为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性,通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤,在真空或干燥氮气的机台中,以150~200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分,在此温度下,晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后,晶片须经过一次烘烤,称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常,软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高,但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定,典型的软烘温度是90~100℃,时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后,为了后面的高能工艺,如离子注入和等离子体刻蚀,也须对晶片进行高温烘烤,称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于:减少驻波效应;激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 主要适用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。真空泵抽湿真空烘箱规格尺寸
本实用新型的工作原理:首先将不同热量需求的原料放置在相应的支撑板13上,然后将热水源与每一个进水管6以及出水管8相连通,热水同时从每一个进水管6进入到每一层对应的导流管10内,并对支撑板13上的原料进行烘干,每一个导流管10内的热水经对应的出水管8流出,并回到热水源中进行加热以便再次循环使用。本实用新型的有益效果:(1)本实用新型结构简单,操作方便,可对不同原料进行加热烘干,烘干效果好、烘干效率高、适用范围广。(2)本实用新型中每一个进水管6与上层对应导流管10之间、上下相邻两个导流管10之间、下层每一个导流管10与对应出水管8之间均采用螺纹式快速连接,操作简单,使用方便,连接牢靠,保证了其内热水的稳定流动,从而提高了烘干效率。(3)本实用新型在每一个进水管6、出水管8以及导流管10内均沿其长度方向错位竖直设有上隔板11和下隔板12,用于降低热水的流速,从而提高了烘干效果。真空泵抽湿真空烘箱规格尺寸真空箱应经常保持清洁。箱门玻璃切忌用有反应的化学溶液擦拭,应用松软棉布擦拭。
BPO胶/PI胶/BCB胶固化烘箱要求一、技术指标与基本配置:1、洁净度:Class100级2、氧含量(配氧分析仪):高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量3、使用温度:RT~400℃,最高温度:450℃4、控温稳定度:±1℃;5、温度均匀度:150℃±1.5%,350℃±2%以内(空载测试);6、腔体数量:2个,上下布置;单独控温7、炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶8、空炉升温时间:1.5h;9、空炉降温时间:375℃--80℃;降温时间1.5-3.5小时(采用水冷及风冷);10、智能控制系统:PCL+PC工控电脑
真空烘箱专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计,能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥。该产品有以下特点: 1、长方体工作室,使有效容积达到比较大,微电脑温度控制器,精确控温。温度控制器2、钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。将真空泵与真空阀连接,开启真空阀,抽真空;
烘箱结构真空烘箱能在较低温度下获得较高的干燥速率,热量利用充足,主要合用于对热敏性物料和含有容剂及需回收溶剂物料的干燥。在干燥前可进行消毒办理,干燥过程中任何不纯物无混入,本干燥器属于静态真空干燥器,故干燥物料的形成不会破坏。加热方式有:蒸汽、热水、导热油、电热。在真空条件下,溶剂沸点明显降低,箱内保持温度恒定,实现样品在较低温度下快速干燥,同时供给一个无尘、无旋涡、平和的干燥环境,还使得溶剂的蒸汽易于采集,排放或再利用。空气循环系统采纳双电机水平循环送风方式,风循环平均高效。真空泵不能长时期工作。嘉兴加热功率比例可调真空烘箱调试调整
依据真空泵的性能,抽到压力表为真空泵的极限值为准;真空泵抽湿真空烘箱规格尺寸
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