真空干燥箱里面的真空环境,为防止大气压压坏箱体,其外壳厚度要较鼓风干燥箱大些许,一般是选择钢板越厚质量越好,使用寿命也越长。为便于观察,在干燥箱的箱门都设有玻璃窗,一般有钢化玻璃和镶嵌门上的普通玻璃,杭州宏誉智能科技有限公司生产干燥箱箱门全部采用钢化玻璃,虽价格稍贵,但是外观漂亮,对于操作人员的安全更是有力的保障。杭州噪音小真空烘箱维修维护真空泵在寒冬季节使用时,停车后,需将泵体下部放水螺塞拧开将介质放净。防止冻裂。

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由外及里,干燥箱的内胆有两种选择,一是镀锌板,二是镜面不锈钢。镀锌板在长期使用过程中容易生锈,不利于保养;镜面不锈钢外观整洁,易于保养,使用寿命长,属市场上较好的内胆材质,但是价格要稍高于镀锌板。 内胆的样品架子一般有两层,可根据客户的要求增添。由于样品架的质量是由不锈钢压制而成,且多增加的架子不利于内部热风的循环,加大风机的质量要求,所以每加一个架子的成本在三百元之间。国内干燥箱的保温材质主要是以纤维棉为主,少数采用聚氨酯。

金属整体热处理大致有退火、正火、淬火和回火四种基本工艺。退火→将工件加热到适当温度,根据材料和工件尺寸采用不同的保温时间,然后进行缓慢冷却(冷却速度慢),目的是使金属内部组织达到平衡状态,获得良好的工艺性能和使用性能,或者为进一步淬火作组织准备。正火→将工件加热到适宜的温度后在空气中冷却,正火的效果同退火相似,只是得到的组织更细,常用于改善材料的切削性能,也有时用于对一些要求不高的零件作为热处理。淬火→将工件加热保温后,在水、油或其它无机盐、有机水溶液等淬冷介质中快速冷却。淬火后钢件变硬,但同时变脆。回火→为了降低钢件的脆性,将淬火后的钢件在高于室温而低于710℃的某一适当温度进行长时间的保温,再进行冷却,退火、正火、淬火、回火是整体热处理中的“四把火”,其中的淬火与回火关系密切,常常配合使用,缺一不可。真空烘箱,是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。

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使用注意事项:7.真空箱经多次使用后,会产生不能抽真空的现象,此时应更换门封条或调整箱体上的门扣伸出距离来解决。当真空箱干燥温度高于200℃时,会产生慢漏气现象(除6050、6050B、6051、6053外),此时拆开箱体背后盖板用内六角扳手拧松加热器底座,调换密封圈或拧紧加热器底座来解决。8.放气阀橡皮塞若旋转困难,可在内涂上适量油脂润滑。(如凡士林)9.除维修外,不能拆开左侧箱体盖(6090及6210型除外)以免损坏电器控制系统。10.真空箱应经常保持清洁。箱门玻璃切忌用有反应的化学溶液擦拭,应用松软棉布擦拭。11.若真空箱长期不用,将露在外面的电镀件擦净后涂上中性油脂,以防腐蚀,并套上塑料薄膜防尘罩,放置于干燥的室内,以免电器元件受潮损坏,影响使用。12.真空箱不需连续抽气使用时,应先关闭真空阀,再关闭真空泵电源,否则真空泵油要倒灌至箱内。加热时间短,与传统干燥烘箱比加热时间减少50%以上。杭州防止氧化真空烘箱调试调整

经常检查油质情况,发现油变质应及时更换新油,确保真空泵工作正常。苏州双层钢化玻璃观察窗真空烘箱价格

    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性,通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤,在真空或干燥氮气的机台中,以150~200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分,在此温度下,晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后,晶片须经过一次烘烤,称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常,软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高,但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定,典型的软烘温度是90~100℃,时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后,为了后面的高能工艺,如离子注入和等离子体刻蚀,也须对晶片进行高温烘烤,称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于:减少驻波效应;激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 苏州双层钢化玻璃观察窗真空烘箱价格

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