实验室超纯水机耗材

    超纯水的定义实验室超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定，电子工业超纯水中规定含量为50～200微克/升,并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1～2个，微生物每1毫升为0～10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线**、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等，使超纯水的电阻率在25℃时达到18(兆欧·厘米)。常见问题水箱内部出现的“绿毛”是什么呢水箱中绿藻的生成，主要由以下两个因素造成1.有机物含量高，如存在二次供水的情况2.实验室环境，如纯水系统放置位置靠窗或者放置位置有阳光直射，适宜的温度更容易造成藻类的繁殖。解决办法1.将水箱放在遮光处，避免阳光照射，定时水箱空气过滤器。2.采用化学清洗法，效果明显。水质不达标1.耗材使用到期，离子交换至达到饱和。2.水质探头出现问题（超纯水需在线检测，一般电导率仪无法在制备出的水中检测）。解决方法1.定时更换水机耗材（安维迪水机耗材会提前预警耗材使用到期时间，填充量是某M品牌的）。2.检测并更换水质探头。综上所述实验室纯水机通过多级过滤、离子交换和反渗透处理等技术，结合精密滤芯和活性炭滤芯的预处理，以及可能的深度处理，终提供高纯度的水。纯水设备采用先进的预处理技术，提高水质稳定性。实验室超纯水机耗材

超纯水设备赋能光伏产业高效发展光伏产业崛起，超纯水设备成为晶硅电池生产“助推器”。硅片切割、清洗是电池制造关键，切割液调配与清洗用水纯度攸关硅片表面质量、电池转化效率。超纯水设备以高精度微滤去除细微颗粒，防其划伤硅片、造成晶格缺陷；借助反渗透、EDI技术脱盐至近乎零含量，水中离子会在硅片表面形成杂质堆积，降低光吸收与载流子迁移率。使用超纯水后，硅片表面洁净度跃升，电池片短路电流、开路电压优化，光伏发电效率提升，为清洁能源产业规模化、低成本化铺就坚实“水路”。反渗透纯水制作设备管路安装纯水设备适用于多种水质环境。

    聊胜于无。至于18M超纯水工艺中EDI膜堆前的185nmUV-TOC脱除器，主要是为了终端TOC指标的控制，配合抛光混床前的二级185nmUV-TOC脱除器，两者协同作用，是相当有必要添加的，当然氧化物质可能产生的副作用也是客观存在，不过是低风险的。无论是254nmUV**器还是185nmUV-TOC脱除器，当此类设备前置或与泵前后相连时，一定也特别注意水锤问题的保护，防止水锤对此类设备破坏情况发生，一般不要直连，稍微转个弯情况就会有所好转，其次相应的防水锤装置及程控（水泵延时启停等）配套上去即可。（二）关于EDI设备终端水箱要不要氮封设计首先需要明确一点的是氮封只是水箱隔绝空气的一种手段，其他还有膜包法、浮顶法之类，当然氮封的方式也有很多种，常见的还是通过氮气微压阀自动控制。其次是否需要氮封设计的关键是客户对终端水质的要求，假如客户对终端产水电阻率要求不是很高，或者是只是对离子含量有较低要求，在保持水箱处于活水且有一定密封性的情况下，不用氮封也问题不大。至于氮封装置增加的初期成本及后续带来用氮成本，也需要客户有一定认知，别好心办坏事。四、一级反渗透+EDI工艺一级反渗透+EDI工艺图（工业级）把一级RO+EDI工艺放在二级RO+EDI工艺后面讲。

