激光干涉仪用于测量微小位移，精度可达纳米级别。温度波动哪怕只有 1℃，由于仪器主体与测量目标所处环境温度不一致，二者热胀冷缩程度不同，会造成测量基线的微妙变化，导致测量位移结果出现偏差，在高精度机械加工零件的尺寸检测中，这种偏差可能使零件被误判为不合格品，增加生产成本。高湿度环境下，水汽会干扰激光的传播路径，使激光发生散射，降低干涉条纹的对比度，影响测量人员对条纹移动的精确判断，进而无法准确获取位移数据，给精密制造、航空航天等领域的科研与生产带来极大困扰。主要由设备主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统、局部气浴等组成。山东0.1℃温湿度
电子显微镜用于观察微观世界，其内部的电子束对环境要求极高。环境中的尘埃颗粒可能吸附在电子束路径上的部件表面，影响成像质量。精密环控柜的超高水准洁净度控制，将空气中尘埃过滤干净，为电子显微镜提供超洁净空间。同时，其具备的抗微震功能，能有效隔绝外界震动干扰，确保电子显微镜稳定成像，让科研人员清晰观察微观结构。对于光学显微镜，温度和湿度变化会影响镜片的光学性能。湿度不稳定可能导致镜片表面产生水汽凝结，降低光线透过率。精密环控柜通过温湿度控制，为光学显微镜提供稳定环境，保证其光学性能稳定，成像清晰。内蒙古离子束刻蚀机温湿度根据高精密行业用户的反馈，对产品进行持续优化，不断提升设备的适用性和稳定性。
光刻设备对温湿度的要求也极高，光源发出的光线需经过一系列复杂的光学系统聚焦到硅片表面特定区域，以实现对光刻胶的曝光，将设计好的电路图案印制上去。当环境温度出现极其微小的波动，哪怕只是零点几摄氏度的变化，光刻机内部的精密光学元件就会因热胀冷缩特性而产生细微的尺寸改变。这些光学元件包括镜片、反射镜等，它们的微小位移或形状变化，会使得光路发生偏差。原本校准、聚焦于硅片特定坐标的光线，就可能因为光路的改变而偏离预定的曝光位置，出现曝光位置的漂移。
在电池制造流程里，电解液的注入环节堪称重中之重，其对温湿度的要求近乎严苛。哪怕是极其细微的温度波动，都可能引发电解液的密度与黏度发生改变。这看似不起眼的变化，却会直接干扰注液量的控制。一旦注液量出现偏差，电池内部的电化学反应便无法在正常状态下进行，导致电池容量大打折扣，使用寿命也大幅缩短。而当湿度攀升过高，空气中游离的水分便会趁机混入电解液之中。这些水分会与电解液的成分发生化学反应，生成一系列有害杂质。这些杂质会无情地腐蚀电池内部结构，严重破坏电池的稳定性与安全性，给电池的使用埋下诸多隐患。自面世以来，已为相关领域客户提供了稳定的实验室环境以及监测服务，获得了众多好评。
在蓬勃发展的光纤通信领域，温湿度的波动所带来的影响不容小觑。温度一旦发生变化，光纤的材料特性便会随之改变，热胀冷缩效应会使光纤的长度、折射率等关键参数产生波动。尤其在长距离的光纤传输线路中，这些看似微乎其微的变化随着传输距离的增加不断累积，可能造成光信号的传输时延不稳定，进而引发数据传输错误、丢包等严重问题。这对于依赖高速、稳定数据传输的业务，像高清视频流畅播放、大型云服务数据的高效交互等，都将产生极大的阻碍。而当湿度出现波动时，空气中的水汽极易附着在光纤表面，大幅增加光的散射损耗，致使光信号的传输效率降低，同样严重影响通信质量 。精密环境控制设备内部温度规格设定为 22.0 °C 且可灵活调节，以满足不同控温需求。江苏电子芯片温湿度
半导体芯片制造环节，凭借其超高洁净度及极为微小的温湿度波动，有效减少芯片瑕疵，提升产品良品率。山东0.1℃温湿度
激光干涉仪以其纳米级别的测量精度，在半导体制造、精密机械加工等领域发挥着关键作用。然而，它对环境变化极为敏感，温度、湿度的微小波动以及空气洁净度的差异，都可能干扰激光的传播路径与干涉效果，致使测量结果出现偏差。精密环控柜的超高精度温度控制，能将温度波动控制在极小区间，如关键区域 ±2mK（静态），同时确保湿度稳定性可达 ±0.5%@8h，并且实现百级以上洁净度控制，为激光干涉仪提供稳定、洁净的测量环境，保障其测量精度不受外界因素干扰。光谱分析仪用于分析物质的光谱特性，广泛应用于半导体材料检测、化学分析等领域。在工作时，外界环境的不稳定可能导致仪器内部光学元件的性能变化，影响光谱的采集与分析精度。精密环控柜通过调控温湿度，避免因温度变化使光学元件热胀冷缩产生变形，以及因湿度异常造成的镜片霉变、光路散射等问题。其稳定的环境控制能力，保证光谱分析仪能够准确、可靠地分析物质光谱，为科研与生产提供数据支持。山东0.1℃温湿度
