高真空多层精密光学镀膜机BLL-900F型常规配置;真空系统真空泵:2X-70SV300E2M275增压泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低温泵扩散泵真空室加热系统:ZUI高温度:0到400℃型号:不锈钢管装加热器(选择:红外线灯管)基片架盘型号:球面型(选择:平面型,公自转,多行星型,可调角度行星盘)转速:0到30转数/分软启,软停,可调速电器控制系统:PC和PLC控制VAC系统:进口复合真空计MFC系统:进口质量流量控制器;进口电磁阀:APC系统镀膜沉积控制系统:晶控美国产IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶体感应器:1,2,6头光控控制:国产光控(或进口光控)离子源:霍儿源(或考夫曼,RF源)电子束源-容量:10KW180°或270°电子枪深冷系统真空室麦斯纳阱扩散泵冷阱全程自动控制镀膜以达到产品ZUI终所需要求。 磁控溅射真空镀膜机可以制备出高质量、高精度的薄膜材料。全国光学真空镀膜机规格
我们是一家专业从事光学真空镀膜机生产工艺研发的企业,拥有多年的经验和技术积累。我们的光学真空镀膜机采用先进的技术,能够在短时间内完成大量的生产任务,提高生产效率。同时,我们的控制系统精密,能够精确地控制薄膜的厚度和均匀性,重复性,保证产品的质量。我们的光学真空镀膜机可以镀制多种材料,包括金属、陶瓷、玻璃等,可以满足客户不同的需求。此外,我们的产品符合环保要求,不会产生有害气体和废水,同时也能节约能源。我们的客户包括光学、电子、航空、等领域的企业,他们对我们的产品和服务都给予了高度评价。如果您需要光学真空镀膜机生产工艺方面的产品和服务,欢迎联系我们,我们将竭诚为您服务。同时,我们也欢迎各位客户提出宝贵的意见和建议,帮助我们不断改进和提高产品和服务的质量。 山东光学真空镀膜机真空镀膜机可以提高产品的附加值和市场竞争力。
BLL-1680RS溅射镀膜机工艺操作(摘选)
①工艺自动前提条件,设备必须在自动,自抽模式下,手动模式下不会自动执行工艺。②工艺自动情况下,在满足真空度,抽真空时间,镀膜温度后,自动执行所选择的工艺,进行辉光清洗→弧光清洗→沉积,所有沉积层计时完成后,工艺完成。③工艺自动执行过程中,可以通过点击相应过程按钮终止当前流程,例:此时工艺流程辉光清洗已经完成,进行到弧光清洗中,则单击弧光清洗按钮可以停止当前流程。④工艺自动执行到沉积层任意一层时,如遇问题,点击暂停按钮可停止当前层沉积,排除问题后,点击继续按钮即可继续沉积(继续时需保证所执行的工艺没有改变,以及弧光清洗已经完成)。⑤手动沉积:工艺设置手动,在箭头9处选择开始层,然后点击沉积按钮,则执行该层沉积。若该层手动开始后,改“工艺手动”为“工艺自动”,那么会按工艺自动执行完该层后面的所有沉积层。
多弧离子真空镀膜机BLL-1350PVD型常规配置;
真空系统真空泵:2X-70SV300E2M275增压泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低温泵扩散泵真空室加热系统:最高温度:0到200℃型号:不锈钢管装加热器基片架盘型号:12轴公转或公自转,转速:0到30转数/分软启,软停,可调速电器控制系统:PC和PLC控制VAC系统:进口复合真空计MFC系统:进口质量流量控制器;进口电磁阀APC系统偏压电源:直流脉冲电源溅射电源:直流脉冲电源电源;中频电源弧源:多弧,平面,孪生,柱靶深冷系统:DW-3全程自动控制镀膜,保障生产产品的一致性,重复性,稳定性。 光学真空镀膜机的镀膜层具有高透过率、低反射率、高耐磨性等特点。
高真空多层精密光学镀膜机BLL-800F型常规配置;真空系统真空泵:2X-70SV300E2M275增压泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低温泵扩散泵真空室加热系统ZUI高温度:0到400℃型号:不锈钢管装加热器(选择:红外线灯管)基片架盘型号:球面型(选择:平面型,公自转,多行星型,可调角度行星盘)转速:0到30转数/分软启,软停,可调速电器控制系统:PC和PLC控制VAC系统:进口复合真空计MFC系统:进口质量流量控制器;进口电磁阀APC系统镀膜沉积控制系统:晶控美国产IC-6,XTC-3S/M,INFICON310。石英晶体感应器:1,2,6头光控控制国产光控(或进口光控)离子源:霍儿源(或考夫曼,RF源)电子束源:10KW180°或270°电子枪深冷系统:真空室麦斯纳阱扩散泵冷阱全程自动控制镀膜以达到产品ZUI终所需要求。 真空镀膜机广泛应用于电子、光学、化工等领域。河南热蒸发真空镀膜机批发价格
真空镀膜机可以实现多种镀膜工艺,如热蒸发、磁控溅射等。全国光学真空镀膜机规格
BLL-1500F灯管真空镀膜机
1.工艺文件选择框;2.为厂家的每一炉产品识别号(如没有则不用输入),使用可方便日后查找镀膜过程记录文件;3.读取当前选择工艺文件按钮;4.点击可打开当前所选择的Excel文件;5.晶控复位按钮,可以恢复晶控里一些生产厂家预设;6.用于镀膜过程中出现突发状况的暂停,点击之后可对设备做任何操作(如放气,开门,断电,重启),完成之后只需继续按钮,就可以继续执行暂停时执行的膜层未完成的膜厚;7.镀膜手自动开始选择按钮,选择自动时,则当真空点1E-3Pa为绿、镀膜温度、满足时自动开始执行当前所选择工艺文件;8工艺开始时蜂鸣器响2下提示音。11处可以打开深冷控制画面1.深冷温控表,温度设置和显示窗口(PV为实际值,SV为设定值,上限为最高温度,下限为最低温度);2.深冷预冷时间为固定25分钟,每次开机(无论手动自动都需要预冷),预冷时“预冷中”闪烁,预冷完成后常绿。3.制冷需满足RP开启、“1E+3Pa”条件4.真空室放气(充大气)前深冷必须先除霜,除霜时间3分钟(自动控制时会自动执行除霜)10/13二.正常抽真空流程确认压缩空气,冷却水正常后可以开始抽真空;①手动方式:冷机状态→开机械泵RP→开前级阀HV→开分子泵FP。 全国光学真空镀膜机规格
真空蒸镀机原理与特点:真空蒸镀机通过加热蒸发源(如金属或合金),使其在真空环境下气化并沉积到基材表面。该技术工艺简单、沉积速率快、膜层纯度较高,但附着力较弱,绕镀性差。优势:适用于光学镜片反射膜、包装材料阻隔膜、OLED显示电极镀层等。成本较低,尤其适用于低熔点材料的镀膜。技术分支:电阻加热蒸镀:成本低,适用于铝、银等低熔点材料。电子束蒸镀(E-beam):利用电子束轰击高熔点靶材,蒸发温度可达3000℃以上。购买磁控溅射真空镀膜机就请选择宝来利真空机电有限公司。安徽磁控溅射真空镀膜机 蒸发镀膜机: 电阻加热蒸发镀膜机:通过电阻加热使靶材蒸发,适用于低熔点材料(如铝、银)。 电子...