    甚至，就你偶尔电镀个贵金属，18M的超纯水真的够了，你不知道18和？六、18M+超纯水工艺（电子级/半导体级）传统预处理+二级RO+EDI+一级脱气+三级TOC+二级抛光传统预处理+二级RO+EDI+强阴床+二级脱气+二级TOC+二级抛光传统预处理+二级RO+EDI+强阴床+二级脱气+三级TOC+二级抛光超滤预处理+二级RO+EDI+强阴床+二级脱气+二级TOC+二级抛光传统预处理+2B3T+RO+混床+二级脱气+二级TOC+一级抛光电子级/半导体级18M+超纯水工艺的几个要点：①水质指标不单纯以电阻率为指标，需同时满足溶解性气体（溶解氧为主）、颗粒物（终端超滤基本能保证）、电阻率（相对容易达到，一级不够就二级抛光）及TOC和特定离子含量的要求（TOC的脱除主要靠UV-TOC脱除器，当然前面工艺也要努力；硅、硼的守门员是强阴床或混床中的阴床或特定的除硼树脂等，特别是对硼而言，抛光混穿效果不行，跟pH相关；其他金属离子相对容易去除）。国标电子级水水质标准M国ASTM-D超纯水水质标准②关于EDI前面的UV-TOC脱除器，无论是放置在EDI增压泵的前后都需要防范水锤现象。③关于强阴床/除硼树脂，个人建议置于EDI膜堆后，EDI水箱前。有部分工艺置于EDI水箱后，TOC脱除器前，而后接一级抛光混床。纯水设备的设计考虑了用户的使用习惯和便利性。

    深层过滤是以编织纤维或压缩材料制成的基质，利用隋性吸附或是捕捉方式来留住颗粒，如常用的多介质过滤或砂滤；深层过滤是一种较为经济的方式，可去除98%以上的悬浮固体，同时保护下游的纯化单元不会被堵塞，因此通常做为预处理。表面过滤则是多层结构，当溶液通过滤膜时，较滤膜内部孔隙大的颗粒将被留下来，并主要堆积在滤膜表面上，如常用的PP纤维过滤。表面过滤可去除，所以也可作为预处理或澄清用。筛网滤膜基本上是具有一致性的结构，就象筛子一般，将大于孔径的颗粒，都留在表面上（这种滤膜的孔量度是非常精细的），如超纯水机终端使用的用点保安过滤器；筛网过滤微孔过滤一般被置于纯化系统中的终使用点，以去除后的残留微量树脂片、碳屑、胶体和微生物。part4离子交换纯水处理工艺离子交换法的原理是将水中的无机盐阴阳离子如钙离子Ca2+、镁离子Mg2+、**盐SO42-、硝酸盐NO3-等，通过与离子交换树脂交换，使水中的阴、阳离子与树脂中的阴阳离子相交换，从而使水得到纯化。part5反渗透（RO）纯水处理工艺它是以压力为推动力，利用反渗透膜只能透水而不能透过溶质的选择性，从含有各种无机物、有机物、微生物的水体中，提取纯水的物质分离过程。纯水设备采用进口滤芯，过滤效果佳。苏州工业超纯水器厂商

纯水设备的设计符合人体工程学原理。实验室超纯水机耗材

    主要的考虑是此类工艺真的越来越少见了。虽然在EDI的使用说明方面，我们一般讲进水电导率＜40μs/cm即可，但是在实际运行中一级RO产水电导率缓慢或意外变高，导致的EDI产水水质不如预期（一般合理预期为1-5MΩ*cm），甚至损坏的情况时有发生。上述情况跟我前文说过的一级RO+二级EDI工艺的逐渐消失，本质上是同一个原因---工艺设计太理想且高估了设备的日常运维水平。EDI进水水质要求五、18M超纯水工艺（工业级）18M超纯水工艺图（工业级）一级TOC脱除18M超纯水工艺图（工业级）二级TOC脱除工业级一般18M超纯水工艺的几个要点：①预处理阶段一般建议同时配置软水器和阻垢剂加*，及其他加*工艺以确定系统长期稳定的运行。②EDI纯水箱需要氮封或同等功能设计，且超纯水会同步设置循环管路及水质判定装置，以确定终端用水的长期稳定。③预处理阶段如选用盘滤+UF工艺，可替代机械过滤工艺；在部分以自来水作为水源的工艺设计中甚至有用盘滤+UF替代机械过滤，同时省略活性炭过滤及软化的工艺，个人持保留意见态度。④关于EDI+一级抛光系统是否能长期稳定达到18MΩ*cm的终端产水水质，及品牌之间存在的差距，请厂商及客户自行判断选择。同时奉劝各位客户，不要动不动就要求18M+。实验室超纯水机耗材