微泰，利用自主自主技术，飞秒激光螺旋钻孔系统和独有ELID（电解在线砂轮修正技术），飞秒激光抛光技术，生产各种超精密零部件。有三星电子，三星电机等诸多企业的业绩，四百四十毫米平面方板，平坦度可以做到5微米以下，表面粗糙度RA达0.01微米以下，可以钻5微米的孔，圆度可以达到95%以上，可以加工不同形状和尺寸的微孔，MAX可处理八十万个微孔，刀具方面，刀锋可以加工到0.2微米厚度，刀片对称度到达3微米以下，刀片边缘线性低于5微米以下。我们特别专注于生产需要高难度、高公叉、高几何公叉的产品，超精密零件，包括耗散零件、喷嘴、索引表和夹钳，以及用于 MLCC 和半导体领域的各种精密零件，真空板。 可以加工和制造各种材料，包括不锈钢、硬质合金、氧化锆和陶瓷，刀具，刀片，超高精密治具，镜头切割器和刀具C L切割器、TCB 拾取工具、折叠芯片模具、摄像头模组的拾取工具，治具。特别是超薄，超锋利的镜头切割器，光滑无毛边地切割塑料镜片的浇口，占韩国塑料镜头切割刀具90%以上的市场，精密要求极高的摄像机传感器与IC、PCB进行热压接合用治具，也占韩国90%以上市场。有问题请联系 上海安宇泰环保科技有限公司总代理激光超精密加工可分为四类应用，分别是精密切割、精密焊接、精密打孔和表面处理。纳米级超精密半导体流量阀
微泰利用激光制造和提供超精密产品。 凭借高效率、高质量的专有加工技术，我们专门用于加工 Φ0.2 度以下的超精密微孔，并采用了Φ0.005 mm 激光钻孔技术，使用飞秒激光器。 此外，我们还在不断地开发技术，以提供更小的微米级孔。激光加工不同于常规的 MCT 钻孔加工，在热处理后，孔的加工容易，因此即使在极强度/高硬度或热处理过的产品中，也能够获得恒定质量的孔，如 PCD、PCBN 和 Cerama。 我可以用多种材料制成，包括硬质合金、不锈钢、热处理钢和钼。营业于半导体真空卡盘、吸膜板、COF绑定TOOL，倒装芯片键合、MLCC叠层吸膜板，MLCC印刷吸膜板，吸附板。芯片超精密小孔不受加工数量的限制，对于小批量加工服务，激光超精密加工更加便宜。
现有物理打磨技术,接触式加工,磨损基石，需要切削油, 加工后需要清洗，异形件打磨和局部打磨有难度。纳秒激光打磨有以下问题：产生细微裂纹，熔化-再凝固产生热变形， 表面物性发生变化， 周围会产生多个颗粒。飞秒激光打磨：改善现有打磨技术的问题 -热影响极小，可以局部打磨，异形件打磨，不需要化学药剂 -细微裂纹极少化 表面物理特性变化少，在不改变物性值的情况下，提高表面粗糙度。 高功率激光打磨：测量高度→获取高度数据→转换成面数据→去除表面凸起 中等功率，利用中等功率激光可以刻画 低功率时具有，清洗效果；抛光效果（也有去除微孔边缘毛刺的效果） 抛光后，[A O I（自动光学检查）] 对孔不良进行检测（手动或自动） （光学相机扫描仪）材料的边缘测量和修正材料位置误差。非常适合异形件打磨、抛光。局部打磨抛光。
微泰利用先进的飞秒激光螺旋钻孔系统和独有ELID（电解在线砂轮修正技术），飞秒激光抛光技术，生产各种超精密零部件。用于半导体加工真空板 薄膜真空板 倒装芯片工艺真空块 M L C C贴合用真空板 薄膜芯片粘接工具，镜头模组组装治具。超精密刀片特性，材料：碳化钨、氧化锆等。刀刃对称性：低于3um，刀片厚度（t1）：100um刀片边缘粗糙度：Ra0.02um ，刀刃厚度（t2）：低于0.2um角度（0）精度：±0.3° 刀刃直线度：低于5um。MLCC刀具方面，生产MLCC垂直刀片，MLCC轮刀，MLCC修剪刀片，其特点是1，刀刃锋利。2，与现有产品相比，耐用性提高了50%。材料采用超细碳化钨，具有1，高耐磨性。2，耐碎裂。特别是超薄，超锋利的镜头切割器，光滑无毛边地切割塑料镜片的浇口，占韩国塑料镜头切割刀具90%以上的市场。激光超精密加工的切割面光滑：激光切割的切割面无毛刺。
微泰利用激光制造和供应精密切割产品。在 MLCC 印刷过程中，如果需要对精密面罩板或复杂形状的产品进行精确的切割，则通常的激光切割供应商会遇到难以处理的难题。 然而，微泰拥有激光加工技术，能够进行精密切割加工，并生产和提供高质量的激光切割产品，满足客户的需求。应用于MLCC掩模板 阵列遮罩板 ，测包机分度盘。各种MLCC设备精密零件。掩蔽夹具：在MLCC制造过程中进行溅射涂层；在凹槽宽度公差 (+0.01) 范围内进行加工、去毛刺同时需要平面度；微泰使用超精密激光设备，超高速加工MLCC掩模板 阵列遮罩板超精密加工常见的有CNC车床、研磨加工、放电及线切割加工等，由于大部分都由程式输入数据后加工。高效超精密半导体流量阀
超精密激光加工是先进的加工技术，它利用高效激光对材料进行雕刻和切割，主要的设备包括电脑和激光切割机。纳米级超精密半导体流量阀
微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS 材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在 3 微米以下；支持 6 英寸、 8 英寸和 12 英寸尺寸的晶圆加工；支持 2 层和 3 层的高级加工技术。 提供 4 层连接。尺寸： 6 英寸， 8 英寸.12 英寸。材料: AL6061, AL7075, SUS304, SUS316OFHC(Oxygen free High Conductivity Copper) 平面度公差：小于 3 um 连接: 2floor, 3floor, 4floor 表面处理: Anodizing, Electroless Nickel Plating,Gold Plating, Mirror Polishing。无氧铜 (OFHC) 半导体晶圆真空卡盘，无氧铜 (OFHC) 材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。 可加工 。 然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。纳米级超精密半导体流量阀
